金属表面抛光溶液及抛光工艺：属于电化学领域，用于金属表面抛光处理。其特点是采用各为（０．２～２０）的硫酸铵和硫酸钠，其余为水的电解液，处理工况为：电解质温度为５０～９９℃，处理时间为２～１０ｍｉｎ，金属表面粗糙度Ｒａ≤０．６８μｍ，反射系数ρ≥１２％，可对各种不锈钢工件表面进行抛光处理。该溶液及工艺可明显提高表面处理质量，扩大工艺处理范围，成本低，特别适用于小件、复杂件表面处理。
金属抛光液和抛光方法:一种金属抛光液,其在半导体器件的制造过程中用于铜或铜合金的导体膜的化学机械抛光,所述金属抛光液包含:(1)由式(I)表示的氨基酸衍生物;和(2)表面活性剂,其中在所述式(I)中,R1表示含1至4个碳原子的烷基,并且R2表示含1至4个碳原子的亚烷基。
金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法,该金属抛光液在半导体器件生产过程中用于由铜或铜合金制成的导体膜的化学机械抛光,其中所述金属抛光液包含下列组分(1)、(2)和(3):(1)由下式(I)表示的氨基酸衍生物,其中,在式(I)中,R1表示含有1至4个碳原子的烷基;(2)在其表面上的硅原子至少部分被铝原子改性的胶体二氧化硅;和(3)氧化剂。
用于黑色金属零件表面抛光的抛光液：其组成是在水中加入少量的草酸铵、硫酸、磷酸、丙三醇、硫酸铝、过硫酸铵和十二烷基硫酸钠。适于在离心式抛光机中采用本抛光液对零件进行抛光，抛光速度快，并能防止零件撞击而留下的撞击痕迹。
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