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1. 纳米级电子光刻
2. 一种基于软光刻的光互联耦合结构
3. 形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备
4. 用于亚微米光学光刻构图的透镜光纤阵列
5. 光蚀刻用清洗液及使用其的清洗方法
6. 用于显微光刻投影曝光装置的传输光学元件和物镜
7. 用于产生波长范围从大约1nm至大约30nm的辐射并在光刻装置或计量学中使用的方法和设备
8. 光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法
9. 含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物
10. 含环糊精化合物的形成光刻用下层膜的组合物
11. 含有硫原子的形成光刻用防反射膜的组合物
12. 压印光刻装置及其方法
13. 光刻设备
14. 光刻录媒体的播放性能改善方法
15. TFT阵列半曝光光刻工艺
16. 光刻掩模板清洁方法
17. 测量光刻套刻精度的标尺及方法
18. 堆栈式对准标记与光刻工艺对准方法
19. 用于角分解光谱光刻表征的方法与设备
20. 极紫外光刻掩模台静电卡盘冷却器
21. 检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模
22. 去除光刻膜的技术
23. 用新型存储结接触孔提高光刻工艺裕度的方法
24. 一种降低浸没式光刻技术中光学部件被水溶液沾污的方法
25. 光刻中的成像和器件
26. 判断光刻系统的照射器的照射强度轮廓的装置及方法
27. 通过对结构的区域进行辐射以便改变晶态的激光蚀刻该结构的方法
28. 光刻用冲洗液
29. 光刻用冲洗液
30. 减少堆垛层错成核位置的光刻方法和具有减少的堆垛层错位置的结构
31. 在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法
32. 用于各种刻蚀和光刻集成方案的无定型碳的使用技术
33. 用于制造能够激光蚀刻的印刷基底的方法
34. 导光板及生产导光板的激光刻绘机
35. 光蚀刻用显影液组合物与抗蚀图案的形成方法
36. 光蚀刻用冲洗液和抗蚀图案形成方法
37. 一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置
38. 浸入式光刻系统
39. 含有具有卤原子的萘环的形成光刻用下层膜的组合物
40. 浸没光刻用真空系统
41. 产生远紫外光的设备以及对远紫外辐射光刻光源的应用
42. 浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置
43. 自动卷带式光刻丝网涂胶机
44. 光刻设备以及装置制造方法
45. 用于光刻光束生成的方法和系统
46. 浸入式光刻中的衬底布置
47. 用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导体器件的方法及半导体器件
48. 光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架
49. 水平传感器、光刻设备以及器件制作方法
50. 光刻设备、检偏片、组件、测量参数的方法和构图装置
51. 光刻设备和器件制造方法
52. 光刻设备和器件制造方法
53. 光刻投影装置和致动器
54. 光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法
55. 光刻装置以及器件制造方法
56. 电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统
57. 用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置
58. 用于确定Z位置误差/变化以及基板台平整度的光刻装置和方法
59. 光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件
60. 光刻装置、照明系统和过滤系统
61. 光刻装置及器件制造方法
62. 光刻装置,辐射系统和滤波系统
63. 光刻装置和器件制造方法
64. 光刻装置和器件制造方法
65. 沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备
66. 光刻系统中用于可变偏振控制的方法与设备
67. 关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板
68. 光刻设备及器件制造方法
69. 光刻设备
70. 光刻设备
71. 修正光刻掩膜中缺陷的方法和装置
72. 光刻设备和位置测量方法
73. 光刻设备和生成掩模图案的方法以及该设备制造方法
74. 用于浸渍光刻技术的组合物和工艺
75. 压印光刻
76. 振动检测和振动分析方法与设备及具有该设备的光刻设备
77. 光刻装置和器件制造方法
78. 用于电子束光刻系统的电磁聚焦方法
79. 光刻设备和制造器件的方法
80. 小批量光刻台
81. 光刻装置、包括照明系统的装置以及器件制造方法
82. 极紫外线磁性对比光刻掩模及其制法
83. 超紫外线光刻的多层镜射保护
84. 一种采用五次曝光的成像干涉光刻方法
85. 采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统
86. 采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法和系统
87. 辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件
88. 对准方法和装置，光刻装置，器件制造方法和对准工具
89. 湿浸式光刻系统中用于清洗半导体衬底的方法和设备
90. 光刻器件及方法
91. 具有气体冲洗装置的光刻设备
92. 光刻装置和器件制造方法
93. 光刻装置和器件制造方法
94. 倍缩光刻掩膜的热监测器
95. 灯保护罩，含灯和保护罩的装置，光刻器械中安装光源的方法
96. 光刻装置及器件制造方法
97. 辐射系统、光刻设备、装置制造方法及其制造的装置
98. 光刻设备和器件制造方法
99. 光刻设备和设备制造方法
100. 用于抑制使用光刻系统印刷的特征波形化的装置、方法及程序产品
101. 确定光刻装置的投影系统的像差的方法
102. 光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件
103. 光刻设备及器件制造方法
104. 光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件
105. 光刻设备及器件制作方法
106. 光刻装置、洛伦兹致动器、及器件制作方法
107. 应用在湿浸式光刻工艺中的湿浸介质
108. 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法
