1、以下所有专利技术资料集成在一起提供(电子文档，可以打印)。★什么是专利全文,点击这里查看专利说明书样板!
2、我们只提供专利技术资料的检索服务，不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备，暂时也不提供市场方面的信息服务。
3、专利技术资料均为国家专利全文说明书。含技术配方、加工工艺、质量标准、专利发明人、权利要求书、说明书附图等。
4、交付方式：款到发货，即时发到您的电子邮箱中。汇款购买、联系方式
1. 溅射靶、使用该溅射靶的光学薄膜及其制造方法、以及光学记录介质 2、我们只提供专利技术资料的检索服务，不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备，暂时也不提供市场方面的信息服务。
3、专利技术资料均为国家专利全文说明书。含技术配方、加工工艺、质量标准、专利发明人、权利要求书、说明书附图等。
4、交付方式：款到发货，即时发到您的电子邮箱中。汇款购买、联系方式
2. 一次写入多次读取的光学记录介质及其溅射靶
3. 氧化铟-氧化锡粉体和利用该粉体的溅射靶
4. 溅射靶和光信息记录介质及其制造方法
5. 溅射靶和光信息记录介质及其制造方法
6. 减小溅射靶中热应力的方法
7. 薄膜晶体管及薄膜晶体管基板及它们的制造方法及使用了它们的液晶显示装置及相关的装置及方法以及溅射靶及使
8. 光学信息记录介质用记录层和溅射靶及光学信息记录介质
9. 高纯度Ru粉末、烧结该高纯度Ru粉末得到的溅射靶以及用该靶溅射得到的薄膜和高纯度Ru粉末的制造方法
10. 溅射靶和光信息记录介质及其制造方法
11. 表面缺陷少的溅射靶及其表面加工方法
12. 一种制备溅射靶材料的方法
13. 氧化铟-氧化铈类溅射靶及透明导电膜以及透明导电膜的制造方法
14. 一种制造溅射靶材的模锻工艺及其模锻挤压模具
15. 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
16. 含多组分氧化物的增强的溅射靶合金组合物
17. 使用基于钽合金的溅射靶的增强晶种层的淀积
18. 溅射靶和光信息记录介质及其制造方法
19. 织构化晶粒粉末冶金钽溅射靶
20. 溅射靶及通过旋转轴向锻造形成该溅射靶的方法
21. 溅射靶
22. 溅射靶
23. 溅射靶用靶材的制造方法
24. 高完整性溅射靶材以及其批量制造方法
25. 氧化物烧结体及其制造方法,以及溅射靶及透明导电膜
26. 柔性铜衬底用阻挡膜和用于形成阻挡膜的溅射靶
27. 用定向凝固法制造的磁性溅射靶
28. 具有高熔相的溅射靶
29. 钌合金磁介质和溅射靶
30. 溅射靶及其制造方法、和追记型光记录介质
31. 相变型存储器用溅射靶的制造方法
32. 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
33. 钼溅射靶
34. Co-Cr-Pt-B类合金溅射靶
35. 用于制造金属玻璃膜的溅射靶及其制造方法
36. 溅射靶、以及接合型溅射靶及其制作方法
37. 磁介质中的软磁衬层和基于软磁合金的溅射靶
38. 溅射靶、溅射靶-背衬板组装体以及成膜装置
39. Sb-Te系合金烧结体溅射靶
40. 氢分离膜、氢分离膜形成用溅射靶及其制造方法
41. 烧结用Sb-Te系合金粉末及其制造方法和烧结该粉末得到的烧结体溅射靶
42. 溅射靶、溅射反应器、形成铸锭及形成金属体的方法
43. 烧结体、溅射靶和成型模及使用该成型模的烧结体的制造方法
44. 等离子体溅射靶材装置及其制造方法
45. 氧化铟-氧化锌-氧化镁类溅射靶及透明导电膜
46. SnO类溅射靶及其制造方法
47. 金属双层结构体及其制造方法以及使用该方法的溅射靶材的再生方法
48. 通过微波烧结制备高密度陶瓷和金属陶瓷溅射靶
49. 溅射靶、透明导电膜及透明电极
50. 记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶
51. 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
52. 溅射之前溅射靶的预处理
53. 氧化物材料及溅射靶
54. 溅射靶、透明导电膜及透明电极
