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1. 用于利用磁场形成金属薄膜的溅射装置 2、我们只提供专利技术资料的检索服务，不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备，暂时也不提供市场方面的信息服务。
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2. 用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法
3. 固定薄膜溅射用衬底的装置及用此装置来固定衬底的方法
4. 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
5. 金属线溅射膜的清洗工艺
6. 一种在光纤光栅上溅射钯膜的温度补偿氢敏感装置
7. 溅射装置及其电极和该电极的制造方法
8. 反射层、具有反射层的光学记录介质和用于形成反射层的溅射标板
9. 溅射降低的荧光灯
10. 有机发光器件结构中具有重碱金属卤化物的溅射阴极
11. 在基底上喷镀材料用的溅射装置
12. 在基片上溅射沉积的设备
13. 溅射成膜装置
14. 能热处理的、耐久的、红外反射的溅射镀膜玻璃及其制造方法
15. 放电极外套挡溅射套的气体放电灯
16. 离子溅射泵
17. 匹配的、可热处理的、耐久的、不反射的溅射镀膜玻璃及其制造方法
18. 溅射离子泵
19. 离子溅射渗金属工艺
20. 溅射碳膜的装置和方法
21. 溅射太阳能选择性吸收涂层
22. 制备半导体化合物薄膜的射频溅射法
23. 金属合金氧化物的溅射薄膜
24. 耐久的金属合金氧化物溅射薄膜
25. 溅射源用的充气器
26. 用于制造超导氧化物材料的溅射装置及方法
27. 金属合金氧化物的中性溅射薄膜
28. 用离子束反应溅射方法成膜的装置
29. 溅射氧化铁薄膜的制备
30. 硅器件芯片背面银系溅射金属化
31. 溅射磁光记录用多层膜的改进工艺方法
32. 改进了的可热处理溅射镀膜玻璃层系
33. 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
34. 多等离子体束溅射共沉积装置
35. 溅射法沉积难熔金属碳化物纳米晶
36. 太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法
37. 溅射电极
38. 控制准直溅射源的方法
39. 耐久的溅射金属氧化物镀层
40. 自动测试断路器接地故障和溅射电弧的跳闸单元
41. 太阳能真空集热管溅射选择性吸收涂层
42. 用于与射频反应溅射的钛-钨和金微电路互连的抗电迁移的金属化结构
43. 一种共溅射固体润滑薄膜
44. 磁性管溅射装置
45. 半导体器件、制造该半导体器件的方法以及溅射装置
46. 直流等离子体寻址结构中用于阴极电极的具有增强电子发射的抗溅射导电涂层
47. 溅射方法和溅射设备
48. 直流等离子体寻址结构中的抗溅射低脱出功的阴极电极导电涂层
49. 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
50. 淀积膜的方法和溅射设备
51. 双室离子束溅射淀积系统
52. 溅射镀膜装置
53. 溅射装置及用其制造半导体器件的方法
54. 溅射高熔点金属用的溅射设备和有高熔点金属的半导体器件的制造方法
55. 用于溅射或电弧蒸发的设备
56. 溅射装置的模拟方法
57. 用于制造BEOL布线的小接触通孔的高生产率Al-Cu薄膜溅射工艺
58. 溅射截面的模拟方法
59. 离子化溅射材料的方法和设备
60. 具有带永磁配置结构的阴极的溅射装置
61. 用于溅射设备的电源装置
62. 用于溅射的电源装置和使用该装置的溅射设备
63. 溅射太阳能选择性吸收涂层及其制造方法
64. 轻质无溅射防弹防暴玻璃的制造方法
65. 溅射铜用自离化的等离子体
66. 制造光滑电极和具有改进存储保持的薄膜铁电电容器的DC溅射工艺
67. 溅射装置
68. 用于真空溅射沉积薄膜的设备
69. 真空多元溅射镀膜方法
70. 离子溅射泵
71. 溅射方法
72. 防溅射型万向导液漏斗
73. 一种冷阴极溅射制备薄膜的方法及装置
74. 一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法
75. 溅射沉积装置和方法
76. 一种采用共溅射沉积法制备碲化铋合金薄膜的方法
77. 激光溅射电离冷聚焦直交式飞行时间质谱仪
78. 溅射装置及成膜方法
79. 溅射镀膜离子束辐照增强方法
80. 太阳能集热管反应溅射电压反馈智能控制方法及装置
81. 一种射频溅射制备织构化钛酸锶钡介电陶瓷薄膜的方法
82. 金属溅射低温制备结晶TiO膜的方法
83. 再溅射铜籽晶层
84. 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
