化学抛光液/金属表面抛光液/不锈钢抛光液专利技术

1. 抛光液传输设备
2. 一种数控抛光用气封抽液非接触式喷液磨头
3. 处理Ⅲ族氮化物晶体表面的方法和Ⅲ族氮化物晶体衬底
4. 一种不锈钢显微组织的观察方法
5. 一种数控抛光用非接触式轮状喷液磨头
6. 金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
7. 一种改进的化学机械抛光方法
8. 铝型材抛光液无能耗简易回收法
9. 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
10. 减水表面粗糙度的半导体晶片的粗抛方法
11. 直径2英寸非掺《111》磷化镓单晶片抛光工艺
12. 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
13. 真空辅助垫清理系统及采用开孔清理盘的方法
14. 大尺寸砷化镓单晶结构的缺陷检测方法
15. 微电子专用螯合剂的使用方法
16. 抛光液恒温输送装置
17. 可长时稳定抛光液性能的磁流变抛光液循环装置
18. 铜和铜合金表面钝化处理方法
19. 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
20. 抛光眼镜片的方法和设备
21. 以化学、机械和/或电解方法从微电子衬底上除去材料的方法和装置
22. 涂层超导体镍基带的电化学抛光工艺方法
23. 可选择性阻隔金属的抛光液
24. 硬盘新型玻璃基片的制作方法
25. 一种数控抛光用非接触式喷液磨头
26. 超声波磁流变复合抛光方法及装置
27. 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
28. 钛镍合金电化学抛光液
29. 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
30. 用于电化学-机械抛光的方法和装置
31. 化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置
32. 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
33. 高精度抛光液及其生产方法、用途
34. 高精度复合抛光液及其生产方法、用途
35. 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
36. 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法
37. 一种制取多孔氧化铝膜的强烈阳极氧化法
38. 一种晶片的抛光方法
39. H62黄铜抛光液及其制备方法
40. 1060铝板与MB3镁合金板接头金相试样的制备方法
41. 一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆液
42. 阻挡层用抛光液
43. 多组分阻挡层抛光液
44. 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
45. 可生物降解镁合金血管支架体的加工制备方法
46. 大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光方法及装置
47. 抛光轮基布及其抛光轮的制作方法
48. 一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液
49. 金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法
50. 复合滚筒抛光加工方法及其装置
51. 金相试样自动磨制抛光机
52. 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
53. 金属表面抛光液
54. 抛光方法和抛光装置
55. 改进抛光垫结构的抛光机
56. 化学机械平面化的方法、设备和浆液
57. 无汞碱性锌锰电池负极集流体铜钉镀铟方法
58. 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
59. 超大规模集成电路多层铜布线用化学机械全局平面化抛光液
60. 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
61. 抛光液组合物
62. 微珠去栅极毛刺法
63. 铜和阻障层之整合化学机械抛光的方法和设备
64. 一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法
65. 铝电解电容器用低压阳极箔的表面纳米布孔方法
66. 抛光方法及在该抛光方法中使用的抛光膜
67. 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
68. 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
69. 抛光设备和抛光集成电路金属层的两步方法
70. 抛光液
71. 阻挡层抛光溶液
72. 测察铝电解电容器用电极箔微观形貌的制样方法
73. 大直径高硬度6H-SiC单晶片的表面抛光方法
74. 分步化学机械抛光方法
75. 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
76. 一种通过减薄阻挡层制备多孔氧化铝的方法
77. 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
78. 一种含有混合磨料的低介电材料抛光液
79. 用于抛光低介电材料的抛光液
80. 高效高精度蓝宝石抛光液及其制备方法
81. 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
82. 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法
83. 一种钨抛光液及其制备方法
84. 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
85. 一种用于砷化镓晶片的抛光液及其制备方法
86. 一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法
87. 抛光工件的抛光设备和方法
88. 抛光液体
89. 超大规模集成电路多层布线SiO2介质的纳米SiO2磨料抛光液
90. 磁流变柔性精磨抛光设备和方法
91. 超大规模集成电路铝布线抛光液
92. ULSI多层铜布线化学机械抛光中平整度的控制方法
93. ULSI多层铜布线化学机械抛光中粗糙度的控制方法
94. 电子玻璃的纳米SiO*磨料抛光液
95. 硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法
96. 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
97. 蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法
98. 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
99. 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
100. 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
101. 用于大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液
102. 蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法
