化学气相沉积工艺及沉积装置/物理汽相沉积/沉积膜/电沉积/液滴沉积装置/沉积设备专利技术7

1. 用于高强度超合金连接和材料沉积的预先加热均匀焊接
2. 含有金属材料的构件，物理气相沉积靶，薄膜，和形成金属构件的方法
3. 具有高附着力的纳米超硬复合膜刀具及其沉积方法
4. 太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法
5. 利用红外波长范围中的脉冲热沉积进行激光选择性切割用于直接驱动烧蚀
6. 用化学气相沉积方法制备分散在基底上的金属或金属合金纳米粒子的方法
7. 一种用于喷射沉积的增强颗粒自动加入装置
8. 一种p型ZnO薄膜的金属有机物化学气相沉积制备方法
9. 在轮毂上电沉积涂覆的方法
10. 通过反应性沉积形成致密涂层
11. 用于增大由羰基金属前驱体沉积金属层的速率的方法
12. 以Ni/Al催化剂化学气相沉积制备碳纳米管和碳洋葱的方法
13. 气相沉积制备掺杂的单晶氧化锌纳米管的方法及其装置
14. 钯和钯-合金颗粒上的氢吸附诱导的金属沉积
15. 用于单层沉积的方法和装置
16. 离子束增强沉积制备P-型氧化锌薄膜的方法
17. 纳米超晶格结构的超硬复合膜刀具及其沉积方法
18. 用于从矿浆沉积重矿物精矿的洗矿槽及其收集毡层
19. 用于单层沉积的方法和装置
20. 光吸收和反射由铜的电沉积控制的电化学电池
21. 液滴沉积装置
22. 微电子中的铜电沉积
23. 用于防止沉积的磁性组件
24. 大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
25. 电沉积铬废液中铬的回收与处理方法
26. 利用微生物沉积制备碳酸钙的方法
27. 制造磁隧道结中氧化镁隧道势垒的反应溅射沉积方法
28. 利用直流辉光等离子体化学气相沉积系统制备氧化锌薄膜的工艺
29. PECVD沉积SiN薄膜剥离工艺
30. 高耐氧化纳米晶—非晶结构的超硬复合膜刀具及其沉积方法
31. 用于气相沉积设备中的制品支架
32. 在连续在线阴影掩模沉积工序中利用选择性等离子蚀刻形成过孔的系统及方法
33. 通过沉积低熔点合金制造承载至少一种活性材料的装置的方法
34. 用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器
35. 可沉积亲水性固体有益剂的个人护理组合物
36. 用于阴极材料连续沉积的双阳极交流电源
37. 用作铜薄膜沉积前体的铜（I）化合物
38. LICoO*的沉积
39. 带有射频加热的处理腔的化学气相沉积反应器
40. 用于燃烧化学气相沉积的基板温度控制
41. 具有可旋转衬底基座的物理气相沉积室
42. 微滴沉积
43. 多盘膜前驱体蒸发系统和结合了该系统的薄膜沉积系统
44. 用于改良瞬时相沉积的气体分配系统
45. 沉积阴影掩膜保护的多层阴影掩膜结构及其制造和使用方法
46. 用于利用羰基金属前驱体沉积金属层的方法
47. 具有可调节靶的物理气相沉积腔室
48. 低温SiN沉积方法
49. 在工艺污染物减量过程中用以降低颗粒沉积的反应器设计
50. 物理沉积系统
51. 通过化学汽相沉积制造的合金钨
52. 利用化学气相沉积法以粘性前驱物沉积功能性梯度介电膜层的方法及系统
53. 以等离子体增强化学气相沉积制造具低应力的低K值介电质的低温工艺
54. 诊断淀粉样蛋白沉积相关疾病的前驱形式的方法
55. 可沉积免晒美黑有益剂的个人护理组合物
56. 用于热分解挥发性化合物和沉积由此所形成的颗粒的设备
57. 采用电沉积-浸涂-热处理成型工艺制备掺杂物的金属氧化物电极材料
58. 沉积方法与半导体器件
59. 监测氧化物层沉积的方法
60. 一种原位沉积制备全固态薄膜锂电池的设备和方法
61. 一种表面沉积有镍硼合金的储氢合金及其制备方法
62. 在离子型液体中电化学沉积钽和/或铜
