陶瓷真空镀膜工艺方法，它属于真空镀膜技术领域，它包括如下工艺步骤：Ａ：将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机的真空室挂件内，在电流４０～４８安倍，电压４５０～４９０伏安时产生正离子磁性体沉积粒子；Ｂ：加热真空室，使得真空室的温度达到２００～３５０℃之间，抽出真空室内气体达到真空度３×１０↑［－２］Ｐａ～５×１０↑［－３］Ｐａ时，放入气压在１Ｍｐａ～１．２ＭＰａ的氩气气体或氮气气体４５０ｍｌ～９８０ｍｌ；Ｃ：开启多弧钛靶在直流电流７０～９５安倍，直流电压４５０～４９０伏安时产生离子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内与氩气气体或氮气气体相反应而产生仿黄金或仿银色色彩，沉积在器件表面。本发明工艺简单，环保无毒，适合加工日用陶瓷或玻璃产品。
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