透明导电膜的制备方法,是在玻璃元件的表面形成所需的透明导电膜,该透明导电膜的制备方法主要包括:制备碳纳米管浆料;将制备的碳纳米管浆料在玻璃元件的表面形成一个碳纳米管浆料层;将碳纳米管浆料层烘干;以及将形成有碳纳米管浆料层的玻璃元件在氮气或惰性气体的保护下加热至300～500℃并保温一定的时间,再降至室温,从而在玻璃元件的表面形成碳纳米管透明导电膜。
铟锡氧化物透明导电膜的生产工艺：本发明涉及优质铟锡氧化物透明导电膜的制备及大规模工业性生产工艺。该生产工艺技术参数采用的组合方式，能在低温基片上快速直接莸得ＩＴＯ透明导电膜；采用曲线控制蒸发过程使工艺和性能的重现性达到或接近１００％；采用多舟并联择优分布法以莸得大面积均匀的优质ＩＴＯ膜。
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