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1. 聚合物材料的光刻构图
2. 采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法
3. 光刻抬离成形法
4. 用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法
5. 用图像同步采集光刻成像系统的像场弯曲测量方法
6. 含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物
7. 光刻装置及其方法
8. 支持USB2.0、1394火线及记忆卡暂存器的光盘刻录一体机
9. 激光刻印治具
10. 带蓝光刻录的数字视频摄像机
11. 压印光刻的校准
12. 湿浸式光刻工艺的控制方法及其操作系统
13. 悬挂式支撑成像系统及光刻装置
14. 光刻装置和器件制造方法
15. 将非晶硅结晶成多晶硅的方法及使用于此方法之光刻掩膜
16. 一种铌酸锂晶片光刻甩胶真空吸头
17. 光刻装置和器件制造方法
18. 光刻装置和器件制造方法
19. 光刻设备及器件制造方法
20. 恢复光刻工艺中横磁波对比度的方法和系统
21. 光刻设备和使用干涉测量和无掩模曝光单元的装置制造法
22. 利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法
23. 光刻设备和制造器件的方法
24. 光刻设备和器件制造方法
25. 光刻设备和器件制造方法
26. 辐射系统和光刻设备
27. 对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法
28. 提高浸没光刻中表面张力和接触角的系统和方法
29. 数字多功能/视频光盘刻录装置及自动章节标记插入方法
30. 用平板显示器多辞典压缩方法的光刻设备和装置制造方法
31. 使用浸没式光刻法制造半导体装置的方法
32. 一种增强光刻工艺中图形黏附力的方法
33. 光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件
34. 光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法
35. 光刻机台、显影装置及其显影方法
36. 光刻方法
37. 选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件
38. 气体喷头、光刻装置和气体喷头的应用
39. 光刻装置
40. 用于光刻的组合物和方法
41. 光刻用清洗剂或冲洗剂
42. 位置测量系统和光刻装置
43. 远紫外光刻反射器件及其制造方法
44. 一种光刻装置的对准系统以及该对准系统的级结合系统
45. 移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
46. 一种消色差浸没干涉成像光刻系统
47. 光刻接触元件
48. 基底、光刻多次曝光方法和可机读介质
49. 工作台装置、光刻装置及器件制造方法
50. 一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法
51. 光刻装置、污染物收集器和器件制造方法
52. 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
53. 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统
54. 度量、光刻、加工装置、度量方法及器件制造方法
55. 光刻装置和器件制造方法
56. 光刻装置和器件制造方法
57. 浸润式光刻的方法及其处理系统
58. 光刻装置的浸没损坏控制
59. 执行双重曝光光刻的方法、程序产品和设备
60. 光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件
61. 图案形成装置和方法,判断位置的方法、测量设备和光刻装置
62. 光刻装置和补偿中间掩模版引入的CDU的器件制造方法
63. 光刻设备及器件制造方法
64. 压印光刻
65. 防止或者降低浸没式投影设备及浸没式光刻设备的污染的方法
66. X射线光刻掩模版的制备方法
67. 光刻投影物镜远心测量方法
68. 一种光刻机
69. 一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法
70. 光学记录媒体以及利用激光束刻录数据与制作图案的方法
71. 用于193nm光学光刻的侧墙铬衰减型移相掩模制作方法
72. 光刻装置和器件制造方法
73. 离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置
74. 双台座光刻设备和器件制造方法
75. 光刻装置和器件制造方法
76. 用于极远紫外光刻的反射掩模和制作该反射掩模的方法
77. 光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统
78. 在至少投射光学部件和晶片上具有相等压力的浸入式光刻装置和方法
79. 多层反射镜光谱纯滤光片、光刻设备以及装置制造方法
80. 压印光刻
81. 用于浸没式光刻的组合物和方法
82. 光刻装置及器件制造方法
83. 光刻装置及器件制造方法
84. 光刻装置、部件制造方法及其所制造的部件
85. 使用测试特征检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法
86. 光刻装置和定位装置
87. 光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法
88. 多层光谱纯滤光片与光刻设备、装置制造方法以及装置
89. 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
90. 用于光刻应用的专用测量台
91. 使用散射测量的光刻测量
92. 离轴投影光学系统和使用该系统的超紫外线光刻装置
93. 用于光刻装置中的传感器
94. 光刻系统及保持其中光学结构之间光学缝隙的设备和方法
95. 光刻图形的曝光条件选择方法
96. 一种纳米压印光刻机
97. 提高无掩模光刻的分辨率的方法
98. 基于纳米透镜的无掩模光刻系统
99. 光刻掩模版特征线宽均一性预补偿技术
100. 晶片背面平坦化的方法及提高光刻工艺线宽一致性的方法
