化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液

化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液：这种抛光液是一种水溶胶，其pH值为2～4。抛光液的组成成分含有磨料、反应剂和去离子水。抛光液的磨料粒径为10～100nm，选自 SiO2、ZrO等。抛光液中反应剂选自磷酸或磷酸盐。抛光去除率高，表面无划痕和腐蚀坑等缺陷，抛光样品表面质量好；抛光液的配制简便，成本低；抛光废液处理方便，对环境无污染。 

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