85. 溅射源用的充气器
86. 离子剥离溅射仪
87. 离子束溅射沉积薄膜压力传感器
88. 具有溅射电极的电容薄膜压力传感器
89. 立式玻璃移动溅射镀膜装置
90. 微型冷阴极溅射离子泵
91. 用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构
92. 真空溅射镀膜机
93. 轻质无溅射防弹防暴玻璃
94. 离子束溅射镀膜机
95. 离子束溅射沉积薄膜压力传感器
96. 溅射离子泵电源漏磁变压器
97. 反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置
98. 中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置
99. 滚动转盘式超微粉表面溅射包覆纳米金属复合膜装置
100. 具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置
101. 多节立式开合真空溅射离子镀炉
102. 溅射型应变式合金薄膜压力传感器
103. 带吸气剂的溅射离子复合泵
104. 一种三极溅射离子泵结构
105. 用于溅射淀积的双源单腔的方法和设备
106. 溅射法在硅基片上制备高巨磁电阻效应纳米多层膜及其制备方法
107. 阴极溅射设备
108. 溅射源、溅射装置和溅射方法
109. 用于在溅射薄膜中产生均匀、各向同性应力的方法和装置
110. 防溅射蹲式马桶
111. 互连结构上溅射蚀刻之原位金属阻障沉积
112. 一种细长管筒内表面溅射沉积涂层方法
113. 溅射成膜装置
114. 用于直流溅射的电极模板及微图形化方法
115. 用于溅射和再溅射的自离子化和电感耦合的等离子体
116. 圆盘状基板用溅射装置、该装置中的基板卡夹方法,及用该装置的圆盘状记录介质的制造方法
117. 溅射装置、利用溅射的薄膜形成方法、以及使用该装置的盘形记录媒体制造方法
118. 用于控制溅射沉积过程的系统和装置
119. 用于溅射和再溅射的自离子化及电感耦合等离子体
120. 制备残余应力优化涂层的溅射方法和设备
121. 溅射TiO使聚合物微流芯片表面改性的方法
122. 带有磁电管和目标物的溅射设备
123. 放电电源、溅射电源、以及溅射装置
124. 溅射装置及形成薄膜的方法
125. 溅射方法及其装置
126. 用于反应溅射的设备
127. 用于真空溅射处理机的阴极
128. 钼基溅射高压极板及制备方法
129. 一种溅射纳米多层膜各膜层模板的套准装置及方法
130. 一种钛合金表面共溅射沉积羟基磷灰石(HA)/钛(Ti)梯度生物活性层的方法及其制品
131. 溅射装置及溅射成膜方法
132. 太阳能真空集热管溅射选择性光吸收膜形成方法
133. 耐久的溅射金属氧化物镀层
134. 真空多弧溅射五层结构信号极板及方法
135. 偏压溅射薄膜成形方法及偏压溅射薄膜成形设备
136. 用溅射技术进行人工器官表面处理的方法
137. 一种利用金属阴极溅射的有机发光器件结构
138. 用于其结构中含碱金属化合物的有机发光器件的溅射阴极
139. 一种减少金属线A空洞的金属线溅射膜工艺
140. 薄膜的制造方法及溅射装置
141. 溅射电源单元
142. 在半导体衬底上溅射保护涂层的方法
143. 电磁双重屏蔽膜的溅射制备方法
144. 溅射装置及溅射成膜方法
145. 溅射金属汽相淀积期间的冷凝物声流
146. 溅射离子泵的电源驱动方法
147. 真空溅射制备柔性导电材料的工艺方法
148. 溅射离子泵的磁组件
149. 用于涂覆作业的溅射阴极
150. 高纯镍/钒溅射构件和制备溅射构件的方法
151. 多边滚筒溅射装置及其溅射方法、由其形成的被覆微粒子
152. 银合金反射膜、溅射目标及使用该膜的光学信息记录介质
153. 超薄金属氧化物膜的反应溅射沉积方法
154. 具有气体喷射组件的溅射装置
155. 制造磁隧道结中氧化镁隧道势垒的反应溅射沉积方法
156. 真空溅射阴极
157. 用于溅射铝-钕合金的组合件
158. 陶瓷基片溅射铜箔生产方法
159. 溅射沉积薄膜的均匀固溶体合金
160. 溅射离子泵及其制造方法以及带有溅射离子泵的图像显示装置
161. 带有溅射膜电极的电感骨架及其生产方法
162. 溅射膜电极贴片电感及其生产方法
163. 电子陶瓷连续式溅射镀膜设备
164. 磁电管溅射源的滑动阳极
165. 通过多向变形形成溅射制品的方法
166. 溅射源和溅射装置
167. 用于溅射系统的控制系统
168. 在溅射处理系统中的等离子体转换的控制
169. 溅射沉积中硒化银膜化学计量比和形态控制
170. 利用长程溅射制作液晶取向膜的方法
171. 调制功率信号以控制溅射的系统和方法
172. 用于大面积衬底的低压溅射
173. 溅射源、包含该溅射源的装置以及用其制造平板的方法
174. 溅射离子泵
