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1. 磁约束磁控溅射方法及利用该方法制备的磁控溅射装置
2. 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
3. 高能级磁控溅射离子镀技术
4. 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
5. 分离磁体式平面磁控溅射源
6. 多源型平面磁控溅射源
7. 枪式磁控溅射源
8. 分离磁体式平面磁控溅射源
9. 多源型平面磁控溅射源
10. S-枪磁控溅射源
11. 一种平面磁控溅射靶
12. 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
13. 一种新型磁控溅射镀膜机
14. 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
15. 可调式对向磁控溅射源
16. 双室旋转磁控溅射镀膜机
17. 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
18. 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
19. 一种用于磁控溅射的阴极靶
20. 高真空多靶磁控溅射方法和装置
21. 同轴磁控溅射靶
22. 对称磁体磁控溅射源
23. 磁控溅射铬靶的制造方法
24. 电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
25. 单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机
26. 内置式磁控溅射源用冷却水接头
27. 双端磁控溅射离子镀膜机
28. 合金成份可调的平面磁控溅射靶
29. 一种新型柱状磁控溅射源
30. 柱状螺旋磁控溅射源
31. 半圆柱磁控溅射阴极
32. 旋转磁控柱状多弧源--平面磁控溅射源离子镀膜机
33. 磁控溅射一多弧多功能真空镀膜设备
34. 多弧-磁控溅射真空离子镀金设备
35. 透明导电膜平面磁控溅射靶板
36. 圆柱型平面式磁控溅射靶
37. 平面磁控溅射源
38. 直流磁控溅射电源
39. 一种磁控溅射镀吸收膜工艺
40. 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机
41. 旋转靶柱型磁控溅射器
42. 旋转靶柱型磁控溅射靶源
43. 磁控溅射方法
44. 非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置
45. 对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
46. 射频磁控溅射对靶装置
47. 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
48. 一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
49. 超高真空多功能磁控溅射装置
50. 磁控溅射耙室装置
51. 泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机
52. 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
53. 多靶磁控溅射卷绕镀膜机
54. 真空磁控溅射泡沫金属化机
55. 金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法
56. 真空磁控溅射泡沫金属化机
57. 一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法
58. 制备组分渐变薄膜的磁控溅射靶
59. 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备
60. 永磁式平面磁控溅射靶
61. 低温下用磁控溅射技术制备无应力氧氮硅薄膜
62. 在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法
63. 单晶硅片衬底的磁控溅射铁膜合成二硫化铁的制备方法
64. 磁控溅射装置
65. 生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置
66. 一种平面磁控溅射靶
67. 磁控溅射热弯镀膜玻璃的生产方法
68. 双面溅射的平面磁控溅射阴极
69. 离子束增强磁控溅射渗镀涂层装置及工艺
70. 一种平面磁控溅射-多工位镀膜装置
71. 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
72. 磁控溅射靶制造方法使用的模具
73. 一种磁控溅射靶
74. 旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备
75. 低辐射膜玻璃生产的磁控溅射设备
76. 带缓冲室膜玻璃生产磁控溅射设备
77. 旋转式磁控溅射靶
78. 高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备
79. 一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法
80. 磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺
81. 利用磁控溅射制作印刷线路板的方法
82. 软磁铁氧体磁心磁控溅射真空镀银方法
83. 合金靶材磁控溅射法制备CoSi*薄膜的方法
84. 磁控溅射制备(HA+Zro*+Y*O*)/Ti*Al*V生物复合材料骨种植体的方法
85. 一种确定平面磁控溅射多工位镀膜装置最优转速比的方法
86. 磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环
87. 扫描聚焦磁控溅射靶
88. 立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
89. 滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置
90. 磁控溅射法制备低温相偏硼酸钡单晶薄膜
91. 射频磁控溅射法制备γ-LiAlO*单晶薄膜覆盖层衬底的方法
92. 磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
93. 一类氧离子导体电解质薄膜构造的脉冲磁控溅射制备方法
94. 磁控溅射装置
95. 射频磁控溅射制备ZrW*O*/ZrO*薄膜的方法
96. 磁控溅射制造工艺
97. 在硅衬底上磁控溅射制备铁磁性锰硅薄膜的方法
98. 射频磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜的方法
99. 霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
100. 磁控溅射制备减摩IF-WS*/IF-MoS*复合薄膜的方法
101. 一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置
102. 对向靶反应磁控溅射制备氧化钒薄膜的方法
103. 用磁控溅射法在镓砷衬底上外延生长铟砷锑薄膜的方法
104. 一种旋转磁场平面靶磁控溅射装置
105. 在硅衬底上采用磁控溅射法制备氮化铝材料的方法
106. 采用中频反应磁控溅射铟锡合金靶制备ITO膜的方法及系统
