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1. 亚光刻纳米互联结构和形成该结构的方法
2. 双向分束器、使用其的对准系统及使用该系统的光刻装置
3. 光刻装置的传感器与探测方法
4. 激光刻绘机
5. 光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统
6. 应用聚苯乙烯球进行聚焦光刻成形亚波长微纳结构
7. 一种光刻系统掩模邻近效应校正方法
8. 一种可提高空间成像套刻检验精准度的光罩以及光刻方法
9. 光蚀刻用防护膜组件
10. 用于角分辨光谱光刻描述的方法和装置
11. 纳米压印光刻用固化性组合物及使用其的图案形成方法
12. 具有对焦机构的新型直写光刻装置
13. 一种用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法
14. 微光刻投影曝光设备的投影物镜
15. 一种位相共轭成像光刻系统
16. 具有对焦机构的直写光刻装置
17. 用于执行暗场双偶极子光刻(DDL)的方法及设备
18. 一种基于金属局域化效应的光刻方法
19. 一种利用金属层缩小π位相偏移光刻特征尺寸的方法
20. 一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法
21. 一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统
22. 一种全息消像差方法及其投影光刻系统
23. 透射对准标记组合及光刻装置的对准方法
24. 用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法
25. 一种浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置
26. 一种光刻机的晶舟锁紧装置
27. 光刻设备和器件制造方法
28. 光刻设备和器件制造方法
29. 用于补偿光刻系统中的临界尺寸的不均匀性的系统和方法
30. 具有平面电机驱动支架的光刻设备
31. 检查方法及设备与光刻设备及器件制造方法
32. 光刻设备和像差校正装置及器件制造方法
33. 测量光刻系统中的功率的系统和方法
34. 光刻设备与辐射传感器及辐射传感器制造方法
35. 一种液晶显示器件光刻版图的防静电方法
36. 用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法
37. 一种用于光刻设备的对准系统
38. 用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法
39. 光刻方法
40. 具有灰度滤波器的波前传感器及包括该传感器的光刻设备
41. 光刻装置的对准方法及系统
42. 减小激光直写光刻点或线宽的薄膜结构及其制备方法
43. 光刻机工件台平衡定位系统
44. 角分辨分光光刻术的特性测定方法与设备
45. 浸没式光刻曝光系统及探测其中异物的方法
46. 用于光刻术的反射镜阵列
47. 光刻设备与器件制造方法
48. 凸点光刻机的曝光方法
49. 光刻法
50. 计量工具、含光刻设备、计量工具的系统、确定衬底参数的方法
51. 光刻设备和器件制造方法
52. 垂向微调及重力补偿装置与光刻机
53. 光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置及方法
54. 由透镜组组成的光刻机曝光镜头的结构及装调方法
55. 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法
56. 用于光刻的涂料组合物
57. 位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法
58. 清洗方法、器件制造方法、清洗组件和装置、光刻装置
59. 用于光刻技术加工的表面涂层
60. 紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置
61. 光刻设备和装置制造方法
62. 光刻误差的计算方法
63. 一种提高光刻技术分辨率的方法
64. 一种光刻衍射图像防伪薄膜及其制备方法
65. 光刻设备、校准方法、器件制造方法和计算机程序产品
66. 使用浸没式光刻工艺制造半导体器件的方法
67. 光刻设备和装置制造方法
68. 光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法
69. 光刻设备和制造装置的方法
70. 光刻装置以及器件制造方法
71. 综合式直写光刻方法
72. 光刻定位自组装填充方法
73. 光刻处理单元和器件制造方法
74. 光刻装置及器件制造方法
75. 光刻装置及器件制造方法
76. 组件、调节系统、光刻装置和方法
77. 光刻用清洗剂或冲洗剂
78. 等离子体显示板电极的薄膜光刻制造方法及其产品
79. 位移测量系统、光刻装置和器件制造方法
80. 光刻装置和器件制造方法
81. 光刻装置和器件制造方法
82. 用于光刻的组合物和方法
83. 用于移动部件的系统和方法、光刻设备和器件制造方法
84. 用于增强的光刻图案化的方法和系统
85. 光刻装置、控制系统和器件制造方法
86. 增强光刻对准的系统和方法
87. 一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法
88. 非晶硅太阳能电池周边电极绝缘激光刻蚀的处理方法
89. 光刻装置、器件制造方法和可更换的光学元件
90. 用光蚀刻制成的EDM电极
91. 光刻设备及装置的制造方法
92. 光刻装置和平台装置
93. 用于减少浸入式光刻中的污染物的装置和方法
94. 一种超分辨i线光刻装置
95. 光刻设备和器件制造方法
96. 光刻机投影物镜波像差测量装置及方法
97. 放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备
98. 光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法
99. 清洁设备和浸没式光刻设备
100. 浸没光刻设备和器件制造方法
101. 光刻方法和设备
102. 光刻设备、工作台系统和工作台控制方法
103. 光刻工艺窗口模拟的方法和系统
104. 光刻设备和器件制造方法
105. 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
106. 用于测量光刻投影设备的聚焦的方法
107. 具有主动阻尼组件的光刻设备
108. 用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置
109. 一种用于光刻机的浸没自适应气体密封装置
110. 对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法
