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1. 高电阻透明导电膜用溅射靶及高电阻透明导电膜的制造方法 2、我们只提供专利技术资料的检索服务，不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备，暂时也不提供市场方面的信息服务。
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2. 溅射靶及其制造方法
3. ZnS-SiO溅射靶及使用该靶而形成了ZnS-SiO
4. 用于形成相变化型光盘保护膜的溅射靶及使用该靶形成了相变化型光盘保护膜的光记录媒体
5. ITO溅射靶
6. 制备溅射靶材料的方法
7. 阴极溅射靶以及这类靶的制造方法
8. 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
9. 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
10. 溅射靶用镍基镍铜铬锰系电阻合金
11. 集成式溅射靶组合件
12. 溅射靶-用于阴极溅射制造透明导电层
13. 磁光合金溅射靶
14. 机械连接式溅射靶及其适配器
15. 铝或铝合金溅射靶
16. 溅射靶/底板组件的制造方法
17. 溅射靶,用其制成的抗铁磁材料膜和磁阻效应器件
18. 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
19. 溅射靶及其制备方法
20. 具有析出相强化背板的扩散连接溅射靶组件及其制造方法
21. 制备高纯铜溅射靶的方法
22. 含混合稀土元素高阻溅射靶材
23. 对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
24. 烧结氧化物溅射靶组件
25. 包层的中空阴极磁控管溅射靶的制造方法
26. 溅射靶
27. 溅射靶
28. 锌锡合金溅射靶
29. 用于截头圆锥形溅射靶的高靶利用率磁性装置
30. 高纯钽及如溅射靶的含高纯钽的制品
31. 溅射靶及其制造方法
32. 制备组分渐变薄膜的磁控溅射靶
33. 光信息记录介质用反射层或半透明反射层、光信息记录介质和光信息记录介质用溅射靶
34. 铟锡氧化物溅射靶
35. 溅射靶、透明导电氧化物和制备该溅射靶的方法
36. 铟锡氧化物溅射靶
37. 用于-Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置
38. 深锅状铜溅射靶及其制造方法
39. 具有高各向异性合金和氧化物化合物的组合物的磁介质和溅射靶
40. 溅射靶及制造方法
41. Co—Fe—Zr系合金溅射靶材及其制造方法
42. Al-Ni-La体系Al-基合金溅射靶及其制备方法
43. 用于溅射靶的PTF测量自动化的方法和装置
44. 溅射靶及其制造方法
45. 溅射靶及其制造方法、以及光学记录介质及其制造方法
46. 特别用于溅射靶、管状阴极等的制造的基于铜-铟-镓合金的镀膜材料
47. IZO溅射靶的制造方法
48. 溅射靶用氧化铬粉末及溅射靶
49. 钌合金溅射靶
50. 嵌套式溅射靶及其制造方法
51. 溅射靶及光信息记录介质用薄膜
52. 氧化镓-氧化锌系溅射靶、透明导电膜的形成方法及透明导电膜
53. 氧化镓-氧化锌系溅射靶、透明导电膜的形成方法及透明导电膜
54. 导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法
55. 光盘及Cu合金记录层用溅射靶
56. 全密度Co-W磁性溅射靶
57. 溅射靶和制造具有多种材料的溅射靶的方法
58. AI-基合金溅射靶及其制备方法
59. In·Sm氧化物系溅射靶
60. 溅射靶、其制造方法以及透明导电膜
61. 微粒发生少的含Mn铜合金溅射靶
62. 控制含有磁性和非磁性元素的溅射靶中的漏磁通
63. 电致发光元件中的荧光体膜形成用高强度溅射靶
64. 光记录介质、溅射靶和偶氮金属螯合物染料
65. 一种平面磁控溅射靶
66. 真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源
67. 一种平面磁控溅射靶
68. 同轴磁控溅射靶
69. 合金成分可调的平面磁控溅射靶
70. 透明导电膜平面磁控溅射靶板
71. 圆柱型平面式磁控溅射靶
72. 永磁式平面磁控溅射靶
73. 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶
74. 磁控溅射靶的制造方法及该方法使用的模具
75. 溅射靶及其制造方法
76. 用来形成光记录媒体保护膜的溅射靶和该靶的制造方法以及用该靶形成保护膜的光记录媒体
77. 高强溅射靶及其制造方法
78. 信息记录介质及其生产方法和溅射靶子
79. 高纯金属Mo粗粉与由其制得的烧结溅射靶
80. 废弃溅射靶的修复
81. 金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
82. 以硫化锌作为主成分的溅射靶、使用所述靶形成有以硫化锌作为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质、以及所
83. 相变型存储器用溅射靶、使用所述靶形成的相变型存储器用膜及所述靶的制造方法
84. 溅射靶及光信息记录介质及其制造方法
85. 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
86. 溅射靶、溅射反应器、形成铸锭及形成金属体的方法
87. 平板显示器用Ag基合金配线电极膜、Ag基合金溅射靶
