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1. 制造精细结构之无阻光刻方法
2. 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
3. 光点格栅阵列光刻机
4. 使用母版测度的光刻临界尺寸控制的方法
5. 形成光刻用防反射膜的组合物
6. 光学元件及其制作方法以及光刻设备和半导体器件的制造方法
7. 光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体
8. 光刻用透射UV的混合氟化物晶体
9. 金属镶嵌极端远紫外线光刻技术用光掩模及其制造方法
10. 相移光刻掩模的设计和布局
11. 光刻掩模位相冲突的解决方法
12. 相移光刻掩模的曝光控制
13. 形成光刻用防反射膜的组合物
14. 带有可移动透镜的光刻装置和在存储媒体中制作数字全息图的方法
15. 光刻模板
16. 在圆片上形成半导体器件的光刻方法和仪器
17. 光刻用的标线片转移系统和方法，基片转移盒及转移方法
18. 一种专用于微流控芯片制作的光刻机
19. 氧化铁光刻掩膜版
20. 2.5英寸X5英寸UT1倍光刻版
21. 汽缸套内壁润滑油线激光刻琢装置
22. 激光刻版装置
23. 一种光刻仪及集成电路装置的制造方法
24. 光刻装置及器件制造方法
25. 应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
26. 干光刻法及用其形成栅图案的方法
27. 光刻装置，器件制造方法和光学元件的制造方法
28. 光刻装置和器件的制造方法
29. 使用选择性生长的碳纳米管的电子发射光刻装置及方法
30. 光盘刻录装置及光盘制造方法
31. 应用于掩模式只读存储器编码注入的光刻工艺
32. 在去光刻制程中避免低介电常数介电层劣化的方法
33. 氧化羰基铁光刻掩膜版
34. 一种基于自组织的纳米颗粒图案的光刻方法
35. 自适应全反射极紫外投影光刻物镜
36. 双层光刻过程
37. 多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法
38. 光盘刻录器的编码装置及其方法
39. 机床刻度盘光刻方法
40. 一种光刻用无机抗反射膜SiON的表面处理方法
41. 提高光刻分辨率的方法
42. 光刻编程集成电路
43. 多光罩平放器装置及用其来改善叠加光刻的方法
44. 用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂
45. 辐射源、光刻设备和器件制造方法
46. 光刻设备和器件制造方法
47. 夹盘、光刻装置和器件制造方法
48. 光刻投射装置及器件制造方法
49. 确定光刻投影参数的方法、器件制造方法及器件
50. 具有多个抑制丝网的光刻投影装置和制造集成结构的方法
51. 制造光学元件的方法，光刻装置和器件制作方法
52. 一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法
53. 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置
54. 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备
55. 连续地直接写的光刻技术
56. 用于对衬底侧面进行布线的光刻方法
57. 光刻术的方法和装置
58. 在紫外微光刻术中修正固有双折射的方法和系统
59. 光刻装置、程控构图部件和器件制造方法
60. 光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器
61. 光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件
62. 用于浸入式光刻的液流接近探测器
63. 光刻投射装置及器件制作方法
64. 一种光刻投影装置
65. 光刻装置和器件制造方法
66. 光刻装置和器件制造方法
67. 保持折反射光刻系统以无翻转（非镜面）像的分束器光学设计
68. 光刻装置及确定束尺寸和发散度的方法
69. 光刻用掩模护层及其制作方法
70. 光刻式只读存储器的感测放大器
71. 声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统
72. 光刻投射装置及器件制造方法
73. 光刻装置及器件制造方法
74. 用于电子束投影式光刻系统的发射器及其制造方法
75. 光学光刻方法
76. 光刻系统的照明系统中使用的中继透镜
77. 光刻设备和器件制造方法
78. 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
79. 光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件
80. 光刻装置和器件的制造方法
81. 光刻装置和器件的制造方法
82. 压印掩模光刻
83. 利用光刻投射装置来制造器件的方法
84. 光刻设备及器件的制造方法
85. 光刻工艺余量的评价方法及测定条件的设定方法
86. 光刻装置和器件制造方法
87. 液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道光刻腐蚀方法
88. 光刻装置、对准方法和器件制造方法
89. 在半导体工艺中形成亚光刻开口的方法
90. 光刻装置、器件制造方法及其制造出的器件
91. 光刻装置中改善线宽控制的系统和方法
92. 光刻投射设备、所用的反射掩模以及器件制作方法
93. 低成本光刻技术
94. 掀盖式光碟刻录机与存储卡资料传输装置
95. 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准装置
96. 基于光刻的喷丝毛细孔加工方法
97. 用于微光刻法的照明系统
98. 用于无铬相位光刻技术中将半导体器件图案分解为相位和镀铬区域的方法和装置
99. 光刻装置及制造集成电路的方法
100. 电子束聚焦设备及使用该设备的电子束投影光刻系统
101. 吸盘，光刻投影设备，制造吸盘的方法和器件制造方法
102. X射线光刻对准标记图形
103. 一种光盘刻写参数的优化方法及装置
104. 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
105. 光刻支撑空桥结构和制造一组互连结构的方法
106. 薄膜的光刻方法
107. 光刻技术中的漩涡相移掩模
108. 确定最佳工艺窗口的最佳工艺设定的方法,该最佳工艺窗口优化了确定光刻工艺最佳工艺窗碱溶解型光刻用形成填隙材料的组合物
109. 使用双层光刻抗蚀剂作为用于光学存储的新材料
110. 光刻用形成防反射膜的组合物
111. 光刻系统
112. 形成模具嵌入物和模具的光刻方法
