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1. 掩模板玻璃衬底制造方法、掩模板制造方法、掩模制造方法、掩模板玻璃衬底、掩模板和掩模
2. 图案形成方法和灰度掩模制造方法
3. 光掩模、使用该光掩模的图案形成方法及该光掩模的掩模数据编制方法
4. 光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法
5. 使用双图案形成的半导体装置的制造方法及掩模
6. 光掩模的检查方法、光掩模的制造方法、电子部件的制造方法、测试掩模及测试掩模组
7. 硅结晶掩模、结晶硅的装置及使用其的方法
8. 掩模原版和利用掩模原版测量掩模原版旋转误差的方法
9. 光掩模、光掩模的制成方法以及使用该光掩模的图案形成方法
10. 掩模图案校正装置和掩模图案校正方法、掩模制备方法和半导体器件生产方法
11. 用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法
12. 掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法
13. LSI掩模制造系统、LSI掩模制造方法及LSI掩模制造程序
14. 掩模处理装置、掩模处理方法、程序和掩模
15. 光掩模用基板及其制造方法、光掩模坯料及光掩模
16. 光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备
17. 光掩模图形数据生成方法、用此数据生成的光掩模及用此掩模的半导体器件制造方法
18. 电路图形曝光方法和在其中使用的掩模
19. 掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系统
20. 掩模版用透光性基板的制造方法、掩模版的制造方法、曝光用掩模的制造方法、半导体装置
21. 可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具
22. 掩模框和使掩模固定在掩模框上的方法
23. 掩模组件以及使用该掩模组件的掩模框组件
24. 掩模板提供系统、掩模板、掩模板透明基片的制造方法
25. 光掩模设备、光掩模制造方法和掩模图案形成方法
26. 光掩模坯料和光掩模及它们的制造方法、光掩模中间体及图案的复制方法
27. 形成掩模坯板用抗蚀剂下层的膜的组合物、掩模坯板和掩模
28. 精细掩模及使用精细掩模形成掩模图案的方法
29. 空白掩模和使用该空白掩模制造光掩模的方法
30. 制造掩模坯料用基板、掩模坯料及掩模的方法
31. 曝光掩模及利用该曝光掩模形成光刻胶图形的方法
32. 多层硅微机械结构的掩模-无掩模腐蚀技术
33. 制作用于电子束绘图的电子束掩模的方法和制作该掩模的装置
34. 掩模半成品和掩模的制造方法
35. 曝光用掩模以及采用该曝光用掩模的曝光方法
36. 具有膜面保护层的光掩模原版、其制造方法及光掩模原版用的保护层形成液
37. 模版掩模及模版掩模的形成方法
38. 电子束曝光掩模和用该掩模制造半导体器件的方法
39. 基于网络的光掩模数据输入接口和用于制造光掩模的指令生成器
40. 提供生产有机发光二极管装置的结合掩模的定位掩模部分
41. 掩模以及使用该掩模的化合物半导体装置的制造方法
42. 制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法
43. 无铬膜与相转移混合式光掩模的制造方法和使用该掩模的照相腐蚀制造方法
44. 光学晶体制法、掩模、掩模制法及光学器件制法
45. 可缩短光掩模制造周期的光掩模供给系统
46. 掩模图形形成方法、计算机程序产品和光掩模制作方法
47. 光掩模的掩模设计数据的出售方法
48. 掩模制造掩模编程ROM方法，装置，计算机编程产品，可读存储介质
49. 光掩模的制造方法、光掩模、图形转印方法
50. 灰调掩模缺陷检查方法及装置和光掩模缺陷检查方法及装置
51. 用母掩模在中间掩模上形成IC芯片的图形用的曝光方法
52. 掩模以及使用掩模的制造方法
53. 电路图形的分割方法、型板掩模的制造方法、型板掩模及曝光方法
54. 光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件
55. 掩模及其制造方法、采用该掩模的半导体装置的制造方法
56. 图案复制掩模、半导体装置制造方法及掩模图案制作用程序
57. 图形转印用光掩模的图形布局方法及图形转印用光掩模
58. 形成凸缘相移掩模及利用凸缘相移掩模来形成半导体器件的方法
59. 曝光用转写掩模及曝光用转写掩模的图形更换方法
60. 曝光掩模图形的形成方法,曝光掩模图形,以及半导体器件的制作方法
61. 蒸发掩模和采用此掩模来制造有机场致发光器件的方法
62. 掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置
63. 掩模图形产生方法及掩模图形产生装置
64. 光掩模、电子器件的制造方法及光掩模的制造方法
65. 光掩模、光掩模的制造方法和电子元件的制造方法
66. 选择制造光掩模的掩模制造商的方法
67. 光掩模的制造方法和使用该光掩模的半导体装置制造方法
68. 灰调掩模的制造方法和灰调掩模
