化学气相沉积工艺及沉积装置/物理汽相沉积/沉积膜/电沉积/液滴沉积装置/沉积设备专利技术8

1. 在晶圆片上沉积薄膜的装置
2. 薄膜沉积方法
3. 沉积方法
4. 利用氧化还原反应沉积贵金属电极的方法
5. 金属的电解沉积方法
6. 使用原子层沉积工艺制造金属硅酸盐层的方法
7. 柴油机微粒滤清器中微粒沉积量的推算
8. 超薄金属氧化物膜的反应溅射沉积方法
9. 一种用于在压力下沉积粘合剂的设备
10. 场发射装置的电泳沉积方法
11. 阳离子电沉积涂料组合物
12. 阳离子电沉积涂料组合物
13. 等离子体化学气相沉积设备及用它制造半导体器件的方法
14. 化学气相沉积装置及其方法
15. 一种批次电泳沉积碳纳米管的电子发射源制作方法
16. 用于陶瓷和金属薄膜沉积的前体化合物及其制备方法
17. 避免反应室粒子污染的化学气相沉积方法
18. 阴极电解沉积稀土转化膜工艺
19. 用于大区域等离子体加强化学气相沉积的气体扩散喷头
20. 化学气相沉积反应器
21. 借由控制膜层生成前驱物来控制所沉积氮化硅膜的性质及均一性的方法
22. 用于在基板上沉积有机材料的装置
23. 改善以电泳沉积制作纳米碳管电子发射源均匀性的方法
24. 测定沉积膜厚度的方法及装置和形成材料层的方法及装置
25. 成孔材料沉积后的CVD室清洗
26. 电沉积制造的梯度多孔金属材料及其制造工艺
27. 微波热解沉积致密化装置
28. 等离子体增强薄膜沉积方法及装置
29. 基于喷墨打印的表面金属图案化定位沉积方法
30. 采用竖直炉装置沉积碳或氮化硼薄膜技术
31. 等离子体化学气相沉积系统及涂覆衬底两侧的方法
32. 减小由物理气相沉积生成的镀膜中的压力
33. 电化学沉积制备有机发光薄膜的方法及在发光器件中的应用
34. 组合的步进器和沉积工具
35. 除去化学气相沉积(CVD)腔内的表面沉积物和钝化内表面的方法
36. 氧化钌涂层在基体上的沉积
37. 旋转孔眼掩模组件和沉积系统
38. 通过包含无电和供电的阶段的湿式化学沉积而在图案化的电介质上形成金属层
39. 避免沉积厚膜发生脱层的方法及其制造的太阳能电池
40. 采用连续磁控溅射物理气相沉积制备Fe-5.5～6.7wt%Si薄板的方法
41. 一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法
42. 一种可选金属液滴尺寸的喷射沉积方法
43. 等离子体沉积微孔分析物检测层
44. 沉积有机化合物的设备和方法以及具有该设备的基底处理装置
45. 聚合物材料的沉积及用于其的前体
46. 用尘埃等离子体在常温下沉积碳化硅薄膜的装置
47. 最小化N型掺杂物扩散的经沉积半导体结构和制造方法
48. 用于太阳能电池和组件制造的沉积半导体层的技术和装置
49. 用于沉积有机薄膜的坩埚组件
50. 通过化学气相沉积制备形状记忆膜的方法和由其制得的形状记忆器件
51. 分次还原沉积高分散性铂催化剂颗粒的方法
52. 钽喷丝头表面化学气相沉积金刚石薄膜强化方法
53. 沉积高品质反射涂层的方法和设备
54. 高红外反射涂层、薄膜涂覆沉积方法
55. 用于在表面上沉积材料的方法
56. 原子层沉积反应器
57. 环戊二烯基型铪和锆前体和其在原子层沉积中的用途
58. 化学气相沉积成膜用组合物及生产低介电常数膜的方法
59. 包含沉积香料的多相个人护理组合物
60. 用于制备均匀地真空沉积有纳米金属、合金和陶瓷颗粒的粉末的方法和装置
61. 用于在容器上等离子体沉积阻挡层的冷却装置
62. 用于利用远程等离子体源的大面积等离子体增强化学气相沉积装置的清洗器具
63. 用于在衬底上以加成方式沉积材料的系统和方法
64. 甲状腺素化合物用于人体烧伤和脂肪沉积的治疗
65. 对口腔表面细菌沉积的抑制作用
66. 用于监测尤其在燃气轮机的燃料管道以及燃料阀中固体颗粒沉积情况的方法和装置
67. 掺杂氮化硅薄膜的低温沉积方法及装置
68. 金属-氮化物薄膜的无胺沉积
69. 通过溅射沉积涂层的方法
70. 在常压下连续化学气相沉积的设备和方法及其用途
