微细光刻技术：为制造大规模集成电路、微波半导体器件、激光器、精密传感器等提供了一种新的紫外光衍射缩小曝光方法.本法不需要采用复杂的光学透镜系统,而且使图形的分辨率可达到光学投影曝光的水平,此种曝光技术具有等量缩小的特点,可按需要进行1～5倍的缩小曝光.可以加工3～0.7微米的精细图形。
低成本光刻技术：基于两种方案：1.使用低精度的nF开口掩模版(开口大小～nF，n＞1)形成高精度的开口类图形(开口大小～1F)；2.通过使用运算型光刻系统和/或光刻编程系统来提高掩模版的再使用率。它可以用来实现光刻编程集成电路等。低成本光刻技术中的图形分布还能应用到高精度掩模版中，实现高阶修正掩模版(即对掩模版图形进行高阶修正)和掩模版的冗余修复(即通过冗余掩模图形来修复有缺陷的掩模版)。
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