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1. 掩模版
2. 移相掩模的制作方法
3. 相移掩模
4. 移相掩模及其制造方法
5. 制造光掩模的方法
6. 具有微调游标的光掩模
7. 半色调式相移掩模及其制造方法
8. 相移掩模及其制造方法
9. 检测相移掩模相偏差的方法
10. 具有流水线结构的高速同步掩模只读存储器
11. 带有环尺的掩模版
12. 移相掩模及其制造方法
13. 用于测定光传输系统中失真的眼图掩模的方法
14. 相移掩模及其制备方法
15. 用于检测透镜变形的掩模
16. 光掩模的图形结构
17. 监测缺陷用掩模
18. 制造曝光掩模的方法
19. 相移掩模及其制造方法
20. 半导体器件的曝光掩模及其制造方法
21. 用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺
22. 制造掩模只读存储器的方法
23. 相移掩模及其制造方法
24. 衰减镶嵌相移光掩模空白片
25. 光掩模坯
26. 激光掩模扫描器
27. 光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品及其制法
28. 能够光敏成型的液态焊料掩模的软包装件和分配设备
29. 带电束曝光掩模及带电束曝光方法
30. 含紫外反应聚合粘合剂的液态光聚合的焊接掩模组合物
31. 制造组合压电部件的方法及用于该方法的掩模
32. 清洗表面安装技术的金属掩模的方法
33. 用于制造半导体器件的接触掩模
34. 掩模图形数据产生方法
35. 振幅掩模和用其制作长周期光栅滤波器的装置
36. 包括有可变透光率的遮光层的掩模
37. 曝光用光掩模及其制造方法
38. 硬蚀刻掩模
39. 在掩模二氧化硅上钻孔的等离子蚀刻方法
40. 曝光图形掩模及其制造方法
41. 使用导电针用于光掩模的抗静电方法
42. 半导体衬底的对准掩模及其制造方法
43. 用单个掩模形成互补阱和自对准槽的方法
44. 用于带电粒子束的局部集团掩模
45. 分辨力自增掩模板
46. 多相掩模
47. 制造多电平掩模只读存储器的方法
48. 离轴照明掩模板
49. 立体幻灯框架与立体幻灯观察器以及平行校准图案掩模
50. 用具有不同散射能力的几个区域的掩模来制造半导体晶片的方法
51. 净化印刷电路板掩模或印刷电路板的方法和装置
52. 光掩模坯在保持装置中接地的方法
53. 通过掩模横向蔓生制作氮化镓半导体层的方法及由此制作的氮化镓半导体结构
54. 用于限制临界尺寸增大的硬掩模的方法
55. 一种高效防伪掩模式激光打标装置
56. 加强埋置沟道P场效应晶体管性能和可靠性的深麻点掩模
57. 掩模式只读存储器的程序化方法
58. 移相掩模及其制造方法
59. 灯具用涂敷掩模装置
60. 一种高效防伪掩模式激光打标装置
61. 掩模的制造方法
62. 扫描仪的光机模组的定位调整方法与掩模
63. 具有多个图案的五倍光掩模
64. 用易处理的硬掩模制作沟槽式电容器
65. 用激光显影掩模层对金属基体选择性镀覆方法及设备
66. 用单附加掩模注入操作制造双阈值电压N沟道和P沟道MOSFET的方法
67. 半导体集成电路器件、其制造方法和掩模的制作方法
68. 光掩模及其制作方法
69. 半导体器件和设计掩模的方法
70. 使用钛硬掩模刻蚀金金属层的方法和装置
71. 包含用于控制角落变圆的图形的掩模制作方法
72. 多层衰减相移掩模
73. 自扫描型发光装置的掩模图形设计方法
74. 掩模可配置的智能功率电路-应用和GS-NMOS器件
75. 激光打标机的掩模自动切换装置
76. 一种用于X射线光刻的相移掩模
77. 一种衰减相移掩模
78. 设计方法、掩模组、集成电路及其制造方法和存储介质
79. 对准管芯与柔性基板上的通孔掩模层的装置和方法
80. 用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法
