激光退火方法及激光退火装置专利技术

1. 激光结晶系统和控制准分子激光退火制程能量密度的方法
2. IGBT高压功率器件圆片背面激光退火工艺
3. 利用准分子激光退火工艺制作多晶硅薄膜的方法
4. 激光退火装置及激光退火工艺
5. 激光退火装置及其激光退火方法
6. 一种制备多晶硅的方法
7. 薄膜晶体管的制造方法
8. 显示面板及其制作方法
9. 用于激光退火的移相器
10. 薄膜晶体管的制造方法
11. 用于结晶化半导体膜的方法和由该方法结晶化的半导体膜
12. 制作多晶硅薄膜的方法
13. 晶粒尺寸可控的多晶硅薄膜制备及检测装置
14. 双光源的激光退火装置和方法
15. 多结晶薄膜的形成方法和制造薄膜晶体管的方法
16. 激光退火方法
17. 顶栅型薄膜晶体管的制造方法
18. 涂覆和退火大面积玻璃基底的方法
19. 激光退火方法以及半导体器件制造方法
20. 半导体器件
21. 半导体装置及有源矩阵型显示装置
22. 多晶硅层的制作方法
23. 半导体衬底的激光退火方法和装置
24. 多晶硅层的制作方法
25. 激光退火装置和半导体设备制造方法
26. 场效应型晶体管及制造方法、液晶显示装置及制造方法
27. 多晶半导体层的制造方法及激光退火装置
28. 激光烧结制备β-FeSi 热电材料的方法及其装置
29. 激光退火装置和激光薄膜形成装置
30. 利用激光结晶形成多晶系膜层的方法
31. 低温多晶硅薄膜晶体管及其多晶硅层的制造方法
32. 激光退火装置及其应用
33. 激光退火多晶硅薄膜晶体管栅绝缘层的制备方法
34. 平坦多晶硅薄膜晶体管的制作方法
35. 一种单片光电集成回路的制作方法
36. 激光退火方法及激光退火装置
37. 激光退火方法及激光退火装置
38. 制备多晶硅膜层的激光退火装置及形成多晶硅膜层的方法
39. 薄膜晶体管、薄膜晶体管基板、电子设备及多晶半导体薄膜的制造方法
40. 激光退火的制程光罩以及利用激光退火形成多晶系膜层的方法
41. 制造半导体器件的方法和由此方法制造的半导体器件
42. 纳米级晶粒的制造方法及其应用
43. 一种利用激光退火提高掺稀土氧化铝薄膜光学特性的方法
44. 薄膜电晶体的制造方法及将非晶层转换成复晶层或单晶层的方法
45. 用于半导体制造的栅极掺杂物激活方法
46. 半导体器件
47. 激光退火方法以及激光退火装置
48. 激光退火的方法及装置
49. 有机电激发光元件的制造方法及影像显示系统
50. 多晶硅图案形成方法、多层交叉点电阻存储器及制造方法
51. 激光退火装置和半导体设备制造方法
52. 底栅薄膜晶体管及其制造方法
53. 一种制备L1*有序合金薄膜的方法
54. 具有平坦表面的多晶硅薄膜及其制造方法
55. 有机发光二极管低温多晶硅制造方法与激光退火结晶系统
56. 制造底栅型薄膜晶体管的方法
57. 激光退火设备
58. 激光退火装置及激光退火方法
59. 包括杂质掺杂区的半导体器件及其形成方法

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