63. 薄膜沉积设备及方法
64. 在氟化氧化物沉积工艺中减少半导体器件污染
65. 络离子混合物以及在表面上沉积涂层的方法
66. 形成三维物理汽相沉积靶的方法
67. 改进的沉积速率等离子体增强化学气相方法
68. 由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层
69. 由具有连续金属沉积的颗粒构成的分开的固体组合物、其制造方法及其以催化剂形式的用途
70. 可沉积亲水有益剂的个人护理组合物
71. 用于高介电常数含铪介电材料的原子层沉积的装置和方法
72. 改进的光催化沉积制备担载钯膜的方法
73. 制备蒸气沉积的氧清除颗粒的方法
74. 可沉积固体
75. 由等离子体增强的化学气相沉积的多层涂层
76. 用于喷墨沉积的PLED/OLED器件的容器及其制造方法
77. 含有沉积控制剂的喷剂组合物
78. 化学蒸发沉积装置喷头
79. 气相沉积系统和方法
80. 使用超快脉冲激光沉积制造电化学装置的方法
81. 滴剂沉积装置及化学阵列
82. 用于制作三维纹理人造板模板的金属电沉积实时控制装置
83. 等离子增强化学气相沉积装置
84. 一种气相沉积材料生长和成型的方法及装置
85. 镍磷合金镀层的电沉积方法
86. 化学气相沉积装置
87. 物理气相沉积金属层的预处理与硅化金属层的制作方法
88. 物理气相沉积的升降机构
89. 一种增加电泳沉积电子发射源寿命及附着力的方法
90. 基于熔融沉积快速成型技术的碳化硅陶瓷零件制造工艺方法
91. 双路调制脉冲电化学沉积装置
92. 物理气相沉积蒸镀机的磁性过滤装置
93. 一种喷射沉积成形制备镧基大块非晶合金的方法
94. 物理气相沉积蒸镀机的被镀物固持装置
95. 羰基金属气相沉积的设备及方法
96. 电沉积制备纳米铜粉的方法
97. 液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法
98. 电化学沉积-烧结法制备发光薄膜材料的方法
99. 一种喷射沉积制备高合金冷作模具钢的工艺方法
100. 用于半导体器件的使用大气压的材料原子层沉积的方法
101. 光固化与熔融沉积集成的复合快速成形方法和装置
102. 薄膜沉积装置
103. 用于太阳能电池制造的沉积半导体薄层的技术和装置
104. 膨胀式热等离子沉积系统
105. 可展现较均匀沉积及降低旋转不对称性的多轨道磁控管
106. 将溅射源和偏压功率频率施加到工件上的金属等离子体汽相沉积和再溅射的设备
107. 连续热真空沉积装置和方法
108. 热真空沉积方法和装置
109. 在化学气相沉积系统中绕过阻滞板分配气体
110. 具有突出洗剂沉积的薄页纸
111. 真空沉积方法
112. 用以沉积低温无机膜层至大型塑胶基板上的方法及其设备
113. 可沉积亲水有益剂的个人护理组合物
114. 用于超导体涂布带的双轴织构化膜沉积
115. 用于蚀刻后去除基片上沉积的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射物质的组合物和方法
116. 用于选择性沉积颗粒材料的RESS方法
117. 均匀的粒状材料层的沉积
118. 离子化物理气相沉积(IPVD)工艺
119. 电沉积线型工具
120. 带有预电离的脉冲式磁控管溅射沉积
121. 涂覆基材上形成电沉积涂层的方法以及由此制得的制品
122. 金属沉积
123. 用于高介电常数含铪介电材料的原子层沉积的装置和方法
124. 用超临界流体将分散的金属颗粒沉积在基质上的方法
125. 真空沉积硫化物薄膜期间吸收氧气和水的方法
126. 阳离子电沉积涂料组合物
127. 在平板玻璃上沉积氧化镓涂层的方法
128. 沉积氧化铝涂层的方法
129. 制造玻璃颗粒沉积体的方法
130. 沉积用于金属刻蚀硬掩模应用的无定型碳膜的方法