111. 一种利用劳埃镜实现无掩模表面等离子体干涉光刻的装置
112. 一种三次光刻实现的TFT像素结构及其制作方法
113. 表面等离子体共振曝光光刻方法
114. 多通道非晶硅太阳能板激光刻膜机
115. 光刻设备以及器件制造方法
116. 衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备
117. 光学刻录装置及其刻录功率控制方法
118. 一种用于光刻机浸没控制装置
119. 手持式可移动激光刻码机
120. 光刻装置的浸没损坏控制
121. 位置测量系统和光刻设备
122. 光刻投射装置
123. 利用微纳光纤进行直写光刻的方法
124. 为浸没光刻提供流体的装置和方法
125. 太阳能薄膜电池激光蚀刻设备及蚀刻方法
126. 一种光刻物镜
127. 激光刻线除尘装置及操作方法
128. 光刻机掩模预对准系统
129. 包括具有复合载体的洛仑兹致动器的光刻设备
130. 使用光刻制造具有内部光学路径的电路化衬底的方法
131. 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
132. 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
133. 一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置
134. 用于光刻机的浸没液体回收减振控制装置
135. 用于光刻机的浸没自适应密封控制装置
136. 基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法
137. 一种预涂感光蚀刻印刷版的制作方法
138. 光刻方法及掩模装置
139. 光刻投射装置
140. 双面压印光刻系统
141. 用于多路激光刻划机的光功率均衡器
142. 光刻设备和器件制造方法
143. 液晶板实现掩膜版载体的光刻装置
144. 光刻版夹具
145. 光刻机曝光系统
146. 直写式光刻机曝光控制系统
147. 一种光刻机曝光系统及其控制方法
148. 光刻装置和器件制造方法
149. 一种光刻机同步触发在线诊断方法及系统
150. 光刻系统
151. 光刻设备和污染物去除或防止方法
152. 控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品
153. 光刻用防护薄膜组件
154. 具有编码器型位置传感器系统的光刻设备
155. 光刻照明装置
156. 用于光刻设备的工件台
157. 光刻照明装置及照明方法
158. 平面反射式复眼冷光源曝光系统及其光刻机
159. 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法
160. 辐射检测器及其制造方法和包含辐射检测器的光刻设备
161. 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置及方法
162. 探针诱导光刻薄膜
163. 具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备
164. 用于光刻机浸没控制装置
165. 用于步进光刻机对准系统的测校装置及其测校方法
166. 一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
167. 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统
168. 光刻设备、控制方法以及标定方法
169. 一种微光刻照明光瞳的整形结构
170. 一种半导体材料上的光刻标记及其制作方法
171. 具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机
172. 具有LED光源的直写光刻机
173. 在基板上或中制造结构的方法及由此获得的器件、使子光刻图案反相的方法、成像层
174. 光刻设备和传感器校准方法
175. 光刻设备和方法
176. 一种用激光刻划透明电极的弱光型非晶硅太阳能电池的制造方法
177. 一种用于光刻设备对准系统的对准标记结构
178. 一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统
179. 用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记
180. 一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法
181. 光刻工艺的进行方法及半导体制造的方法
182. 光刻设备的探测装置、探测方法及制造方法
183. 一种纳米光刻对准系统
184. 一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法
185. 一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置
186. 一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置
187. 光刻装置及器件制造方法
188. 光刻装置和器件制造方法
189. 检验方法和设备、光刻处理单元和器件制造方法
190. 测量系统、光刻设备和测量方法
191. 光刻设备和方法
192. 光刻设备和方法
193. 器件制造方法、计算机程序和光刻设备
194. 台系统和包括这种台系统的光刻设备
195. 深紫外光刻制作“T”型栅的方法
196. 用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
197. 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法
198. 光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法
199. 探针诱导光刻薄膜及其制备方法
200. 一种可改善图形质量的光刻方法
201. 带有热斑激光刻蚀环的硅太阳能电池及其制备方法
202. 一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法
203. 用于多路激光刻划机的光功率均衡器
204. 确定前馈传递函数的方法、光刻设备和器件制造方法
205.光刻装置和器件的制造方法
206.用于阵列式集成电路光刻系统的版图编码方法
207.制造器件的光刻法
208.控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
209.用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法
210.夜间可视荧光刻度温度计