107. 一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶
108. 增强的磁控溅射靶
109. 磁控溅射仪衬底固定夹具
110. 一种旋转式圆柱磁控溅射靶
111. 磁控溅射镀膜用真空腔室
112. 一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构
113. 一种平面磁控溅射装置
114. 一磁控溅射设备,一圆柱体阴极和一种在一基板上涂敷多成分膜的方法
115. 一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶及其应用方法
116. 采用连续磁控溅射物理气相沉积制备Fe-5.5~6.7wt%Si薄板的方法
117. 反应磁控溅射TiN/SiO*硬质纳米多层涂层的制备方法
118. 单靶磁控溅射Cu*Crx合金薄膜的方法
119. 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
120. 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
121. 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备
122. 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备
123. 调节磁控溅射反应气体分压制备Ti-Si-N膜的方法
124. 磁控溅射装置
125. 对向靶磁控溅射制备三氧化钨薄膜气敏传感器的方法
126. 一种磁控溅射离子镀方法
127. 磁控溅射卷绕镀膜机
128. 用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶
129. 用于10*Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置
130. 星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺
131. 柱状磁控溅射器
132. 一种在SiC微颗粒表面磁控溅射镀铜膜的方法
133. 磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置
134. 磁控溅射卷绕镀膜机
135. 太阳能集热管真空磁控溅射连续镀膜线系统
136. ITO镀膜玻璃偏心轴旋转的平面磁控溅射装置
137. 平面磁控溅射器
138. 霍尔源激励磁控溅射增强型磁过滤多弧离子复合镀膜方法
139. 铝基板磁控溅射金属化电路板及LED照明器件
140. 铝基绝缘氧化磁控溅射金属化电路板
141. 用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体
142. 一种三靶磁控溅射镀膜机
143. 磁控溅射法制备HA/YSZ/聚酰亚胺生物活性复合材料
144. 磁控溅射法制备HA/YSZ/Ti6Al4V梯度生物活性复合材料
145. 一种磁镜场约束双靶非平衡磁控溅射方法
146. 一种用于超高功率脉冲非平衡磁控溅射的电源方法
147. 磁控溅射技术合成超硬薄膜的新工艺
148. 一种冷却金属镓靶中频孪生磁控溅射装置
149. 磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置
150. 用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法
151. 直流磁控溅射制备纯铝超细晶厚膜的方法
152. 一种磁控溅射镀膜用低熔点金属与背板加工工艺
153. 一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法
154. 磁控溅射装置
155. 超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶
156. 采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃
157. 一种用于反应直流磁控溅射的锌钼金属镶嵌靶
158. 多工位轴瓦磁控溅射装置
159. 一种旋转磁控溅射靶
160. 旋转圆柱磁控溅射靶
161. 一种磁控溅射真空镀膜机的自动升压装置
162. 矩形样品磁控溅射仪运动控制装置
163. 铝合金减摩层软锡相颗粒更细的PVD轴瓦磁控溅射工艺
164. 通过溅射舱内轴瓦溅前负偏压清洗的PVD轴瓦磁控溅射工艺
165. 射频磁控溅射法制备超硬TiB*/TiAIN纳米多层膜
166. 一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法
167. 一种磁控溅射Fe-Co合金靶的制造方法
168. 磁控溅射-激光加热复合渗镀工艺及设备
169. 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶
170. 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法
171. 金属基抗菌贴片及其采用磁控溅射法制预成型体的工艺
172. 一种磁控溅射镀膜用铝罩
173. 磁控溅射真空室H2O内外压差逐级导入装置
174. 一种采用磁控溅射制备薄膜的方法
175. 可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃
176. 多级加速模式下磁控溅射镀膜方法
177. 平面式磁控溅射便携插件式增磁装置
178. 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机
179. 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极
180. 一种高功率平面磁控溅射阴极
181. 一种磁控溅射圆柱靶
182. 一种在镁合金表面磁控溅射TiN薄膜的工艺
183. 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
184. 一种连续绕卷式磁控溅射法制造的陶瓷高阻隔膜装置
185. 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法
186. 弧光离子源增强磁控溅射装置
187. 磁控溅射靶结构及设备
188. 一种矩形平面磁控溅射阴极
189. 采用磁控溅射连续双面共沉积工艺制高硅钢带的工业化生产系统
190. 能量过滤磁控溅射镀膜方法及实施该方法的装置
191. 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法
192. 应用于磁控溅射镀膜中的膜厚修正工艺及系统
193. 多工位轴瓦磁控溅射镀膜装置
194. 一种矩形平面磁控溅射阴极
195. 一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶
196. 磁控溅射设备的设计支持方法、系统和程序
197. 磁控溅射曲面喷涂三维轨迹智能控制方法
198. 磁控溅射喷涂机器人示教轨迹优化控制方法
199. 利用直流反应磁控溅射制备p-ZnMgO薄膜的方法
200.磁控反应溅射氮化锆新型反光装饰膜的方法
201.真空多区磁控阴极溅射头
202.对靶式直流磁控离子溅射台
203.磁控型溅射系统的阳极结构
204.用于稳流磁控靶与射频靶共溅射的电磁兼容装置
205.大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶
206.多功能复合磁控等离子体溅射装置
207.Mg*Zn*O薄膜的双靶射频磁控共溅射制备方法