纳米磷化物半导体材料的水热合成制备方法：特征是将IIIA族金属氧化物溶入氢氧化钠或氢氧化钾的水溶液中，加入单质白磷，再加入单质碘，然后在密封的高压釜中，于120-200℃温度反应，最后进行产物的洗涤和干燥。本方法避免了现有方法使用有机溶剂和金属有机化合物等危险试剂的缺点，原料易得，操作简便，条件温和，产率高，适合于批量生产。
磷化物纳米线的水热合成制备方法：涉及金属磷化物发光材料的制备方法，该方法为：向高压釜中按照摩尔比加入金属氧化物和氢氧化钠，其中金属氧化物为磷化镓或磷化铟，再加入水使氢氧化钠的浓度达到标准；至固体完全溶解后，加入金属氧化物摩尔比的十六烷基三甲基溴化铵 (C#-[16]H#-[33](CH#-[3])#-[3]NBr)，再加入与水体积比的正己醇和庚烷；搅拌均匀后，加入金属氧化物摩尔比的白磷、摩尔比的单质碘(I2)，在密闭条件下使反应在160-200℃下进行，过滤即得到粗产物；将粗产物用苯、乙醇、1-5mol/L稀盐酸、水依次进行常规洗涤、干燥，即得到产物，其中各比例和倍数的误差均为10％。
以上全套技术资料优惠价280元：包括所有项目的配方、工艺流程、施工规范等。