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半导体晶片及电气机械设备清洗剂

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电气机械设备清洗剂的制备方法:其特征在于:用吸附剂将三氯乙烯中的微量水份进行吸附后,所得到的三氯乙烯即为具有高耐击穿电压值的清洗剂。优点是:1.操作简单。对于平面电气设备,要用专用喷壶清洗,不用完全拆卸电器设备;对于电机,用喷枪进行清洗,也不用拆卸电气设备。对于小型电机和机械部件,可以用浸泡的方法,刷洗即可。2.本清洗剂经过检测不导电,使用安全。3.适用范围广。广泛适用于各行业的电机、电机柜的维护,尤其适用于冶金、电力、石化、机械等行业。


应用于金属内连线制程的清洗方法、制造方法及其清洗液:该应用于金属内连线制程的清洗方法,是首先提供一基底,其中基底上已形成有一导电层且导电层上已形成有一介电层。随后,在介电层中形成一开口,暴露出导电层。之后,再以硫酸与过氧化氢的一混合液清洗开口。由于以硫酸与过氧化氢的混合液清洗开口可以有效的清除残留于开口内的残留物,因此后续在开口内所形成接触窗,其电阻值可以明显获得改善,从而更加适于实用,且具有产业上的利用价值。


半导体晶片的清洗液及清洗方法:该清洗液由清洗母液溶于去离子水组成,其中清洗母液包括:聚丙烯酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸,该方法适用于半导体晶片的铜布线制程中CMP平面化步骤之后,马上将晶片浸泡于清洗液中;由于在铜CMP步骤后紧接着就增加了一个晶片表面处理步骤,先对晶片表面的CuO进行较为彻底的去除,使得铜CMP步骤及其后的阻挡层沉积步骤之间的等待时间可无限制延长,因此给生产带来了极大便利,同时还对于防止Vbd降低创造了有利条件,进而使MOS器件栅极氧化层可靠性得到改善,提高了成品率。


全自动生化分析仪清洗剂:涉及精密仪器用清洗剂,它是由聚乙二醇辛基苯基醚(triton X-100)、无水乙醇、苯扎溴胺、高效有机硅消泡剂和氢氧化钠按一定比例配制而成。能完全替代进口清洗剂,满足临床需要,降低检测成本,具有清洗效果好,消泡、抑菌能力强的优点,并其可用于任何品牌的全自动生化分析仪。


电器设备电路带电清洗剂:涉及电子设备带电用清洗剂的配制技术。所述清洗剂的原料为:二氯五氟丙烷,二甲基硅油。生产方法为,将所述原料装入密闭容器,在温度为20~30℃,常压下反应1小时即可。本电器设备电路带电清洗剂,使用安全,带电清洗时绝缘值高,并在清洗后会对电器设备形成一层半永久性的保护膜,具有防水、防霉,提高绝缘值的功效。 

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