71. 具有三（二甲基酰胺）硅烷的硅酸铪材料的气相沉积
72. 用于脉冲沉积监测和控制的传感器
73. 利用沉积刻蚀序列的间隙填充处理
74. 具有沉积阻挡层的玻璃绝缘体上的半导体
75. 批式沉积工具及压缩晶舟
76. 沉积锗膜的方法
77. 带入气流中的带电颗粒的静电沉积装置
78. 用于在容器内部进行等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)内阻挡层的装置,所述装置包括被电磁阀隔离的气路
79. 脉冲激光沉积Si基VO*薄膜取向生长的方法
80. 一种脉冲电沉积制备直接甲醇燃料电池用催化剂的方法
81. 喷射沉积多孔材料的外框限制轧制变形方法
82. 一种碳化硅纳米管的化学气相沉积制备方法
83. 一种无氟的化学溶剂沉积制备钇钡铜氧高温超导涂层导体的方法
84. 一种电子浆料雾化沉积直写装置
85. 铝或铝合金基体表面离子注入与沉积复合强化处理方法
86. 流体沉积设备
87. 流体沉积组合设备工具
88. 可电沉积的水性树脂分散体及其制备方法
89. 使用低温沉积含碳硬掩膜的半导体基材制程
90. 利用负电流脉冲电沉积生产合金沉积物并控制其纳米结构的方法，和含有这种沉积物的物品
91. 沉积耐刮擦膜的方法
92. 等离子体发生装置和使用等离子体发生装置的膜沉积方法
93. 膜沉积第Ⅲ族氮化物如氮化镓的方法
94. 将材料图样连续沉积在基底上的设备和方法
95. 用于容器上内屏障层的PECVD沉积且包括光学等离子体分析器件的装置
96. 氮化硅的化学气相沉积方法
97. 含钌膜的沉积方法
98. 一种氮化钛金属基陶瓷涂层的反应电火花沉积制备方法
99. 轴承外圈滚道离子注入与沉积复合处理方法
100. 微滴沉积设备
101. 用于材料沉积的方法和装置
102. 微滴沉积方法和设备
103. 包括β-双烯酮亚胺金属化合物的原子层沉积系统和方法
104. 接触印刷无电沉积催化剂图案的方法
105. 用于沉积工艺的高效阱
106. 通过后PECVD沉积UV处理增加氮化硅膜的拉伸应力的方法
107. 用于热增强和等离子体增强气相沉积的装置及操作方法
108. 用于化学气相沉积装置的保温器
109. 多晶硅栅层的沉积方法
110. 非沉积制程的缺陷控制方法
111. 移动水平喷雾中药液沉积分布试验装置
112. 硅基电介质的化学气相沉积方法
113. 用于超临界流体去除或沉积工艺的装置和方法
114. 防止锅炉的热传递表面沉积氯的方法
115. 可去除累积在基底上的电荷的连续沉积多层膜的方法
116. 浅沟槽隔离区氧化物沉积方法
117. 化学气相沉积设备反应室的清洗工艺
118. 气相沉积原位反应制备碳纳米管增强铜基复合材料的方法
119. 有机金属络合物及其作为金属薄膜沉积前体的应用
120. 电沉积青铜的方法
121. 均匀的期望材料层的沉积
122. 金属有机物化学气相沉积设备反应腔的加热系统
123. 金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体
124. 液滴沉积装置
125. 硫属化物材料的化学气相沉积
126. 高温化学气相沉积设备
127. 利用连续在线真空沉积工序平坦化导通孔的接触区域的系统及方法
128. 一种用于脉冲激光沉积系统中的调节基片角度的装置
129. 用电子束物理气相沉积多孔树枝晶陶瓷层的热障涂层方法
130. 多入口原子层沉积反应器
131. 导电性组障层、尤其是钌钽合金及其溅镀沉积方法
132. 低损伤PECVD沉积致密SiO2的方法
133. 一种采用共溅射沉积法制备碲化铋合金薄膜的方法
134. 线性真空沉积系统
135. 低电阻率钌层的低温化学气相沉积
136. 用于将材料选择性沉积到表面和衬底上的方法和装置
137. 治疗与淀粉样蛋白沉积有关的炎症和涉及已活化小胶质细胞的脑部炎症的方法
138. 纳米陶瓷材料与金属合金在金属表面复合化学沉积方法
139. 沉积纳米纤维结构物的方法和设备
