硅单晶衬底材料抛光液制备方法：其特征是所述抛光液配制成分组成如下：磨料；FA/O pH调节剂；醚醇类活性剂；去离子水。按上述成分配比分别制成粗抛液和精抛液。该抛光液选用具有在CMP条件下能生成大分子溶于水的硅酸盐且能将抛光液中微量金属离子生成极稳定的络合物的新胺碱，同时起到pH值调节剂、二氧化硅水溶胶稳定剂、缓冲剂、络合剂的作用，调节pH值为9-13.5。采用小粒径、高活性、低表面张力的抛光液，可实现硅单晶衬底材料表面抛光低粗糙、低损伤、无非均化腐蚀坑、高速率、高洁净以及不污染环境、不腐蚀设备。
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