用于计算机磁头精抛光的超精研磨剂制备工艺：其组份与重量百分比为纳米级金刚石粉∶非离子型悬浮分散剂∶防霉杀菌剂∶轻质矿物油，其制备工艺为1)将金刚石机械研磨成均匀粉体，颗粒直径分布5－6nm；2)纳米金刚石粉料烘干；3)将非离子型悬浮剂加入纯纳米金刚石粉料中，加热混合反应后加入轻质矿物油，搅拌分散，加pH值调节剂；4)加入防霉杀菌剂/抗氧剂。使用本发明产品进行计算机磁头抛光，其磁头表面无划痕和颗粒，粗糙度为0.4 －4埃。
化学机械抛光用研磨剂:一种用于抛光具有第一硬度的第一材料的浆料,其中该第一材料覆盖着一种具有第二硬度的第二材料并且第二硬度大于第一硬度,包括一种其硬度大于第一材料但小于第二材料的研磨剂。在本发明的一个具体实施方案中,以一种有硬度大于铜但小于铜扩散保护层的研磨剂的浆料对覆盖着铜保护层的铜进行抛光。氧化铁、钛酸锶、磷灰石、铁、黄铜、氟石、水合氧化铁和石青便是这些材料的例子,均它们比铜硬,但却比集成电路中一般用作铜保护层的材料要软。
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