氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法

用于溅射镀膜的氧化铟／氧化锡（ＩＴＯ）靶材制造方法：其特征在于：原料粉末中氧化铟和氧化锡，平均粒径３０～２００nm，纯度９９．９９％；冷等静压力为２００～２８０ＭＰa，保压时间１０分钟；热等静压温度为１１００～１３００℃，保温时间０．５～６小时，气氛压力为１００～１２０ＭＰa；采用专门设计的包套和容器；制造出高密度、高纯度、大尺寸的ＩＴＯ靶材。该方法生产效率高、成本低。 

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