140. 等离子体增强原子层沉积系统和方法
141. 气相沉积应用中使用的线圈和制造方法
142. 等离子体增强原子层沉积系统和方法
143. 一种防止羰基镍蒸汽在分解器上部沉积装置
144. 高密度等离子体沉积反应室和用于反应室的气体注入环
145. 双元碳化物共沉积纤维增强复合材料的制造方法
146. 可电沉积涂料组合物和它们的制备方法
147. 增强型等离子氧化膜沉积装置腔盖冷却水管道
148. 大型喷射沉积方形坯件致密化加工的方法及其装置
149. 化学气相沉积室的清洁方法
150. 物理汽相沉积设备的辅助控制装置和方法
151. 形成高密度电浆化学气相沉积的前金属介电层的方法
152. RF等离子体产生和温度控制系统及其方法、等离子体化学气相沉积系统
153. 多源蒸发物理气相沉积系统
154. 聚乙烯基铵化合物、及其制法、包含该化合物的酸性溶液和电解沉积铜沉积物的方法
155. 抑制固体从来自加氢甲酰化反应混合物的气体物流中沉积的方法
156. 用于动电或静电沉积的金属颗粒的制备
157. 液滴沉积装置
158. 脉冲激光沉积方法
159. 脉冲激光沉积方法
160. 化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法
161. 先进的低介电常数有机硅等离子体化学汽相沉积膜
162. 具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器
163. 一类氧化锗材料的液相沉积制备方法
164. 沉积环退火处理方法
165. 基板上进行水平式电镀、电沉积或无电极电镀加工的方法
166. 一种在树脂镜片上沉积碳膜的方法
167. 短沉积距离图像型在线铁谱装置与方法
168. 用于钯层沉积的方法和用于该目的的钯镀浴
169. 用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统
170. 形成电荷图案及沉积粒子的方法及其利用于电荷储存装置
171. 以Ni/RE/Cu催化剂化学气相沉积制备碳纳米管的方法
172. 绝缘介质表面类金刚石薄膜的沉积装置
173. 一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置
174. 原子层沉积形成氮化硅氧化阻挡层的方法
175. 制备网状纳米阵列铁磁性薄膜的物理气相沉积方法
176. 激光打印机金属基定影膜电沉积装置
177. 金属部件表面的纳米复合沉积层结构
178. 具有抗杂质沉积污染功能的过滤油箱
179. 用于热和等离子体增强气相沉积的设备和其操作方法
180. 在三价铬镀液中电沉积耐磨性厚铬镀层的方法
181. 在三价铬镀液中电沉积装饰性铬镀层的方法
182. 油品调合防沉积旋转喷头
183. 低温直接沉积多晶硅薄膜晶体管及其制造方法
184. 使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备
185. 化学气相沉积设备的清洁方法
186. 制备太阳电池电极的方法及其电化学沉积装置
187. 一种无沉积水垢的板式换热器
188. 用于制备有机/无机薄膜的有机分子束沉积设备
189. 超临界水中碳纳米管上沉积二氧化铈的制备方法
190. 低温气体制冷提高MCVD沉积效率与质量的方法和装置
191. 形成电沉积涂层的方法
192. 一种负载型纳米镍加氢催化剂的气相渗透沉积制备方法
193. 电火花沉积充气密闭式气体保护及供给装置
194. 用于铝材表面沉积类金刚石膜的装置
195. 制造飞机炭刹车盘的炭管式多料柱大型气相沉积炉
196. 电阻化学气相沉积炉引电极的密封装置
197. 立式高温高压贵金属电解沉积槽装置
198. 一种羰基金属化合物气相渗透/沉积装置
199. 多元弧等离子体全方位离子注入与沉积的表面处理装置
200. 铜籽晶层沉积温度的监测方法及铜层的形成方法

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