101. 可同时监控光刻曝光条件和套刻精度的方法
102. 投影式光刻机
103. 曝光方法、光刻方法及通孔的制作方法
104. 投影式光刻机
105. 光刻对准标记的制备方法
106. 形成不同图形密度的光刻方法
107. 光刻显影的方法
108. 非晶硅薄膜太阳能电池激光刻划系统及刻划方法
109. 一种ITO薄膜激光蚀刻设备及蚀刻方法
110. 光刻装置对准方法
111. 立体光刻造型用树脂组合物
112. 用于光刻衬底的温度控制方法
113. 激光蚀刻装置
114. 激光刻录策略的最佳功率控制校正方法及光储存装置
115. 一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法
116. 测量重叠误差的半导体器件和方法、光刻设备及器件制造方法
117. 光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置
118. 光刻尺寸超规格的修正刻蚀方法
119. 光刻套刻精度的测试图形及测量方法
120. 可录式光盘刻录品质的动态检测方法
121. 光刻机工件台平衡定位系统
122. 数字光刻技术的相位控制和补偿方法
123. 用于微光刻的具有四个透镜组的对称物镜
124. 辐射发生装置、光刻设备、器件制造方法及其制造的器件
125. 光刻系统和投影方法
126. 以不同的宽度构图亚光刻特征
127. 用于电子束光刻剥离的去除双层胶的方法
128. 步进扫描投影光刻机同步控制器
129. 步进扫描投影光刻机同步控制系统
130. 在半导体工艺中形成亚光刻开口的方法
131. 微光刻照射系统，包括这种照射系统的投影曝光设备
132. 双重曝光光刻工艺
133. 浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料
134. 微光刻投影光学系统、工具及其制造方法
135. 用于无掩模光刻的动态补偿系统
136. 一种堆叠式光刻对准标记
137. 一种可提高刻蚀性能的光刻方法
138. 使用压印光刻的纳米结构布置的方法和系统
139. 光刻导轨设备中分立式热板系统
140. 使用软光刻法形成纳米级特征的方法
141. 光刻印刷系统
142. 功率半导体分立器件第一层光刻对位标记的制作方法
143. 一种光刻机硅片台双台交换系统
144. 浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置
145. 光刻工艺的显影方法
146. 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法
147. 检测光刻设备排气系统和判断产品CPK的方法
148. 用于微光刻投影曝光设备的照射系统的光学积分器
149. 用于微光刻投影曝光设备的照射系统
150. 光刻工序中套刻精度的控制方法
151. 用于产生亚衍射限制特征的光刻系统和方法
152. 光刻机照明均匀性补偿片的制造方法
153. 掩模以及相关的光刻方法
154. 晶片激光刻印方法与其系统
155. 用于大马士革工艺的光刻掩膜板
156. 光刻的曝光方法及曝光系统
157. 光刻图案的形成方法和双镶嵌结构的制造方法
158. 采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
159. 采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置
160. 采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置
161. 光刻方法
162. 光刻机抗蚀剂成像仿真三维交互显示方法
163. 光学头与光学蚀刻装置
164. 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
165. 一种ITO薄膜激光蚀刻机
166. 带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
167. 一种用于光刻技术的无机热阻膜
168. 形成电路图案的光刻方法
169. 一种非晶硅薄膜太阳能电池激光刻划设备
170. 非晶硅薄膜太阳能电池激光刻划设备
171. 具有指纹识别功能的数字激光刻录式视盘机
172. 具有虹膜识别功能的数字激光刻录式视盘机
173. 有机电致发光元件制程中的光刻掩膜板的清洗方法及装置
174. 光刻设备和器件制造方法
175. 浸润式光刻系统用的洁净膜清洗片、成分、用法及其应用
176. 光刻工艺监测标记用光掩模图案及其应用
177. 具有对焦机构的新型直写光刻装置
178. 一种采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换系统
179. 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
180. 衬底支撑件和光刻工艺
181. 光刻系统、器件制造方法、定点数据优化方法及产生设备
182. 采用聚焦光刻成形亚波长微纳结构的制作方法
183. 一种可提高空间成像套刻检验精准度的光刻方法
184. 光刻设备的探测装置与探测方法
185. 一种用于微光刻的照明光学系统
186. 探针诱导表面等离子体共振耦合的光刻方法
187. 光刻中的旁瓣图像搜寻方法
188. 光刻曝光方法
189. 光刻机投影物镜彗差原位检测系统
190. 具有对焦机构的直写光刻装置
191. 直写光刻装置
192. 综合式直写光刻装置
193. 一种采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换系统
194. 光刻设备、器件制造方法和计算机程序产品
195. 用于减少沉浸式光刻装置机械磨损的集成电路制造
196. 光刻机对焦方法
197. 用于光刻蚀法的涂料组合物
198. 光刻方法
199. 光刻方法
200. 管路系统、光刻设备、泵以及降低管路系统振动的方法
201. 激光刻线机专用芯轴
202. 光刻设备和器件制造方法
203. 光刻设备和器件制造方法
204. 光刻设备和方法
205. 确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置
206. 一种用于步进光刻机对准系统的标定装置及其标定方法
207. 一种光刻机成像质量测量方法
208.用于高数值孔径和浸润式光刻的分级式抗反射涂层
209.光刻机曝光成像装置
210.用于接通薄膜半导体结构的光刻方法