69. 金属掩模和使用该金属掩模印刷无铅焊膏的方法
70. 印刷掩模及使用该掩模的电子零件的制造方法
71. 灰色调掩模的缺陷检查方法和灰色调掩模的制造方法
72. 制备电容器装置中的硬质掩模的方法及用于电容器装置中的硬质掩模
73. 衰减相移掩模坯体和光掩模
74. 中间掩模用基板及其制造方法,以及光刻掩模板及其制造方法
75. 图形尺寸校正装置及方法、光掩模以及试验用光掩模
76. 曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法
77. 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法
78. 中间掩模版保持器和中间掩模版的组件
79. 光掩模及其制造方法和使用光掩模的半导体装置制造方法
80. 衰减相移掩模坯件和光掩模
81. 用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置
82. 一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法
83. 光刻装置，器件制造方法，掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法
84. 装置制造方法,掩模组,数据组,掩模图案化方法及程序
85. 光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序
86. 配向膜印刷掩模用架具及利用该架具清洗配向膜印刷掩模的装置和方法
87. 构成用于腐蚀FINFET的硅翅的最终硬掩模的三掩模方法
88. 灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
89. 波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法
90. 反射型光掩模坯料、反射型光掩模及半导体装置的制造方法
91. 用于半导体器件制造的掩模图形及形成掩模图形的方法以及制造精细地构图的半导体器件的方法
92. 光刻机掩模预对准系统
93. 提供通过不同相移孔径的平衡光强度的相移掩模及形成这种相移掩模的方法
94. 光掩模坯料及光掩模
95. 检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模
96. 合成石英玻璃制成的光掩模基片和光掩模
97. 在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法
98. 光掩模和传递光掩模基片相关信息的方法
99. 数据处理方法、数据处理装置、掩模制造方法和掩模图案
100. 掩模成膜方法，掩模
101. 修正掩模图案的方法、光掩模和半导体器件及其制造方法
102. 半色调掩模及制造方法和采用该掩模制造显示器件的方法
103. 光掩模和采用该光掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法
104. 用于沉积的掩模和制造该掩模的方法
105. 多曝光半导体制造掩模组及制造这种多曝光掩模组的方法
106. 光掩模坯料、光掩模及其制造方法
107. 光掩模的制造方法和利用光掩模制造半导体器件的方法
108. 用于掩模板的透明基片及掩模板
109. 灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
110. 激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法
111. 光学掩模及利用该掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法
112. 掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法
113. 掩模及其制造方法、掩模芯片及其制造方法以及电子设备
114. 一种采聚太阳能的掩模片及采用掩模片的太阳能装置
115. 印刷掩模及使用该掩模的电子零件的制造方法
116. 掩模坯料及光掩模
117. 反射型光掩模基板及其制造方法、反射型光掩模、半导体器件的制造方法
118. 掩模底板及光掩模
119. 采用独立掩模误差模型的掩模验证系统和方法
120. 光掩模及用来在光掩模上形成非正交特征的方法
121. 光掩模和使用该光掩模的曝光方法
122. 使用蚀刻掩模堆叠的多掩模处理
123. 用于多中间掩模处理的中间掩模对准和覆盖
124. 灰阶掩模用坯料、以及采用该坯料的灰阶掩模以及该坯料的制造方法
125. 灰阶掩模用坯料、以及采用该坯料的灰阶掩模以及该坯料的制造方法
126. 使用利文森型掩模的图形形成方法及该掩模的制造方法
127. 光掩模以及使用光掩模制造液晶显示器件阵列基板的方法
128. 印刷电路板制造方法、印刷电路板用光掩模及光掩模生成程序
129. 离子注入掩模及其制造方法,使用离子注入掩模的碳化硅半导体器件及其制造方法
130. 激光加工用掩模和激光加工方法
131. 光掩模坯、光掩模及其制作方法
132. 光掩模制造方法、器件制造方法及光掩模监测方法
133. 用于极远紫外光刻的反射掩模和制作该反射掩模的方法