81. 电子束写入方法、电子束刻蚀设备及其所用掩模
82. 掩蔽模的洗净方法及洗净装置
83. 曝光掩模及其制造方法以及半导体器件的制造方法
84. 电子束曝光掩模、曝光方法和设备及半导体器件制造方法
85. 印刷电路板及丝网印刷这种电路板的掩模
86. 用多晶硅掩模和化学机械抛光制造不同栅介质厚度的工艺
87. 衰减相移掩模及其制作方法
88. X光掩模板制造技术
89. 用于电子束曝光的掩模及制造方法和半导体器件制造方法
90. 减轻掩模制造中角部变圆的系统和方法
91. 改善工艺窗口的凸出增强掩模
92. 校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法
93. 采用眼图掩模进行检测的光传输系统
94. 蚀刻方法、由该方法制造的掩模、显示装置以及板状结构
95. 对准方法、套刻检查方法和光掩模
96. 衰减极端紫外相移掩模的制造方法
97. 用激光结晶化法加工衬底上半导体薄膜区域的方法和掩模投影系统
98. 刻蚀方法及在这种刻蚀中使用的框架部件、掩模及预制的基板部件
99. 采用人字形照射来照射光掩模的方法
100. 硬掩模的形成方法
101. 具有掩模层级的独立轮廓线绘制和高度字段定义功能的灵活的空气承载设计系统
102. 曝光控制光掩模及其形成方法
103. 使用空气影像仿真器来评估掩模影像的方法
104. 挤压成型全平掩膜用的铁-镍-钴合金、使用该合金的全平掩模和彩色显像管
105. 激光加工用掩模及其制造方法
106. 金属掩膜的制造方法及金属掩模
107. 形成光学图象的方法、用于本方法的掩模、用本方法制造器件的方法及实施本方法的设备
108. 照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模
109. 转印掩模的制造方法
110. 可更换导光板的扫描器光掩模装置
111. 光掩模的制造方法
112. 光掩模、其制造方法、图形形成方法及半导体装置的制造方法
113. 贴层状材料并且采用掩模以预定图案在基片上形成层的方法
114. 根据已接收的数据来选定光掩模的制造商的装置及其方法
115. 设计电子束掩模的方法和装置
116. 用一次光刻产生T形栅的移相掩模光刻方法
117. 用于制造显示面板的掩模
118. 用于束曝光的掩模及其制造方法
119. 半导体电路用光掩模的订货方法
120. 曝光装置、表面位置调节单元、掩模和器件制造方法
121. 图形形成材料和形成方法以及曝光用掩模的制造方法
122. 掩模设备
123. 光掩模组结构与微影制程
124. 具有自行对准金属硅化物组成单元的掩模式只读存储器的制造方法
125. 曝光掩模及其制造方法
126. 非着陆制作工艺及光学邻近效应修正光掩模图形的制作方法
127. 用于相移光刻掩模的光学接近校正
128. 双掩模沟槽肖特基整流器及其制造方法
129. 具有改进了的吸收层的远紫外线掩模
130. 三色调衰减相移掩模的自对准制造技术
131. 真空蒸镀用多面成形掩模装置
132. 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置
133. 含有二极管的掩模式只读存储器及其制造方法
134. 三维掩模编程只读存储器之只读存储元
135. 用于真空沉积有机电致发光器件薄膜的张力掩模组件
136. 掩模及其制法、场致发光装置及其制法以及电子机器
137. 用于轴外照射的光掩模及其制造方法
138. 组合静态随机存取存储器和掩模只读存储器存储单元
139. 掩模式只读存储器组件及其制造方法
140. 曝光掩模的图案修正方法和半导体器件的制造方法
141. 双位操作的掩模式只读存储器结构及其制造方法
142. 组合掩模及制造设备和方法，有机EL装置制造设备和方法
143. 经由网络进行远程检视掩模布局图的方法
