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1. 辐射敏感组合物、可成像元件、阳性作用型光刻印刷前体及其制备方法
2. 中性粒子束光刻
3. 光刻用硫化物半导体掩膜
4. 具可扩充式光盘刻录与播放系统的主机系统
5. 组件、光刻装置和器件制造方法
6. 扩展光刻模拟积分范围的方法
7. 光盘刻录方法及其刻录装置
8. 光刻制程、掩膜版及其制造方法
9. 厚外延层上进行投影光刻的方法
10. 光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件
11. 改善晶圆图案化结构临界尺寸均匀性方法及用于光刻系统
12. 自适应的光刻临界尺寸增强
13. 光盘片刻录机
14. 光刻装置和器件制造方法
15. 浸润式光刻之方法与系统
16. 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法
17. 浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法
18. 光刻装置，器件制造方法以及该方法制造的器件
19. 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件
20. 光刻抗反射硬掩模合成物及其使用
21. 光刻装置及器件制造方法
22. 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
23. 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
24. 具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置
25. 用于体硅微机械加工的局部光刻中的隔离装置
26. 用于光刻套刻的划片槽结构
27. 光刻装置和器件制造方法
28. 一种弹性顶针式多功能光栅刻划刀刀架
29. 一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥
30. 极紫外光刻精密磁悬浮工件台
31. 半色调掩模光刻热熔成形微透镜阵列方法
32. 为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置
33. 空间光调制器和用于进行动态光刻的方法
34. 用于构图工件的浸式光刻系统
35. 为浸没光刻提供流体的装置和方法
36. 含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物
37. 用于激光蚀刻分层材料的物品和方法
38. 计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法
39. 一种应用于光学光刻系统的孔径盘
40. 可扩充式光盘刻录与播放系统及其主板
41. 光盘刻录媒体制作方法
42. 光盘刻录再生装置及方法
43. 光刻装置和器件制造方法
44. 一种确定用于光盘刻写的参数的方法及装置
45. 光盘刻录方法及相关设备
46. 一种圆柱面光栅光刻刻划机
47. 使用软或压印光刻法制备隔离的微米-和纳米-结构的方法
48. 纳米压印光刻机
49. 支持结构与光刻设备
50. 固定温度下压印光刻方法
51. 包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统
52. 光刻装置和校准方法
53. 光刻装置和测量方法
54. 改进的光刻方法
55. 填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法
56. 吸盘系统、使用该吸盘系统的光刻装置和器件制造方法
57. 用于图形化不同宽度的线的复合光学光刻方法
58. 用于浸入式光刻的可除去薄膜
59. 微光刻处理的辐射束特性控制方法和系统
60. 用于图形化宽度显著不同的线的复合光学光刻方法
61. 大面积光刻的装置和方法
62. 执行基于模型的光刻校正的方法
63. 光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统
64. 具有改进的监测和控制的压印光刻术及其设备
65. 光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统
66. 用于监视和控制在沉浸光刻系统中成像的方法和设备
67. 光盘刻录方法及装置
68. 在浸润光刻系统中监视及控制成像的方法
69. 用于为浸润式光刻提供限制液体的设备与方法
70. 使用灰度级光刻蚀法的粘合方法
71. 用于表征光刻技术对晶片的影响的系统和方法
72. 使用压印光刻制造的传感器
73. 光刻工艺、压模、该压模的使用以及光学数据存储介质
74. 通过激光蚀刻增加压榨织物空隙容积的方法
75. 用于沉浸式光刻光学系统的清洗方法
76. 用于沉浸光刻装置收集液体的溢出通道
77. 包括用于沉浸式光刻装置的传送区的环境系统
78. 含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物
79. 正性双层压印光刻法及其所用组合物
80. 中间掩模用基板及其制造方法,以及光刻掩模板及其制造方法
81. 光刻掩膜板的制造方法
82. 含有丙烯酸类聚合物的光刻用形成填隙材料的组合物
83. 用于远紫外光刻的光致抗蚀剂组合物
84. 金属光蚀刻制品及该制品的制造方法
85. 用偏振光的光刻印刷
86. 一种带反馈控制的激光刻蚀机
87. 浸润式光刻系统
88. 浸没式光刻系统
89. 激光刻蚀导光板
90. 抑制污染的光刻设备,器件制造方法,和由此制造的器件
91. 光学衰减器器件、辐射系统和具有它们的光刻装置以及器件制造方法
92. 使用增强的干涉映象光刻技术的特征最优化
93. 制备基底的方法，测量方法，器件制造方法，光刻装置，计算机程序和基底
94. 移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置
95. 光刻装置和器件制造方法
96. 采用光刻和干刻制造碳纳米管多层图案的方法
97. 使用干涉成像光刻法的部件优化
98. 光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法
99. 光刻装置及器件制造方法
100. 衬底曝光方法和光刻投影设备
101. 光刻装置，器件制造方法以及由此制造的器件
102. 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
103. 光刻构图装置的保险机构
104. 校正光刻工艺的方法以及叠合记号的形成方法
105. 光刻装置和器件制造方法
106. 光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法
107. 步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统
108. 光刻装置以及器件制造方法
109. 反射镜和使用反射镜的光刻装置
110. 用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置