88. ITO溅射靶用氧化锡粉末、该粉末的制造方法、用于形成ITO膜的烧结体溅射靶及该靶的制造方法
89. 具有改进表面结构的溅射靶材
90. 钽溅射靶及其制造方法
91. 掺杂B/C/N/O/Si溅射靶的制备
92. 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
93. 涂布以钛化合物薄膜的制品、制备该制品的方法和用于涂布该薄膜的溅射靶
94. 溅射靶材料及其生产方法
95. 溅射靶及光记录介质
96. 溅射靶及光记录介质
97. 铜溅射靶和形成铜溅射靶的方法
98. 可延展的金属间溅射靶的制造方法
99. 溅射靶及其制备方法
100. 溅射靶、其制造方法、以及形成了相变化型光盘保护膜的光记录媒体
101. Ag基合金薄膜及Ag基合金薄膜形成用溅射靶
102. 高纯镍的制造方法、高纯镍、由该高纯镍构成的溅射靶及通过该溅射靶形成的薄膜
103. 氧化物烧结体和溅射靶，以及用作电极的透明导电氧化物膜的制备方法
104. 电子器件及其制造方法、溅射靶
105. 由一种硅基合金制造一种溅射靶的方法、溅射靶及其应用
106. Pt-Co基溅射靶
107. 锰合金溅射靶及其制造方法
108. ZnS-SiO溅射靶及使用该靶形成了ZnS-SiO相
109. 带凹槽的溅射靶
110. 溅射靶和透明导电膜
111. 环形溅射靶
112. 用于制造溅射靶的方法
113. 溅射靶材
114. 溅射靶材
115. 形成钛基和锆基混合金属材料的方法和溅射靶
116. 溅射靶、透明导电膜及它们的制造方法
117. 特定拓扑结构的溅射靶
118. 银合金溅射靶及其制造方法
119. Ag-Bi基合金溅射靶及其制备方法
120. 溅射靶材和透明导电薄膜
121. 含碳的溅射靶合金组合物
122. 溅射靶、从该溅射靶形成的介电膜以及用于形成该介电膜的方法
123. 光学信息记录介质中使用的记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶
124. AI-Ni-稀土类元素合金溅射靶
125. 显示器和用于制备该显示器的溅射靶
126. 溅射靶以及该溅射靶的表面精加工方法
127. Ag系溅射靶及其制造方法
128. 整体式溅射靶组件
129. 氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
130. 溅射靶的控制冷却
131. 半反射膜或反射膜，光学信息记录介质和溅射靶材
132. 溅射靶及使用该靶的溅射方法
133. Ta溅射靶及其制造方法
134. 回收溅射靶中废组分的方法
135. 增强的溅射靶合金组合物
136. 高纯镍、由其构成的溅射靶及通过该靶形成的高纯镍薄膜
137. 用于光学信息记录介质的半反射膜和反射膜，光学信息记录介质以及溅射靶
138. 复合溅射靶和磷光体淀积的方法
139. 形成溅射靶组件的方法及由此制成的组件
140. 溅射靶及其制备方法
141. 镍合金溅射靶
142. 制造溅射靶的方法
143. 用于改进的磁性层的溅射靶材料
144. Ge-Cr合金溅射靶及其制造方法
145. 溅射靶及其制备方法
146. 光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材
147. 溅射靶、光信息记录介质用薄膜及其制造方法
148. 溅射靶及其制造方法和光信息记录介质用薄膜及其制造方法
149. 溅射靶用背衬板
150. 相变型信息记录媒体及其制法、溅射靶以及相变型信息记录媒体的使用方法及光记录装置
151. 溅射靶及其制备方法
152. 铜合金薄膜、铜合金溅射靶和平板显示器
153. 用于溅射靶的金属坯件的形成方法
154. 铜合金溅射靶、其制造方法以及半导体元件布线
155. 钽溅射靶及其制造方法
156. 光记录介质的反射层形成用的银合金溅射靶
157. 用于一个溅射靶的冷却背板和由多个背板组成的溅射靶
158. 溅射靶、用于制造溅射靶的方法、溅射装置和液体喷射头
159. 非晶透明导电膜及其原料溅射靶、非晶透明电极衬底及其制造方法、及液晶显示器用滤色器
160. Pt-Co基溅射靶
161. 溅射靶及其制造方法
162. 溅射靶的制造方法及溅射靶
163. 用于评估溅射靶/背衬板组件的结合界面的热成像测试方法和装置
164. ITO溅射靶
165. 溅射靶及其制造方法
166. 一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶及其应用方法
167. 银合金、其溅射靶材料及其薄膜
168. 溅射靶及使用其的Si氧化膜的制造方法
169. 溅射靶和其制造方法
170. 空心阴极型溅射靶的包装装置及包装方法
171. 铝基溅射靶
172. 光学信息记录介质的银合金反射膜,所用的银合金溅射靶,和光学信息记录介质
173. 长寿命溅射靶
174. 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
175. 钽溅射靶
176. 溅射靶制造用焊接合金及使用其制造的溅射靶
177. 增强的含氧化物溅射靶合金组合物
178. 增强的磁控溅射靶
179. 增强型溅射靶合金成分
180. 增强溅射靶的制造方法
181. 光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶,以及光学信息记录介质
182. 光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶和光学信息记录介质
183. 光学记录介质及其生产方法、溅射靶、光学记录介质的使用方法和光学记录装置
184. 溅射靶的制造方法
185. 氧化铟-氧化锡粉末和使用该粉末的溅射靶以及氧化铟-氧化锡粉末的制造方法