144. 作为硬掩模层的抗反射含硅组合物
145. 光掩模以及用样板规范使其合格的方法
146. 光刻掩模制造
147. 采用在中央区域具有不变相位的相位掩模的改进调制传递函数的光学系统
148. 具有用于信息的空间立体和/或全息显示的前置掩模的平面显示器
149. 利用激光束和掩模制造抛光垫的方法
150. 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模
151. 识别在掩模层上的虚拟特征图形的系统和方法
152. 金属镶嵌极端远紫外线光刻术用交替型相移光掩模及制造方法
153. 掩模及其制造方法、场致发光装置及其制造方法以及电子机器
154. 一种适用于掩模与硅片对准后固定的夹紧机构
155. 半导体装置和半导体装置制造用掩模
156. 掩模交易系统及方法
157. 初缩掩模版和光学特性测量方法
158. 多色调光掩模及其制造方法
159. 对0相位区域附加并行线以增强透明电场相移位掩模的方法
160. 用于制造漫射体的复合掩模
161. 用于制造二元光掩模坯料的离子束沉积方法
162. 用于制造衰减相移光掩模坯的离子束沉积方法
163. 金属镶嵌极端远紫外线光刻技术用光掩模及其制造方法
164. 利用电子束诱导化学刻蚀修复掩模
165. 相移光刻掩模的设计和布局
166. 光刻掩模位相冲突的解决方法
167. 相移光刻掩模的曝光控制
168. 复合材料表面的导体或半导体部分无掩模局域化有机接枝的方法
169. 用于制造多层的衰减相移光掩模坯件的离子束淀积工艺
170. 提供掩模缺陷可印刷能力分析的系统和方法
171. 一种新型的掩模板设计制作结构
172. 指甲花掩模
173. 利用弹性体电镀掩模做为芯片级封装的方法
174. 用于对准掩模段的对准装置和方法
175. 光刻胶掩模及其制作方法
176. 水性碱可溶性树脂、感光性树脂组合物、光掩模和电子装置的制造方法
177. 光掩模及其应用
178. 掩模只读存储器的结构及其制造方法
179. 掩模式只读存储器的结构及其制造方法
180. 掩模图形制成方法及半导体装置的制造方法
181. 灰调掩模制作方法
182. 掩模式只读存储器的制造方法
183. 掩模交易系统及方法
184. 掩模及其制造方法和电致发光装置及其制造方法
185. 用单个掩模的浅沟道隔离方法
186. 应用于掩模式只读存储器编码注入的光刻工艺
187. 光掩模结构及其制造方法
188. 掩模式只读存储器的制造方法
189. 一种集成电路工艺中掩模板设计配置方法
190. 确定晶片对准标记外围辅助图形的方法及所用光刻胶掩模
191. 双位掩模式只读存储器的结构及其制造方法
192. 灰调掩模
193. 灰调掩模及其制造方法
194. 焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法
195. 高可靠性的封装电子元件的方法、封装结构和金属掩模
196. 曝光掩模的制造方法及其应用
197. 掩模式只读存储器低热预算制作工艺
198. 图案形成方法、用于该图案形成的曝光用的掩模及其制造方法
199. 掩模的制造方法
200. 一种制作任意折射率调制光纤光栅的插拔式振幅掩模板
201. 全息数据存储的相位掩模
202. 丝网印刷用金属掩模的制备方法
203. 光掩模保护膜系统和集成电路的制造方法
204. 光掩模及其制造方法和图案转印方法
205. 利用均匀纳米粒子点阵掩模提高厚膜GaN质量的方法
206. 光掩模清洗机的工艺处理舱
207. 光掩模清洗机的液体分配盘
208. 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法
209. 灰阶掩模及其缺陷修正方法、其制造方法、图案转印方法
210. 半色调掩模、制造方法和有源矩阵型显示设备
211. 具有集成相位掩模的全息存储介质
212. 遮光部件及其制法、使用了该遮光部件的膜及光掩模