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1. 光刻标记结构、包含该光刻标记结构的光刻投射装置和利用该光刻标记结构进行基片对准的方法
2. 在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光刻装置以及器件制造方法
3. 光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法
4. 光学近场显微光刻方法及所用的显微光刻装置
5. 光刻方法和用于实现此方法的光刻系统
6. 用于深紫外线光刻的层状结构以及形成光刻层状结构的方法
7. 带电粒子束光刻装置以及带电粒子束的光刻方法
8. 利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法
9. 合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法
10. 用一次光刻产生T形栅的移相掩模光刻方法
11. 恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置
12. 用于在对象上进行光刻或数字光刻的方法和系统
13. 光刻投射装置组件表面的清洗方法、光刻投射装置、器件制造方法和清洗系统
14. X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法
15. 制造用于纳米压印光刻的亚光刻尺寸线和间隔图案的方法
16. 光刻评价方法和光刻工艺
17. 光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法
18. 光刻设备的传感器以及获得光刻设备的测量的方法
19. 用于浸没式光刻的液体组合物及光刻法
20. 光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法
21. 采用选通快门和梯形棱镜的成像干涉光刻方法及其光刻系统
22. 用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法及光刻系统
23. 一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统
24. 转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统
25. 采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统
26. 纳米光刻术和微光刻术用物质组合物
27. 光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件
28. 光刻装置及光刻装置的制造方法
29. 光刻装置及用于校准该光刻装置的方法
30. 光刻投射装置及使用这种光刻投射装置的器件制造方法
31. 合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法
32. 光盘刻录器的转速控制装置及光盘刻录控制方法
33. 主动式掩模版工具、光刻设备和在光刻工具中对器件图案化的方法
34. 被动式掩模版工具、光刻设备以及在光刻工具中对器件图案化的方法
35. 光刻检测图形及光刻版版图
36. 光刻制程及通过该光刻制程形成的晶片
37. 使用偏振光的微光刻曝光装置及具有凹面主镜和凹面辅镜的微光刻投射系统
38. 晶圆光刻掩模和其制造方法与其晶圆光刻方法
39. 包括放电发生器的光刻装置和用于清洁光刻装置的元件的方法
40. 浸润式光刻装置、光刻装置及其洁净方法
41. 半导体晶片激光刻蚀开沟方法
42. 激光刻印方法和组合物以及上面有激光刻印的制品
43. 进行湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置
44. 光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法
45. 降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法
46. 一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法
47. 检查方法和设备、光刻设备和光刻处理单元
48. 光刻器件制造方法、光刻单元和计算机程序产品
49. 压印光刻用模板和应用该模板的压印光刻方法
50. 光刻设备、光刻设备和处理模块的组合及器件制造方法
51. 形成光刻和亚光刻尺寸结构的方法
52. 光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法
53. 一种光刻装置和用于光刻装置的对准系统及对准方法
54. 光刻设备和光刻设备清洗方法
55. 浸润光刻系统、图案化半导体集成电路的浸润光刻方法
56. 探针诱导表面等离子体共振光刻装置及其光刻方法
57. 涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备
58. 光刻设备和清洁光刻设备的方法
59. 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
60. 光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法
61. 浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法
62. 清洗装置、光刻设备和光刻设备清洗方法
63. 用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备
64. 用于光刻设备的照射器和光刻方法
65. 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
66. 用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置
67. 一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置
68. 扫描式投影光刻机物镜
69. 稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备
70. 微细光刻技术
71. 仪表发光刻度板
72. 电机测温用光刻铜箔热电阻
73. 用光刻法处理薄金属片的方法
74. 新型电机测温用光刻金属箔热电阻
75. 光刻生产角度尺专用夹具
76. 非接触式光刻曝光光学系统
77. 数控光电刻版机
78. 用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物
79. 大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统
80. 动态光栅刻划机的自动调焦装置
81. 光刻机的自动调焦装置
82. 激光蚀刻机
83. 大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置
84. 蒸金光刻网状电极
85. 使用伺服/数据磁传感器和光刻磁盘道跟踪系统及方法
