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| 技术简介：铬退镀剂由氧化剂、缓蚀剂及其它助剂配制而成，常用于光学玻璃与金属真空铬镀层的脱除返工处理，具有快速渗透、和超强溶解铬镀层的能力，无残留，易漂洗，低气味，使用简单，不伤底材等特点。 应用领域：适用于各种金属材质、蓝宝石、陶瓷、手机面板，光学镜头，光学零部件等真空镀铬工件的返工处理。 市场前景：铬镀层具有优良的装饰性能和功能性能，真空镀铬是在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式将铬沉积在工件表面。真空镀铬相比传统湿法镀铬具有明显的优越性：真空镀铬层不仅附着力更好、致密度更高，而且具有优良的硬度及耐蚀性能，可以得到很薄的表面铬镀层。由于铬是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，所以避免了生产及废液处理过程中造成的环境污染。因此，真空镀铬在高科技产业化的发展中得到广泛应用。 镀铬工件在使用完毕或发现有瑕疵时通常需要进行退镀。目前，工业上主要使用电解法和化学法两种方法进行退镀铬。其中电解法由于不仅需要外加直流电源，工艺相对复杂；而且受电力线分布不均匀的影响，对工件难以均匀退镀，尤其对几何形状复杂的工件难有良好的退镀效果，因而更倾向于使用化学法。但是现有化学法还存在一些不足，比如：退铬速度缓慢、难以退镀干净及环境污染大的问题，严重影响了工业生产效率。 本铬退镀剂快速高效退铬；制备方法简单易控，易于产业化。 本铬退镀剂配方采用氧化剂、促进剂、稳定剂、缓蚀剂以及水配制，温度范围为30～50℃，退铬速度1～2μm/min，退铬时间不但比同类产品缩短50％以上，且退镀干净而不伤基材，退铬过程中无气体产生，减小了对环境的污染。低温条件下仍具有良好的退铬效果，降低了对能源的消耗。本真空镀铬快速退铬技术稳定、性能优良，在高科技产业化的发展中有着广泛的应用前景。 技术服务：铬退镀剂（退铬液）配方生产技术280元，提供原料介绍、生产配方、工艺流程、退铬方法等，包括真空镀铬快速退铬液的配制及在真空镀铬快速退铬液中退真空镀铬层的方法。 |
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