抛光砖专用化学抛光剂：该抛光剂是由如下组份构成：不同纳米级液体硅砂，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上表面活性剂组合，一种或一种以上的有机溶机混合物，去离子水，其中，非离子表面活性剂可采用聚氧乙烯烷醚、聚氧乙烯多元醇醚；阴离子表面活性剂可采用十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠；氟碳表面活性剂采用全氟辛酸铵、全氟癸酸铵；机溶机混合物采用如甲醇、乙醇、丁酮；采用上述组份的抛光剂具有效提高抛光砖光泽，且耐久、保光性好的优点。
防滑抛光砖：其特征在于，铵NH4，氢氟酸HF 水，五氧化二磷P2O5，乳化剂TX，将上述组份混合搅拌，并在抛光砖的面料中加入上述混合组份或抛光砖面层釉料中随抛光砖加工烧制即可；采用上述组份的抛光砖具有防滑效果好、不易磨损的优点。
用于大理石抛光的快速抛光剂：该抛光剂是用水;氧化铬粉(或氧化铝粉)和强酸配制成的混合液,其配比按重量配比。该抛光剂配方简单,使用方便,反应速度快,用该抛光剂抛光大理石,可节省工时四分之三;省去地板腊上光一道工序,而光泽度可达95-115度,具有效率高,成本低,经济效益好等优点。
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