113. 根据产品设计及产率反馈系统的综合性集成光刻制程控制系统
114. 用于小线条印刷的光刻方法
115. 形成和修正具有间隙缺陷的光刻版的方法
116. 用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层
117. 感应场压的压印光刻的方法和设备
118. 多层光刻模板
119. 特别用于极远紫外(EUV)光刻术中的发光系统
120. 用于浸液式光刻的折射投影物镜
121. 器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置
122. 掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法
123. 光刻装置和器件制造方法
124. 一种光刻投影装置及其器件制造方法
125. 具有对准子系统的光刻装置，使用对准的器件制造方法以及对准结构
126. 光刻装置、器件的制造方法及由此制得的器件
127. 光刻装置、器件制造方法，及由此制成的器件
128. 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到器件
129. 光刻装置，镜元件，器件制造方法，及束传送系统
130. X射线光刻对准标记
131. 光刻设备和制造器件的方法
132. 光刻设备和器件制造方法
133. 光刻设备及制造器件的方法
134. 投影光学光刻偏振成像系统
135. 具有残余物抑制装置的光刻装置和器件制造方法
136. 光刻装置和器件制造方法
137. 一种光刻装置和装置的制作方法
138. 集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台
139. 具有微影光阻检测图案的光刻及其检测方法
140. 一种光刻装置和装置的制作方法
141. 利用二次电子的电子投影光刻装置
142. 确定杂散辐射的方法，光刻投影设备
143. 光刻法用洗涤液和基板的处理方法
144. 光盘刻录方法及装置
145. 光刻装置和测量系统
146. 用于光刻系统的对准系统和方法
147. 利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法
148. 全芯片无铬相光刻技术生产中实现关键尺寸线性控制的方法
149. 辐射源、光刻装置和器件的制造方法
150. 光刻中交变移相掩膜的相位/幅度误差的检测方法和系统
151. 从表面上去除微粒的清洗方法、清洗装置和光刻投影装置
152. 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统
153. 光刻装置及器件制造方法
154. 用于特殊微型光刻的基片
155. 形成自对准图案的非光刻方法，生产的制品和使用的组合物
156. 具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
157. 含有非线性光学材料层的光刻用掩膜
158. 用于光刻工具的自动聚焦测量的系统和方法
159. 光刻设备和器件制造方法
160. 光刻投射装置及用于所述装置中的粒子屏障
161. 用于管理光刻镜上的光化光强瞬态变化的方法和设备
162. 光刻投射装置以及器件制造方法
163. 具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法
164. 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件
165. 基于压印光刻的复合材料真三维微电子机械系统器件制造方法
166. 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法
167. 有光学元件的光刻投射装置、器件的生产方法及其器件
168. 光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件
169. 光刻装置及设备制造方法
170. 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
171. 使用图案化发射体的电子光刻设备
172. 光刻设备和装置的制作方法
173. 在衬底上加工高密度亚光刻图形的方法
174. 一种激光刻蚀制作线路板的方法
175. 光刻装置和器件的制造方法
176. 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置
177. 一种制造亚光刻尺寸通路的方法
178. 用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法
179. 应用于掩模式只读存储器编码布植的光刻工艺
180. 对准方法,对准基底,光刻装置和器件制造方法
181. 光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置
182. 用于曝光衬底的浸没式光刻方法和装置
183. 光刻化学工艺的自适应性热控制
184. 具有扩展的聚焦深度的光刻系统及方法
185. 光刻过程中晶片热形变的优化校正
186. 光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法
187. 光刻装置和器件制造方法
188. 光刻装置和器件制造方法
189. 光刻装置及器件制造方法
190. 光刻装置及器件制造方法
191. 元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法
192. 检测组件、光刻投影装置及检测、校准、确定和保持方法
193. 使用兼容浸渍媒质浸渍光刻方法
194. 一种光盘刻写参数的优化方法及装置
195. 用于测量光刻装置中元件表面污染物的方法和设备
196. 用于光刻设备的支撑结构
197. 光刻投影装置和器件制造方法
198. 光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
199. 光刻设备和校准方法及器件制造方法
200. 光刻处理方法，和由此制造的器件
201. 用于传送物体的传送设备及其使用方法以及包含这种传送设备的光刻投影设备
202. 光刻设备及器件制造方法
203. 纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法
204. 光刻装置
205. 用于次半波长光刻构图的改善的散射条OPC应用方法
206. 校准光刻装置的方法
207. 光刻装置，设备制造方法和角编码器
208. 光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件
209. 光刻装置,器件制造方法以及所制的器件
210.光刻设备和器件制造方法以及测量系统