134. 光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统
135. 相位偏移光掩模坯料、相位偏移光掩模及其制造方法
136. 光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法
137. 掩模坯料及其透明基片的制造方法,曝光掩模的制造方法
138. 掩模、掩模的制造方法、图案形成装置、图案形成方法
139. 灰调掩模的制造方法及灰调掩模
140. 掩模、掩模的制造方法、图形形成方法、布线图形形成方法
141. 半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法
142. 扫描型曝光装置、微元件的制造方法、光掩模、投影光学装置以及光掩模的制造方法
143. 遮光部件及其制法、使用了该遮光部件的膜及光掩模
144. 掩模基板及光掩模
145. 有机硅烷聚合物和含有该聚合物的硬掩模组合物以及使用有机硅烷硬掩模组合物制造半导体装置的方法
146. 无掩模曝光装置
147. 用于丝网印刷的掩模以及使用该掩模的丝网印刷方法
148. 光掩模检测方法与在线即时光掩模检测方法
149. 像素沟道区的掩模版及用该掩模版形成的薄膜晶体管
150. 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
151. 光掩模基板和光掩模
152. 光掩模的制造方法和相移掩模的制造方法
153. 去除光掩模中雾的装置及除去光掩模中雾的方法
154. 曝光掩模及使用该曝光掩模制造半导体器件的方法
155. 掩模和采用该掩模的沉积装置
156. 掩模坯板和掩模
157. 具有自掩模层的光掩模及其刻蚀方法
158. 用于形成精细图案的掩模及形成掩模的方法
159. 用于掩模对准的透射对准标记组合及其掩模对准方法
160. 一种改进的CPL掩模及产生CPL掩模的方法和程序产品
161. 被校正的光掩模对准误差及校正光掩模的对准误差的方法
162. 掩模及其制造方法和用该掩模制造微透镜的方法
163. 光掩模基板以及光掩模制作方法
164. 四级光掩模制造方法和其中所使用的光掩模坯料
165. 光掩模衬底容器单元、光掩模衬底运输及曝光方法
166. 灰色调掩模的缺陷修正方法与灰色调掩模
167. 掩模成膜方法及掩模成膜设备
168. 光掩模的缺陷检查方法以及光掩模
169. 灰色调掩模的制造方法和灰色调掩模以及图案转印方法
170. 灰色调掩模板及灰色调掩模及它们的制造法、图案复制法
171. 光掩模的制造方法、图案复制方法、光掩模以及数据库
172. 用于半导体器件的掩模及使用所述掩模的图案化方法
173. 光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法
174. 光掩模和光掩模的制造方法
175. 灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模
176. 灰阶掩模的缺陷修正方法、灰阶掩模及其制造方法
177. 掩模坯料的制造方法及光掩模的制造方法
178. 光掩模以及利用该光掩模制造图像传感器的方法
179. 灰阶掩模的缺陷修正方法和制造方法、灰阶掩模及图案转印方法
180. 灰阶掩模的缺陷检查方法及装置及其制造方法、光掩模的缺陷检查方法、图案转印方法
181. 光刻方法及掩模装置
182. 灰阶掩模的缺陷修正方法和制造方法以及灰阶掩模
183. 一种用于光掩模的护罩以及用于使用光掩模的方法
184. 无掩模被覆金属的方法
185. 应用侧壁及去除技术制做亚微米掩模窗口的方法
186. 制造具有复盖能力的焊接掩模涂层的紫外固化组合物
187. 制作用于把图象投影的光掩模的方法及装置
188. 制造图象增强管校正掩模的方法
189. 用背面曝光和非镜面反射层光刻形成自对准掩模的方法
190. 空间投影无掩模光刻园柱形线圈法
191. 一种Ｘ射线图形掩模
192. 光掩模板
193. 设有显影速度测量图的光掩模及测量显影速度匀度的方法
194. 半色调式相移掩模及其制备方法
195. 制造半色调式相移掩模的方法
196. 高密度掩模式只读存贮体
197. 一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法
198. 掩模数目减少的MOS栅控器件生产工艺
199. 相移掩模
200. 用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法
201. 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
202. 光掩模坯料
203. 采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版
204. 用于半导体器件中的曝光掩模
205. 相移掩模及其制造方法
206. 用于制造半导体器件的光掩模的制造方法
207. 光掩模及其制造方法
208. 漂白的掩模
209. 一种掩模原版及用其测量挡板设定精度的方法
210. 测量曝光装置分辨率用的光掩模
211. 用于存贮和输送光掩模的设备和方法
212. 掩模、成膜方法、发光装置以及电子设备