55. 实时监测和控制溅射靶的腐蚀
56. 溅射靶、透明导电膜和触摸板用透明电极
57. 作为用于垂直磁记录的溅射靶的具有或不具有氧化物的Ni-X、Ni-Y和Ni-X-Y合金
58. 溅射靶、低电阻率透明导电膜、该膜的制备方法及用于该方法的组合物
59. SiOx:Si溅射靶材及其制造及使用方法
60. 一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶
61. 显示器和用于制备该显示器的溅射靶
62. 材料混合物、溅射靶、该溅射靶的制备方法以及该材料混合物的用途
63. 多组分合金溅射靶及其制备方法
64. 旋转圆柱磁控溅射靶
65. 一种旋转磁控溅射靶
66. 用于制造或再加工溅射靶和X-射线阳极的涂覆方法
67. 超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶
68. 形成溅射靶组件的惯性结合方法及由此制成的组件
69. 溅射靶及氧化物烧结体的制造方法
70. 氧化镓-氧化锌类溅射靶、透明导电膜及其形成方法
71. 一次写入多次读取的光学记录介质及其溅射靶
72. 氧化锌类的非晶质薄膜用溅射靶材及其制造方法
73. 一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺
74. 脆性金属合金溅射靶及其制造方法
75. 透明绝缘膜及其制造方法、以及溅射靶
76. 光记录介质用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成这些半透明反射膜和反射膜的Ag合金溅射靶
77. 多孔叠层金属或合金溅射靶材的制备方法
78. 超高纯NiPt合金和包括该合金的溅射靶
79. Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶及其制备方法
80. 溅射靶结构体
81. 溅射靶、溅射靶材及其制造方法
82. 改良溅射靶应用
83. Ag基合金溅射靶及其制造方法
84. Ag-基合金溅射靶
85. 含有高熔点金属的烧结体溅射靶
86. 氧化锌系透明导体以及该透明导体形成用溅射靶
87. 颗粒产生少的磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶的制造方法、及磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶
88. 高纯钽及如溅射靶的含高纯钽的制品
89. 改进溅射靶组件的排气槽
90. 溅射靶及其制备方法
91. Ag系溅射靶及Ag系薄膜
92. 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
93. 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
94. 一种由纯金属拼接的平面溅射靶
95. 冷压溅射靶
96. 透明导电膜及其制造方法以及用于其制造的溅射靶材
97. 具有基于TiO的溅射材料的溅射靶及其制备方法
98. 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
99. 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
100. Cu-Mn合金溅射靶及半导体布线
101. 制造可旋转溅射靶的方法
102. 溅射靶/背衬板接合体
103. 可旋转溅射靶
104. 具有受控焊锡厚度的溅射靶组件
105. 制造溅射靶的方法和所制造的靶产品
106. 氧化锌系透明导体及该透明导体形成用溅射靶以及该溅射靶的制造方法
107. CoCrPt系溅射靶及其制造方法
108. 一种制备铜溅射靶材的方法
109. 溅射靶的制造方法、溅射靶的洗涤方法、溅射靶及溅射装置
110. 信息记录介质及其制造方法、和用于形成信息记录介质的溅射靶
111. 一种半导体及显示器用高纯铜溅射靶材的制造方法
112. 一种改善磁场分布的平面磁控溅射靶
113. 信息记录介质及其制造方法、以及溅射靶
114. Sb-Te基合金烧结体溅射靶
115. 一种用于贵重金属镀膜的磁控溅射靶
116. SnO系溅射靶和溅射膜