109. 光刻装置及器件制造方法
110. 光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法
111. 用于光刻的柔性光掩模及其制造方法以及微构图方法
112. 用于投影光刻机的调焦调平传感器
113. 一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
114. 采用微光刻技术制作缩微汉字的方法
115. 连续面形掩模移动光刻曝光装置
116. 一种偏振光瞳器件及其在投影光刻系统中的应用
117. 光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用
118. 深紫外投影光刻物镜
119. 一种双面光刻机底面套刻对准方法
120. 高数值孔径光刻成像偏振控制装置
121. 光刻装置及器件制作方法
122. 具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法
123. 一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法
124. 具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法
125. 光刻设备及器件制造方法
126. 光刻装置及器件制造方法
127. 具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法
128. 光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法
129. 曝光系统、杂散光检查用的检查掩模及评价光刻工艺的方法
130. 在浸没式光刻术中使用超临界流体以干燥芯片及清洁透镜
131. 将光刻机中的硅片在线调节到最佳曝光位置的方法
132. 用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法
133. 浸润式光刻技术的方法
134. 对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
135. 步进扫描光刻机双台交换定位系统
136. 光刻图形的形成方法
137. 光刻工艺中的光学临近效应补偿方法
138. 用于加工具有激光刻蚀的沟槽触点的基件，尤其是太阳能电池的方法和装置
139. 光盘刻写方法及装置
140. 用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统
141. 光盘驱动器刻录功率调整方法及装置
142. 测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
143. 光刻装置和器件制造方法
144. 光刻图形的形成方法
145. 光盘刻录功率调整方法
146. 多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法
147. 光刻机离轴水平和对焦探测控制系统及其实现方法
148. 保持光刻机高速同步控制时序信号完整性的方法
149. 光刻机成像光学系统像差现场测量方法
150. 使用浸没光刻工艺制造半导体器件的方法
151. 用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统
152. 浸润式光刻的方法及其处理方法
153. 光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法
154. 用于制造半导体器件的光刻工艺的方法
155. 一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置
156. 浸没式光刻机浸液流场维持系统
157. 光刻机同步时序控制串行数据通讯方法和系统及应用
158. 一种复合减振式光刻装置
159. 用于光刻机的数字可调双环电机控制器及其数字调节方法
160. 一种光栅刻划机的载物滑座减重同步移动机构
161. 一种用于步进扫描光刻机的精密隔振系统
162. 光刻装置和器件制造方法
163. 接触光刻设备、系统和方法
164. 光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法
165. 包括清洁装置的光刻设备及用于清洁光学元件的方法
166. 氘氧基掺杂的二氧化硅玻璃、光学部件和光刻系统及其制备方法
167. 干涉仪光刻系统以及用于生成等路径长度的干涉束的方法
168. 蚀刻光刻基片的改进的方法
169. 辐射系统和光刻设备
170. 用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法
171. 光刻系统、传感器和测量方法
172. 用于光刻法的系统、掩模和方法
173. 光刻系统和投影方法
174. 微光刻投影物镜
175. 具有保护性光学涂层的浸没光刻系统
176. 微光刻曝光系统的光学系统
177. 微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法
178. 用于光刻设备的照射器
179. 光刻技术方法
180. 光刻技术方法
181. 含有乙烯基萘树脂衍生物的形成光刻用涂布型下层膜的组合物
182. 用于形成光刻工艺的焦点曝光模型的系统和方法
183. 成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜
184. 二步光刻法制作GaN基LED的制备方法
185. 光刻设备及其清洁方法
186. 投影透镜偏振传感器、光刻投影系统、测量偏振状态的方法
187. 光刻设备、确定其至少一个偏振属性的方法、检偏器和偏振传感器
188. 具有改善的可靠性的无掩模光刻系统
189. 利用多次曝光印刷光刻图像的方法和系统
190. 发光雕刻及其制备方法
191. 沉浸式光刻系统的投影系统
192. 沉浸式光刻系统的投影系统
193. 亚微米印花转移光刻术
194. 半导体光刻方法
195. 一种光刻机硅片平台水平控制和自动对焦系统及方法
196. 光刻用清洗液
197. 光刻设备和器件制造方法
198. 微光刻投影曝光设备的光学系统
199. 含有萘树脂衍生物的形成光刻用涂布型下层膜的组合物
200. 含有聚硅烷化合物的形成光刻用下层膜的组合物
201. 空间光调制器装置、光刻设备、显示装置、产生具有空间光图案的光束的方法以及制造器件的方法
202. 金属光刻掩膜盒
203. 一种光刻照明系统
204.具有相对衬底倾斜的喷洒头的液体浸没光刻系统
205.相对于光刻部件间距减小的图案
206.一种用于微光刻的照明光学系统
207.光刻图形的形成方法
208.含有具有乙烯二羰基结构的聚合物的形成光刻用防反射膜的组合物
209.一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法
210.在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法