场致发射纳米材料

可用于平面显示的场致发射纳米材料：具体为Ag和TCNQ按1∶1 化学计量比生成的Ag(TCNQ)纳米线。该材料可采用真空条件下的饱和蒸气反应法制备获得，生成的Ag(TCNQ)纳米线(晶須)基本上垂直于基板。为了降低场发射阈值，可在晶須上用常规真空镀膜法，再覆盖一层纳米厚度的金属或氟化锂薄层。 

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