175. 溅射装置和溅射方法
176. 溅射装置和溅射方法
177. 利用液体环境中的激光溅射沉积工艺进行纳米组装的方法及其应用
178. 用于溅射过程的阴极管
179. 溅射电极以及具有溅射电极的溅射装置
180. 利用电磁场约束电感耦合等离子体溅射沉积法制备ZnO基稀磁半导体薄膜
181. 制作溅射目标的方法
182. 将溅射源和偏压功率频率施加到工件上的金属等离子体汽相沉积和再溅射的设备
183. 一种提高膜厚均匀性的离轴溅射控制方法
184. 低温双离子束溅射Ge/Si多层膜自组织Ge量子点的制备方法
185. 低生长束流下离子束溅射技术自组织生长Ge量子点的方法
186. 带有管状阴极的溅射设备和这种溅射设备的操作方法
187. 溅射源、溅镀装置、薄膜的制造方法
188. 一种溅射薄膜高温压力传感器
189. 表面溅射有Ti-Ta-C-O复合膜的医用TiNi形状记忆合金及其制备方法
190. 电磁波屏蔽织物的真空溅射镀膜和化学镀膜复合制造方法及其产品
191. 用于涂敷衬底的溅射室
192. 等离子体溅射成膜方法及成膜装置
193. 等离子体溅射成膜方法和成膜装置
194. 适用于快闪存储器的高密度钌纳米晶的溅射沉积制备方法
195. 溅射设备及其驱动方法以及使用该设备制造基板的方法
196. 提高AIN介质薄膜反应直流溅射速率的自动控制方法
197. 溅射装置及其驱动方法以及使用该装置制造基板的方法
198. 溅射蚀刻金属层所用窗口保护器
199. 溅射装置和成膜方法
200. 利用溅射工艺制造薄膜天线的方法
201. 一种溅射镀膜装置和方法
202. 通过溅射沉积涂层的方法
203. 利用长程溅射制作液晶取向膜的方法
204. 柔性衬底上室温溅射沉积氧化铟锡透明导电薄膜的方法
205. 溅射薄膜形成方法、电子器件制造方法以及溅射系统
206. 用于冗余阳极溅射的方法和系统
207. 改善物理溅射工艺稳定性的方法
208. 节能高效太阳能集热管镀膜机反应溅射拐点电压控制方法
209. 等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置
210. 太阳能集热管连续自动溅射镀膜方法及装置
211. 制作至少一个溅射涂覆基板的方法及溅射源
212. 在衬底上沉积层的溅射涂覆装置以及方法
213. 溅射方法及溅射装置
214. 溅射方法及装置
215. 真空溅射系统的阴极
216. 溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置及其工作方法
217. 在大面积基材上反应性溅射氧化锌透明导电氧化物
218. 滚筒法溅射成形装置
219. 基片支承装置及包含该基片支承装置的溅射设备
220. 溅射装置以及溅射方法
221. 一种高功率密度激光溅射电离飞行时间质谱仪及其应用
222. 溅射设备
223. 用在塑材上溅射金属中定位的夹具
224. 一种具有密排尖端阳极的溅射设备
225. 用于溅射装置端块的插件
226. 高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法
227. 溅射镀膜装置
228. 溅射涂覆装置
229. 含有溅射沉积钝化层的光伏器件及其生产方法和生产设备
230. 背板的制造方法、背板、溅射阴极、溅射装置、及背板的清洗方法
231. 一种ECR等离子体溅射装置的腔体结构
232. 溅射设备及其控制方法
233. 溅射阴极、溅射设备、控制设备、成膜方法及制造方法
234. 由高熔点金属合金、高熔点金属硅化物、高熔点金属碳化物、高熔点金属氮化物或高熔点金属硼化物这些难烧结物
235. 用于溅射装置的固定环及溅射装置
236. 一种改进的小孔径溅射板天线
237. 双面溅射真空卷绕连续镀膜设备
238. 无框架溅射式细水雾喷头
239. 大尺寸柱状中空溅射阴极
240. 双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备
241. 大功率溅射镀膜源
242. 一种新型平面溅射阴极
243. 溅射离子泵的电源
244. 用于管道内壁面的溅射镀膜装置
245. 移动式溅射泵
246. 一种在光纤锥圆表面溅射Pd膜氢敏感探头
247. 多段式反应溅射气体进气装置
248. 大型多功能真空溅射离子注入机
249. 移动磁极式扫描溅射源
250. 一种应用于溅射系统中的密排尖端阳极
251. 可变轨迹的传送轨道及太阳能集热管连续溅射镀膜机
252. 一种可用于制备具有成分梯度的薄膜材料的梯度溅射装置
253. 一种可降低成本的溅射镀膜设备
254. 溅射薄膜的厚度均匀性修正装置
255. 溅射金属膜机台
256. 镀膜溅射传动辊道快拆结构及其使用的快拆联轴器
257. 等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置
258. 低辐射镀膜玻璃溅射保护槽型底板