纳米自洁涂层,实施步骤如下:1)清洁待处理产品的表面:如除油、除锈、除污渍,再用清水清洗干净;可用洗涤灵清洗油污,清洗后一定要用清水清洗干净。2)烘烤:把清洁后的产品放置在80-90℃的烘箱里烘烤20-30分钟,除去清洗时留下的水分;不适于在烘箱中烘烤的产品,可用电吹风机进行干燥。3)配制试剂:量取1000克互穿网络聚合物涂料,加入10克纳米锐钛二氧化钛,8克纳米氧化硅,5克纳米氧化锌,再搅拌均匀备用。4)喷涂:在喷涂前取18份配制好的上述试剂,再取1份IPN的固化剂混合在一起,摇匀,再用喷枪均匀地喷涂在产品表面,喷涂的表面完全覆盖即可,不可太多,否则会挂滴,太少会覆盖不完全。5)静置:在洁净的环境中放置24小时。按以上操作可在产品表面形成一层纳米自洁涂层,此涂层具有自洁、抑菌的效果。
光催化活化自洁制品及其制备方法：通过喷涂热解、化学汽相沉积或磁控溅射真空沉积法在基体上形成光催化活化自洁涂层而提供了具有光催化活化自洁表面的基体。涂层的厚度至少约为500埃,以限制向着基体的部分涂层发生钠离子中毒。另外在沉积光催化活化自洁涂层之前,可以在基体表面上沉积一层钠离子扩散阻挡层,以防止光催化活化自洁涂层发生钠离子中毒。该基体包括玻璃基体,例如玻璃板和连续浮法玻璃带。
光催化自洁涂层组合物：该组合物选自TiO2、Fe2O3、W2O3、Al2O3、SiO2、V2O5、ZnO、SnO2、SrTiO3、BiTiO3、Bi2O3、CeO2中的一种或几种；利用该组合物通过化学汽相沉积法或喷涂热解方法，使基体表面温度至少为400℃-700℃，通入N2保护气，涂层原料加热到至少100℃，玻璃带移动速度为100m/h-500m/h，自洁涂层至少为20纳米/秒的沉积速度，涂层厚度至少100nm的自洁涂层，并在涂层中添加CeO2粒子，提高了光催化自洁涂层的活性。
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