氧化铟薄膜材料制备方法：材料包括衬底，特别是衬底上覆有单层或多层氧化铟球形孔构成的薄膜，氧化铟球形孔的直径为100～5000nm，薄膜的厚度为50nm～100μm；方法包括用旋涂法或垂直提拉法将胶体球附于衬底表面而形成模板，特别是先将氢氧化铟溶胶渗入衬底上的胶体球间，再将渗有氢氧化铟溶胶的模板于50～110℃下加热，然后将浸在二氯甲烷中的模板置于超声波中1～3分钟，最后，将模板置于370～500℃下退火，制得氧化铟薄膜材料。它制得的氧化铟薄膜材料是由呈六方紧密排列的、单层或多层的、孔间相互连通的、孔骨架致密的、孔径和厚度均为纳米或微米级的有序球形孔构成，制备的工艺简单、成本低，无污染，适于工业化生产。
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