原位生成超细晶二硅化钼涂层的方法：属于原位生成超细晶二硅化钼涂层技术领域。采用冲击大电流直接加热钼箔包裹硅粉末的粉芯箔，利用电热及电爆炸产生的瞬态超高温原位生成二硅化钼，并使二硅化钼熔滴以3000-5000m/s的超高速从喷枪出口喷射至基体表面，形成具有冶金结合的二硅化钼涂层，涂层的晶粒尺寸在 100-1000nm范围。解决了热喷涂法原位生成超细晶二硅化钼涂层的技术难点，使涂层与基体达到冶金结合；并具有成本低、制备工艺较简单。
以上全套技术资料优惠价280元：包括所有项目的配方、工艺流程、施工规范等。