86. 用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法和系统
87. 用准分子激光的光刻作用对光学制品表面进行仿形加工的方法
88. Ｘ射线聚束光刻法及其装置
89. 用背面曝光和非镜面反射层光刻形成自对准掩模的方法
90. 空间投影成象光刻圆环形线圈法
91. 高重频调制多脉冲ＹＡＧ激光刻花系统及加工方法
92. 机床刻度环光刻工艺方法
93. 空间投影无掩模光刻园柱形线圈法
94. 一种光刻组合印章
95. 夜光刻(压)花装饰玻璃及其制造方法
96. 电脑光电雕刻机
97. 使激光蚀刻表面上所形成的衍射槽纹最小化的方法
98. 真空微电子器件制造中的无版光刻工艺
99. 含具有磺酸官能度的带水光刻度
100. 一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法
101. 一种微电子光刻的光化生酸源
102. 一种新型高效激光刻绘装置
103. 一种接近式缩小光刻曝光台
104. 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
105. 一种夹板式X光光刻对准装置
106. 采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版
107. 处理光刻薄膜显影中产生的漂洗废液的方法
108. 用激光束蚀刻胶片时驱动和定位胶片的设备
109. 具有激光蚀刻阻当功能的高密度结构及其设计方法
110. 双升降立式照相、拷贝、感光、刻字、制版一体机
111. 一种紫外(i线)投影光刻光学透镜系统
112. 可变倍率的激光光刻投影物镜
113. 光刻双面薄膜的装置
114. 深亚微米X射线光刻装置
115. 为光刻产生的石英晶体坯片单一分割的刻蚀法
116. 多束电子光刻系统的电子柱光学器件
117. 超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备
118. 激光刻划机
119. 超过传统分辨率极限的光刻方法
120. 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
121. 用于光刻工艺的模拟方法
122. 光化学蚀刻制做金属照片技术
123. 在材料上进行激光刻写的装置
124. 用于光刻法的孔装置及其制造方法
125. 亚微米光刻机的调焦装置
126. 亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置
127. 光刻机环形光栅离轴照明光学系统
128. 光刻机相位光栅离轴照明光学系统
129. 一种全息光刻系统
130. 远紫外激光光刻装置
131. 一种用于准分子激光刻蚀的附着式掩膜组件
132. 具有垂直侧壁的亚光刻栅的场效应晶体管的制造方法
133. 光刻校正的方法
134. 使用阴影心轴和偏轴曝光印制亚光刻图像
135. 使用无抗蚀剂电子束光刻制造亚微米抗蚀金属/半导体结构
136. 耐刻蚀性改进的多环类光刻组合物
137. 用于成型汽车玻璃刻字的激光刻字仪
138. 亚微米光刻机光学预对准装置
139. 光刻物镜分辨力测试装置
140. 无源式视听光刻盘处理器
141. 光刻电印金属打标机
142. 光刻物镜自动气压补偿装置
143. 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法和薄膜的光刻方法
144. 采用正负性互用的化学增幅光致抗蚀剂的光刻工艺方法
145. 光刻物镜分辨力与传函测试装置
146. 光刻接触元件
147. 获得远紫外辐射的方法和辐射源及用该辐射源的光刻设备
148. 应用远紫外区幅射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备
149. 液滴雾的产生方法和装置，远紫外光源和衬底的光刻装置
150. 用于显微光刻系统的氟化物透镜晶体
151. 一种干涉光刻多光束形成系统
152. 投影光刻成像滤波装置
153. 游标卡尺激光刻划精度自动控制装置
154. 亚半微米光刻物镜的恒温水套
155. 一种激光干涉光刻系统
156. 一种用于X射线光刻的相移掩模
157. 亚半微米投影光刻物镜
158. 亚微米光刻物镜的调整固定结构
159. 利用光刻技术和汽相沉积技术制作薄膜热电偶
160. 可降低邻近效应的光刻制作方法
161. 投影光刻成像相移滤波装置
162. 35微米投影光刻物镜
163. 半导体工艺中顶层光刻成像的改善
164. 电子束光刻方法及其装置
165. 减少光刻工艺中光学近接效应偏差的方法
166. 用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板
167. 用于光刻法的旋压玻璃抗反射涂层的吸收性化合物
168. 流体压力刻印光刻技术
169. 生产用激光刻制的数据载体的方法和所生产的数据载体
170. 用于阵列式集成电路光刻扫描装置的线阵光源
171. 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法
172. 用于集成电路光刻系统中的线阵光源扫描装置
173. 阵列式光学探针扫描光刻制作集成电路方法
174. 利用相移孔隙的投影式光刻方法
175. 用于显微光刻中的抗反射层
176. 制作平滑的对角组件的数字光刻系统
177. 晶片光刻法中显影工艺的改进方法
178. 接触式光刻装置
179. 光刻制版激光器的处理监视系统
180. 光盘刻录装置
181. 接触孔洞光刻的辅助设计方法
182. 动态调整光盘刻录机刻录速度的方法
183. 通过在基片支撑网上同步光刻曝光进行辊对辊显示器制作的方法
184. 动态决定光盘刻录机刻录速度的方法
185. 用于增进可刻录光盘刻录优良率的方法及装置
186. 光刻装置和曝光方法
187. 多重剂量分区曝光光刻工艺方法
188. 曝光装置、基片处理单元和光刻系统及器件制造方法
189. 光盘刻录方法及其刻录装置
190. 光刻成像滤波装置
191. 超分辨力投影光刻物镜
192. 工作波长193纳米投影光刻物镜
193. 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
194. 高温热流光刻制造方法和提供其工艺裕度的方法
195. 用于高精度光刻技术的图形引擎
196. 金属镶嵌极端远紫外线光刻术用交替型相移光掩模及制造方法
197. 用于相移光刻掩模的光学接近校正
198. 光刻投射设备和用它制造器件的方法及制成的器件
199. 动态调整光盘刻录机刻录功率内存配置的方法
200. 光刻编程系统
201. 光刻掩模制造
202. 用于纳米光刻的平行的、可单独寻址的探针
203. 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模
204. 形成光刻用防反射膜的组合物
205. 光刻蚀法中使用的含噻吩的光酸生成剂
206. 一种制造具有超短槽长的自动记录的非光刻晶体管的方法
207. 一种凹球面光刻刻划机
208. 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构
209. 阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统
210. 光探针扫描集成电路用光刻系统中振动刻写方法