在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法：它包括下列步骤：(a) 圆管基材的清洁和干燥处理；(b)根据光催化剂薄膜结构的需要在圆管基材上制备或不制备SiO#-[2]底层薄膜法；(c)采用溶胶凝胶法按规定配方配制浓度为0.2-2.5摩尔/升的光催化剂溶液； (d)以轴向运动速度1-5mm·s#+[-1]、径向旋动速度100-400转·min#+[-1]将圆管基材在浓度为0.2-2.5 摩尔/升光催化剂溶胶中旋转浸渍提拉制膜，湿膜在70-50℃干燥10-20min冷却，重复上述操作至达到要求厚度为止，然后在300-600℃烘烤0.5-3小时。所制得的二氧化钛光催化剂薄膜，成膜光亮而均匀。
基体上金属离子非均匀掺杂二氧化钛光催化剂薄膜及其制备方法，薄膜包括阻隔层ＳｉＯ↓［２］薄膜层，其特征是还包括至少一层ＴｉＯ↓［２］光催化剂薄膜层和至少一层金属离子掺杂ＴｉＯ↓［２］薄膜层，ＴｉＯ↓［２］光催化剂薄膜层和金属离子掺杂ＴｉＯ↓［２］薄膜层相间，先后均可，整体上形成了金属离子非均匀掺杂，金属离子掺杂ＴｉＯ↓［２］薄膜层中的金属离子与Ｔｉ的原子百分比为０．０１－５％。制备方法包括下列用溶胶－凝胶法在基体上制备阻隔层ＳｉＯ↓［２］薄膜１－５次；制备ＴｉＯ↓［２］光催化剂薄膜２－２０次；制备金属离子掺杂ＴｉＯ↓［２］薄膜２－２０次；其中（ｂ）和（ｃ）步骤的顺序和次数根据薄膜结构确定。金属离子非均匀掺杂后光催化活性大大提高。
以上全套技术资料优惠价280元：包括所有项目的配方、工艺流程、施工规范等。