131. 用于聚丙烯基多层包装膜结构与真空沉积铝的改进粘合性的聚丙烯改性体
132. 减少斜壁沉积的硬件设备
133. 用于无定型碳膜的化学气相沉积的液体前驱体
134. 活性金属源和沉积硫代铝酸盐磷光体的方法
135. 液滴沉积装置
136. 使用选择沉积工艺制造MOSFET器件的方法
137. 由单步金属有机化学气相沉积制造的掩埋式异质结构器件
138. 冷凝效应最小化的蒸汽沉积源
139. 高熔点金属的碳化层的沉积方法
140. 用于沉积室的处理套件设计
141. 用于在单个室中的无电沉积期间选择性改变薄膜成分的方法和装置
142. 应力被调节的单层氮化硅膜及其沉积方法
143. 用于在半导体衬底上无电镀沉积金属的装置
144. 物理气相沉积靶构造
145. 电化学沉积方法修复混凝土裂缝的装置
146. 通过在晶片上进行化学气相沉积的热氧化物形成装置和方法
147. 液滴沉积系统中的流体处理
148. 用于制造隔离器的方法和电沉积涂覆装置
149. 用于沉积光催化氧化钛层的方法
150. 可电沉积的涂料组合物以及与其有关的方法
151. 电沉积涂料和涂装物品
152. 沉积多孔膜的方法
153. 用于向金属表面上沉积防腐蚀涂层的方法
154. 在光敏材料上沉积材料
155. 用于等离子体增强化学气相沉积应用的加热气体盒
156. 用来沉积用于有机电子器件的材料的楔形掩模
157. 由1,1,1,3,3-五氟丁烷制成的组合物、其在沉积、清洗、脱脂和干燥应用中的用途
158. CMOS和沉积的光子有源层的单片式集成的布图
159. 利用单晶圆腔室沉积纳米晶体硅
160. 用于等离子体注入的蚀刻和沉积控制
161. 薄硅化钨层沉积和栅金属集成
162. 以钽前驱物TAIMATA进行含钽材料的原子层沉积
163. 对微阵列和其他微型装置进行高浓度点沉积的点样装置及方法
164. 在造纸过程中控制树脂和粘着物沉积的两性聚合物
165. 小滴沉积设备和制造方法
166. 制备高质量化合物半导体材料的沉积技术
167. 通过湿法化学沉积制造的场效应晶体管
168. 电沉积处理装置及方法
169. 影响传感器上碳黑沉积的方法
170. 用于进行电镀和物理气相沉积镀覆作业的共用支架
171. 用于去除沉积材料的反应流体系统和使用该系统的方法
172. 金属氧化物的等离子体增强化学气相沉积
173. 由氧化物层粘附的多层涂层的受控气相沉积
174. 防颗粒沉积抽油泵
175. 物理气相沉积蒸镀机的被镀物固持装置
176. 一种用于电泳沉积的阳极金属板结构
177. 物理气相沉积蒸镀机的磁性过滤装置
178. 水平式快速加热化学气相沉积系统使用的石英衬底支架
179. 用于喷射沉积的增强颗粒自动加入装置
180. 直流辉光等离子体气相沉积装置
181. 金属有机化学气相沉积大面积氧化锌透明导电膜反应器
182. 化学气相沉积设备
183. 化学气相沉积硫化锌系统中的除尘过滤装置
184. 化学气相沉积方法制备硒化锌系统中剧毒尾气的处理装置
185. 材料表面离子注入及沉积的复合偏压装置
186. 化学气相沉积室的多区域加热台座
187. 沉积室衬垫
188. 用于基板沉积腔背衬板的多件式绝缘件
189. 掩膜遮蔽变角度沉积制作纳米周期结构图形的方法
190. 具有外延沉积层的半导体晶片以及该半导体晶片的制造方法
191. 用于生产高折射率层的汽相沉积材料
192. 气相沉积装置
193. 金属薄膜连续电沉积装置及其方法
194. 沉积钛合金的缺陷修复
195. 相异材料的气相沉积
196. 用于沉积的掩模和制造该掩模的方法
197. 构造变形过程中的沉积速率模拟控制装置
198. 沉积方法及设备
199. 加热熔罐和包括该加热熔罐的沉积装置
200. 包括基底以及于其上异质外延沉积的硅和锗的层的多层结构及其制造方法

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