蓝宝石衬底材料表面高精密加工过程中化学机械抛光 (CMP)抛光液制备方法：抛光液成分组成为：硅溶胶、碱性调节剂、醚醇类活性剂、螯合剂、去离子水。该抛光液的配制方法：硅溶胶用不同倍数的去离子水稀释用碱性调节剂调整pH值，然后边搅拌边加入醚醇类活性剂。在相应的抛光工艺条件下进行抛光，可实现蓝宝石衬底材料表面的高精密加工，并能满足工业上对蓝宝石衬底片CMP精密加工的要求。具有成本低、低粗糙、高速率、不污染环境及腐蚀设备的优点。
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