玻化抛光地板砖清洗剂：该清洗剂包括：阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、强碱、脂肪酸、磷酸三钠、碳酸钠、石英粉、滑石粉、香精，余量为水。这种清洗剂不损害砖面亮度、不易燃、能快速彻底清除渗入到玻化抛光地板砖内部微细孔的各种污渍。
地板砖去污更新剂,其组成包括钙镁粉、轻质碳酸钙、碳酸钠、乙二酸、表面活性剂、杀菌剂、群青、香精;其中生产方法为:按配比优选上述各组分,首先将钙镁粉粉碎过筛80目,然后与群青混合于搅拌器中搅拌15分钟,用刮板测试无色条痕迹后将其余各种附料加入到搅拌器中,继续搅拌20—30分钟即可。本发明所提供的地板砖去污更新剂在清除任何陈旧品油、污、锈、垢方面有其他清洗剂,如洗衣粉、去污粉、五洁粉、洗涤灵及有腐蚀性的溶剂不可替代的神奇功效。而且成本低廉,效果可以是上述诸产品的某些功能的数倍。
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