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1. 一种用于浅沟槽隔离技术的化学机械抛光工艺 2、我们只提供专利技术资料的检索服务,不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备,暂时也不提供市场方面的信息服务。
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2. 半导体器件的制造方法
3. 离子束抛光工艺中面形收敛精度的控制方法
4. 实时抛光工艺监视
5. 半导体器件的制造方法、抛光方法及抛光装置
6. 使用改进自动校准接触工艺在半导体中形成电接触的方法
7. 形成用于衬底的凸起触点的方法
8. 化学机械抛光装置及其控制方法
9. 用于形成半导体器件中的金属布线的方法
10. 降低浅沟绝缘化学机械抛光工艺造成的晶片伤害的方法
11. 硅单晶衬底材料表面粗糙度的控制方法
12. 包括沟道层的半导体器件的制造方法
13. 一种中大口径非球面光学元件的高效数控抛光工艺及设备
14. 离子束抛光工艺中坐标映射误差的修正方法
15. 离子束抛光工艺修形能力的评价方法
16. 聚氯乙烯釜内壁镜面加工新工艺
17. 烧结金属滤砂器及制造方法
18. 容器内表面电解机械复合抛光工艺
19. 水晶项链小孔抛光工艺及设备
20. 金属表面抛光溶液及抛光工艺
21. 半导体器件的制造方法
22. 用化学机械抛光的平整步骤制造半导体器件的方法
23. 抛光方法和抛光装置
24. 古木陶及其烧制工艺
25. 直径2英寸非掺《111》磷化镓单晶片抛光工艺
26. 半导体器件清洗装置和清洗半导体器件的方法
27. 不锈钢机动车车轮生产工艺
28. 具有波形槽的化学机械抛光垫
29. 具有孔和/或槽的化学机械抛光垫
30. 景泰蓝结构的化学机械抛光中的终点检测
31. 磷化铟单晶片的抛光工艺
32. 用于化学机械抛光装置的托架头
33. 用于控制衬底的化学机械式抛光的方法及装置
34. 用于加工滚珠丝杠的螺母的方法
35. 半导体器件内形成铜引线的方法
36. 合金元素添加钨氧化物电极材料及其制备工艺
37. 一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法
38. N<100>衬底扩散、抛光工艺
39. 铜化学-机械抛光工艺用抛光液
40. 在半导体器件中形成铜引线的方法
41. 人造玛瑙石坐便器成型工艺
42. 附着在固体上并用于增强CMP配方的形成自由基的活化剂
43. 制造半导体器件接触插塞的方法
44. 基于硅硅键合的全干法深刻蚀微机械加工方法
45. 硅晶片的制造方法
46. 一种用于镜结构的化学机械抛光方法
47. 一种阳极铜球的制备方法及其装置
48. 涂层超导体镍基带的电化学抛光工艺方法
49. 汽车铝合金轮毂磨光、抛光工艺适于高精度平面化的化学机械抛光方法
50. 一种不锈钢化学抛光方法
51. 抛光方法及在该抛光方法中使用的抛光膜
52. 用于浅沟槽隔离的化学/机械抛光方法
53. 用于监控CMP抛光方法的方法和用于CMP抛光方法的装置
54. 化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置
55. 微电子专用螯合剂的使用方法
56. 表面抛光方法及其设备
57. 铜片衬底的半固着磨粒抛光方法
58. 平面不锈钢的半固着磨粒抛光方法
59. 一种改进的化学机械抛光方法
60. 常压等离子体抛光方法
61. 可生物降解镁合金血管支架体的加工制备方法
62. 超超临界钢的组织显示方法
63. 铜锌合金表面的电抛光方法
64. 半导体器件的制造方法
65. 抛光法U形槽隔离技术
66. 磁头抛光方法及其抛光机和该方法生产的磁头
67. 利用超声振动的电火花磨削抛光方法及设备
68. 一种晶状饰品钻孔内的抛光方法
69. 一种新型的小管径内径抛光方法
70. 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
71. 抛光方法和设备
72. 不锈钢设备动态电解复合抛光方法
73. 水轮发电机镜板的研磨、抛光方法
74. 基片的抛光方法及其抛光装置
75. 半导体晶片的抛光方法和装置
76. 一种玻璃自由曲面复合回转式抛光方法及其工具
77. 化学机械抛光方法及其设备
78. 半导体或绝缘材料层的机械-化学新抛光方法
79. 铜基材料表层的机械化学抛光方法
80. 铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法
81. 使用双面抛光装置的半导体晶片抛光方法
82. 物理化学的电子束抛光方法
83. 能高精度地控制抛光时间的抛光方法和抛光装置
84. 电解抛光方法
85. 不锈钢电化学研磨(抛光)方法
86. 抛光方法和设备
87. 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
88. 抛光装置及抛光方法
89. 用于图形化双波纹互连的三层掩膜结构
90. 抛光方法及研磨液
91. 工件表面抛光方法
92. 钛及钛合金制品的等离子体抛光方法
93. 金属基板化学-机械抛光方法
94. 金刚石材料抛光方法
95. 半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液
96. 一种铸铁锅表面的抛光工艺及其精致铸铁锅
97. 一种制备高纯稀土长余辉块体材料的方法
98. 铝化学机械抛光的方法与结构
99. 集成电路器件的化学机械抛光的终点检测方法
100. 一种量子阱红外探测器焦平面的制备方法
101. 微晶玻璃与不锈钢材料的超低温阳极键合方法
102. 抛光工艺的控制方法
103. 化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺
104. 移除栅极上的金属硅化物层的方法及蚀刻方法
105. 形成隔离膜的方法
106. 玻化纤瓷板的抛光方法及抛光装置
107. 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
108. 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
109. 具有通向周围空气的沟道或路径的有槽压板
110. 用电子束曝光和化学机械抛光工艺制备纳电子存储器的方法
111. 形成半导体器件的金属线的方法
112. 圆型针织机针筒表面优化的制造方法
113. 混合式化学机械抛光工艺的线上控制方法
114. 使用化学机械抛光工艺制作自对准接触焊盘的方法
115. 制作半导体器件的方法
116. 齿槽类模具齿顶圆弧抛光工艺
117. 不锈钢印刷电路板精密抛光工艺
118. 用于形成低介电常数氟掺杂层的方法
119. 应用于化学机械抛光工艺的抛光头及化学机械抛光方法
120. 计算机硬盘基片抛光速率的控制方法
121. 计算机硬盘基片粗糙度的控制方法
122. 蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法
123. 蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法
124. 补偿STI氧化物处理之后膜的非均匀性的去垢方法
125. 防止CMP过程中产生钻石刮痕的方法
126. 半导体元件及其制造方法
127. 一种马氏体不锈钢保持架电抛光工艺
128. 具有压电谐振器的压电谐振装置形成方法
129. 用于形成钨图案的浆料组合物以及使用其制造半导体器件的方法
130. 实现多位单元的非易失性半导体存储元件及其制造方法
131. 平坦化半导体装置的薄层的方法
132. 闪速存储器件的栅极的形成方法
133. 基板抛光方法、半导体装置及其制造方法
134. 大米精加工冷抛光工艺
135. 离子束抛光加工结果的预测预报方法
136. 非易失性存储器的制造方法
137. 圆筒抛光方法和圆筒抛光设备
138. 平行度小于1秒的晶体几何中心偏离机器转轴中心的抛光方法
139. 实现单面抛光的双面无蜡抛光方法
140. 场效应晶体管的制造方法
141. 抛光方法
142. 用于光纤连接器端面的超声机械复合研磨抛光方法及装置
143. 有机膜的化学机械抛光及制造半导体器件的方法
144. 薄膜磁头中的介质相对表面的抛光方法
145. 金刚石膜高速精密抛光装置及抛光方法
146. 超声波磁流变复合抛光方法及装置
147. 一种机械化学抛光方法
148. 化学机械抛光方法以及与其相关的洗涤/冲洗方法
149. 一种以含氟硅玻璃作为介电质的半导体后端连线方法
150. 不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
151. 在具有深槽图形的硅基衬底上制作硅薄膜的方法
152. 一种球面高质量大面积金刚石厚膜的抛光方法及装置
153. 高压大功率低压差线性集成稳压电源电路的制造方法
154. 一种不锈钢显微组织的观察方法
155. 玻化纤瓷板的抛光方法及抛光装置
156. 电弧放电光纤研磨截面高精度抛光方法及装置
157. 抛光刷,抛光方法,抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法
158. 抛光方法和抛光装置以及用于控制抛光装置的程序
159. 铜板与铝板连接减小接触电阻的方法
160. 化学机械抛光用的化学改性抛光垫
161. 磨料团聚体抛光方法
162. 浮力磨粒球抛光技术
163. 大直径高硬度6H-SiC单晶片的表面抛光方法
164. Ⅱ-Ⅵ族半导体材料保护侧边缘的表面抛光方法
165. 控制和消除硅气相外延层雾状微缺陷的方法
166. 分步化学机械抛光方法
167. 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
168. 高密度碳化物的超级抛光
169. 具有形貌图案化的膜的膜介导的电抛光
170. 一种磷化镓晶片双面抛光方法
171. 一种光学圆柱棒的抛光方法
172. 珍珠母贝韧带工艺品及其制作方法
173. 用于流体抛光的方法和装置
174. 基于磁流变效应的研磨抛光方法及其抛光装置
175. 化学机械抛光以及利用其制造半导体器件的方法
176. 铝酸锂晶片的抛光方法
177. 化合物半导体衬底及其抛光方法、外延衬底及其制造方法
178. 塑料机的除污抛光方法和除污抛光料
179. 红外非球面光学零件的大模具抛光方法
180. 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法
181. 金刚石膜的抛光方法
182. 一种晶片的抛光方法
183. 测定金属材料基体内化学成分的方法
184. 降低厚度变化的化学机械抛光方法及半导体器件制备方法
185. 一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法
186. 表面抛光方法及装置
187. 一种中温珍珠抛光方法
188. 大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光方法及装置
189. 高纯铝在超声搅拌下的电化学抛光方法
190. 基板抛光方法、半导体装置及其制造方法
191. 水晶球抛光方法及装置
192. 晶片抛光方法与晶片抛光设备
193. 激光玻璃机械化学抛光方法
194. 半导体材料的电解抛光方法及装置
195. 衬底抛光方法
196. 稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光方法
197. 金刚石膜的固态稀土金属高速抛光方法