117. Al-Ni-B系合金溅射靶材
118. 由高熔点金属合金、高熔点金属硅化物、高熔点金属碳化物、高熔点金属氮化物或高熔点金属硼化物这些难烧结物
119. 溅射靶及其制造方法
120. 显示装置用Al合金膜、显示装置以及溅射靶材
121. 一种用于超高真空的磁控溅射靶以及靶中磁体的制备工艺
122. 溅射靶及氧化物半导体膜
123. SnO系溅射靶
124. 陶瓷的制备方法、由此制得的陶瓷及其尤其是作为溅射靶的用途
125. 光学记录介质及其制造方法以及溅射靶及其制造方法
126. 旋转式磁控溅射靶
127. 扫描聚焦磁控溅射靶
128. 一种磁控溅射靶
129. 一种多元素溅射靶材结构
130. 一种旋转式圆柱磁控溅射靶
131. 一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶
132. 一种制造溅射靶材的挤压模锻挤压模具
133. 应用于平板电器的单块溅射靶组件及使用其的溅射装置
134. 磁控溅射靶结构及设备
135. 多元素溅射靶材结构
136. 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
137. 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极
138. 形成含铝物理气相沉积靶的方法;溅射薄膜;和靶的构成
139. 用于真空镀膜设备溅射阴极的靶及其制造方法
140. 溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
141. 溅射涂层设备用的靶中的阴极/接地屏蔽配置
142. 光磁记录介质、溅射用靶及溅射用靶的制造方法
143. 真空溅射系统阴极靶的粘接方法
144. 镍钴铬铝硅铪钇/铝梯度涂层及双靶溅射工艺
145. 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
146. 利用对靶型溅射装置制造有机薄膜器件的方法
147. 采用ZnOx陶瓷靶磁空溅射的新型膜系结构玻璃及工艺
148. 双靶共溅射制备Zr掺杂ITO薄膜的方法
149. 溅射用靶装置
150. 多用对向靶溅射仪
151. 立式真空溅射镀膜机多靶镀膜室
152. 温度可控型双对靶新型薄膜溅射仪
153. 用于生产复合薄膜的靶子相互面对的箱形溅射装置和方法
154. 用于多靶溅射的方法和装置
155. 溅射用靶、溅射装置及溅射方法
156. 光记录介质及其制造方法以及用于溅射工艺的靶
157. 光记录介质及其制造方法以及用于溅射工艺的靶
158. 多对靶薄膜溅射仪
159. 溅射金刚石靶材及其制造方法
160. 对向靶溅射装置和有机电致发光显示装置的制造方法
161. 用于溅射的非结合可旋转靶
162. 用于溅射一个可旋转靶管的阴极装置
163. 通过利用镜子形成的靶溅射设备制造有机发光器件的方法
164. 操作具有靶的溅射阴极的方法
165. 靶组合体以及具有该靶组合体的溅射装置
166. 利用粉末状靶材制备碲化铋薄膜的单靶溅射方法
167. 靶材料及其在溅射过程中的应用
168. 用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件
169. 一种用于可转动靶材溅射设备的端块
170. 具有冷却靶的溅射
171. 用于溅射源的靶
172. 高纯度Ru合金靶及其制造方法以及溅射膜
173. 制造钼钛溅射板和靶的方法
174. 半导体装置、其制造方法以及用于该制造方法的溅射用靶材
175. 一种溅射镀膜用高硅含量硅铝合金靶材及其制备方法
176. 一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备
177. 对向靶反应溅射外延四氧化三铁薄膜的设备及操作方法
178. 对向靶反应溅射多晶四氧化三铁薄膜的设备及操作方法
179. 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
180. 多对靶薄膜溅射仪
181. 滑轨往复式对靶溅射加热传动装置
182. 溅射式镀膜机用靶材结构
183. 滑块往复式对靶溅射加热传动装置
184. 改良的磁溅射圆柱靶