103. 一种改进型抛光垫调节器工艺
104. 一种马氏体不锈钢保持架电抛光工艺
105. 一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量方法
106. 一种纳米固体反应器的制备方法
107. 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法
108. 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
109. 金属抛光液和抛光方法
110. CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置
111. 一种强取向双轴织构的镍-铜金属基带层的制备方法
112. 激光玻璃机械化学抛光方法
113. 低粘度稳定的非水基磁流变抛光液及其配制方法
114. 用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置
115. 磁流变抛光液流变性测试装置
116. 用于GaAs晶片的机械化学抛光方法
117. 锗酸铋(BGO)单晶的表面抛光技术
118. 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
119. 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
120. 焊丝镀铜高防锈处理工艺
121. 金属表面抛光溶液及抛光工艺
122. 晶片抛光装置
123. 不锈钢抛光液
124. 改进的抛光垫及其相关的方法
125. 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
126. 一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
127. 纳米级抛光液及其制备方法
128. 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
129. 抛光液组合物
130. 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
131. 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
132. 磷化铟单晶片的抛光工艺
133. 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
134. 化学抛光液
135. 深结硼衬底扩散抛光片
136. 用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法
137. 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
138. 一种化学机械抛光液
139. 一种电池铜针滚镀铟方法
140. 二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法
141. 光学蓝宝石晶体基片的研磨工艺
142. 氮气弹簧活塞杆的加工工艺
143. 用于电化学机械抛光的抛光垫
144. 自动供液抛光机
145. 具有边缘表面处理的抛光垫片
146. 一种机械化学抛光方法
147. 制造显示设备的方法
148. 抛光液和抛光有色金属材料的方法
149. 钛合金制品的脉冲电化学光整加工方法
150. 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
151. 化学机械抛光浆液
152. 制造用于磁记录介质的硅基底的方法、用于磁记录介质的硅基底、磁记录介质以及磁记录装
153. 化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法
154. 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
155. 水基金刚石抛光液及其制备方法
156. 化学机械抛光液
157. 化学机械抛光液及其用途
158. 共面栅阳极碲锌镉探测器的制备方法
159. 圆形平顶凹型球面四孔宝玉石纽扣的制作方法
160. 提高不锈钢焊缝耐蚀性的方法及所用的装置
161. 抛光液以及抛光Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体晶片的方法
162. 抛光刷，抛光方法，抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法
163. 抛光方法和抛光装置以及用于控制抛光装置的程序
164. 用于铝的化学机械抛光的浆液
165. 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用
166. 一体式抛光剂配送器及擦抹器
167. 一种镁合金化学抛光处理工艺
168. 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
169. 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
170. 一种磷化镓晶片双面抛光方法
171. 化学机械研磨的研磨修整装置
172. 结合电化学加工与电解抛光的复合式微加工装置及方法
173. 一种光学圆柱棒的抛光方法
174. 一种除藻型抛光液
175. 一种防冻型抛光液及其制备方法
176. 一种用于砷化镓晶片的精抛液
177. 一种金属抛光液及其制备方法
178. 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
179. 用于精细表面平整处理的抛光液及其使用方法
180. 水性抛光液和化学机械抛光方法
181. 基于磁流变效应的研磨抛光方法及其抛光装置
182. 一种碱性硅晶片抛光液
183. 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
184. 表面处理方法，晶体基材，和半导体设备
185. 液体喷射抛光的方法
186. 铝酸锂晶片的抛光方法
187. 计算机硬盘基片抛光速率的控制方法
188. 计算机硬盘基片粗糙度的控制方法
189. 半导体锑化铟化学机械抛光液
190. 一种白宝石晶体的表面加工方法
191. 多晶硅化学机械抛光液
192. 混合酸阳极氧化制备高硬度大孔径厚膜的工艺
193. 一种低介电材料抛光液
194. 一种高纯铝铜系合金金相样品的制备方法
195. 非平衡液态复合脉冲等离子抛光方法
196. 磁流变抛光液及其制备方法
197. FPD的制造方法
198. 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
199. 一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
200. 一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法
201. 一种节能式热水器冷凝器的防腐蚀膜层的制备方法
202. 轿车漆面中浅层划伤的修补方法
203. 用于超大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置
204. 一种制备铝/铅系层状复合材料金相样品及显示组织的方法
205. 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法
206. 高纯铝在超声搅拌下的电化学抛光方法
207. 一种制备悬浮式微硅静电陀螺/加速度计敏感结构的方法
208. 不锈钢复合板喷淋酸洗、抛光、钝化的方法及装置配置

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