111. 光刻装置以及器件制造方法
112. 光刻用掩模护层
113. 光刻装置及集成电路制造方法
114. 用于无掩模光刻的投射光学系统
115. 用光刻和镀铝膜法制作的三极平板显示器及其制作工艺
116. 光刻装置，器件制造方法和由此制造的器件
117. 光刻装置和器件制造方法
118. 多层反射远紫外线光刻掩模坯件
119. 浸没式光刻系统和制造半导体元件的方法
120. 光刻装置和装置调节方法
121. 浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法
122. 用于电子束投影光刻系统的发射器及其制造和操作方法
123. 光刻装置的校准方法和器件制造方法
124. 光刻投影装置和器件制造方法
125. 光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件
126. 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法
127. 光刻设备及装置制造方法
128. 用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法
129. 光刻装置和器件制造方法
130. 包括气体冲洗系统的光刻装置
131. 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法
132. 光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法
133. 一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备
134. 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法
135. 装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法
136. 光刻投影装置中的聚焦庛点监测
137. 光刻设备、装置制造方法和计算机程序
138. 光刻装置中质量体的位置控制
139. 用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法
140. 基于厚胶光刻的三维微结构加工方法
141. 光刻装置及其应用方法
142. 光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法
143. 光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件
144. 光刻装置及器件制造方法
145. 光刻装置及器件制造方法
146. 用于光刻装置的水平传感器
147. 光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法
148. 使用图案化发射体的电子束光刻装置和发射体的制造方法
149. 减轻用于动态光刻的空间光调制器中的缺陷影响
150. 用于动态数字光刻的实时图像尺寸调整
151. 偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法
152. 用于微光刻投影曝光设备的照明系统
153. 定向束的等离子体源及其到微光刻的应用
154. 用于远紫外线辐射光刻的方法和设备
155. 用于光刻的光源
156. 光刻设备与装置制造方法
157. 步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统
158. 光刻设备、控制系统及器件制造方法
159. 光刻装置、照明系统以及碎屑捕集系统
160. 光刻设备和器件制造方法
161. 优化光盘刻写策略的方法和装置
162. 一种自控液晶光阀组光刻快门
163. 光刻工艺产品的识别方法
164. 交替相移光刻的三色调修整掩模
165. 用于软光刻法的复合构图设备
166. 用以减低浸入式光刻系统中移动所导致的扰动的系统与方法
167. 石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法
168. 光刻机成像质量的检测方法
169. 基于等离子波的纳米光刻光学装置
170. 用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统
171. 光刻设备及器件制造方法
172. 一种自控液晶光阀组光刻快门机构
173. 衬底台、测量衬底位置的方法以及光刻装置
174. 一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统
175. 采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法和系统
176. 一种采用激光对SU-8胶曝光光刻的方法及其装置
177. 光刻装置和器件制造方法
178. 纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法
179. 一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法
180. 防护胶膜框架及利用此框架的光刻用防护胶膜组件
181. 模具式涂布器涂布方法及以此法制的光刻用防护胶膜组件
182. 用于湿浸式光刻的方法和设备
183. 光刻显影装置及采用该装置制造滤色片基板的方法
184. 光刻装置和器件制造方法
185. 一种亚波长光刻条件下可变偏差蚀刻模拟方法
186. 一种基于卷积核的集成电路光刻制造建模方法
187. 用于模拟光刻过程的方法和装置
188. 浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置
189. 集成电路反剥离光刻方法
190. 一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法
191. 在光刻录播放系统中获得最佳伺服增益的装置及方法
192. 用于中红外分布反馈量子级联激光器的全息光栅刻蚀方法
193. 光刻机投影物镜奇像差原位检测方法
194. 光刻录媒体的信号处理方法
195. 全息凸面光栅光刻光路设计方法
196. 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法
197. 一种微细光刻图案方法
198. 光刻制程中对掩膜图案进行光学邻近修正的方法
199. 步进扫描投影光刻机的高速同步广播总线系统
200. 步进扫描投影光刻机同步总线控制方法
201. 减少堆垛层错成核位置的顺序光刻方法和具有减少的堆垛层错成核位置的结构
202. 栅极长度不取决于光刻法的纵向栅极CMOS
203. 光刻设备及器件制造方法
204. 芯片光刻制程中油浸式曝光方法
205. 一种薄膜材料的激光刻切装夹装置
206. 以ITO为P电极的两次光刻GaN基LED电极制作方法
207. 一种基于密集采样成像算法的光刻制造模拟方法
208. 光学刻录及播放装置中的倾斜测定装置与方法
209. 用于多曝光射束光刻装置的方法
210.用于校验光刻中的分辨率增强技术和光学邻近校正的方法