化学气相沉积工艺及沉积装置/物理汽相沉积/沉积膜/电沉积/液滴沉积装置/沉积设备专利技术5

1. 具有射频电源供应单元的双频式真空沉积设备
2. 用于制作电路的在线沉积方法
3. 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
4. 逆向沉积复合材料及其制备方法
5. 采用原子层沉积工艺在基片上形成二氧化硅层的方法
6. 电磁波屏蔽涂料或沉积涂料的自动涂敷装置
7. F、Mn共掺杂沉积纳米SnO2透明隔热薄膜
8. 流水中泥沙沉积成陆地技术
9. 用于在具有帽盖层的半导体互连结构上沉积金属层的方法
10. 高介电常数金属硅酸盐的原子层沉积
11. 带有温控卡盘的无电沉积方法和设备
12. 涂于基材上的可电沉积介电涂料组合物和形成该介电涂料的方法
13. 作为金属铜沉积前体的草酸二铜（I）络合物
14. 采用内外并行沉积制造光纤料坯的方法
15. 微滴沉积装置及其制造方法
16. 低压化学气相沉积设备中减少微粒的方法
17. 化学蒸汽渗透和沉积工艺用的设备
18. 透明导电膜的等离子体增强化学气相沉积设备
19. 管内化学汽相沉积工艺制备低羟基含量光纤预制棒的方法
20. 具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板
21. 降低沉积反应室腔体内氟残留的方法
22. 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
23. 使半导体沉积层平整的方法
24. 一种提高金属表面耐高温和耐磨损的电沉积复合镀方法
25. 电沉积钨基系列非晶合金镀层或纳米晶合金镀层及所使用的电镀液和工艺
26. 立式四氯化硅汽相沉积合成石英玻璃的方法
27. 用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头
28. 低压化学气相沉积装置及薄膜制造方法
29. 射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法
30. 光学元件制作方法与用于此的沉积液及光学元件制造装置
31. 预防晶圆重复沉积的方法
32. 一种改良的电致变色或电沉积显示器及其制造方法
33. 低温液相沉积法以及液相沉积设备的清理方法
34. 原子层沉积方法
35. 二氧化钛的高速沉积
36. 用于在绝缘基底上沉积金属的具有可调节粘度的光敏分散体和其用途
37. 聚合物在工业织物上选择性沉积的控制方法以及工业织物
38. 安装沉积掩模的柔性框
39. 使用8族(Ⅷ)金属茂前体的沉积方法
40. 低聚吩嗪鎓化合物的混合物及用于电解沉积铜沉积物的酸浴
41. 用于将一合金沉积到一基底上的方法
42. 使用脒基金属的原子层沉积
43. 用于铜互连的电化学或化学沉积的电镀溶液及其方法
44. 液滴沉积设备
45. 具有优化的沉积墨滴次数的彩色喷墨打印方法及打印机
46. 沉积氧化膜的装置和方法
47. 采用硅化合物进行的含硅层沉积
48. 电沉积铜的方法
49. 可电沉积的涂料组合物及相关方法
50. 用于在平坦表面上沉积大面积涂层的设备和方法
51. 高k金属氧化物的原子层沉积
52. 氧化硅和氧氮化硅的低温沉积
53. 溅射沉积薄膜的均匀固溶体合金
54. 金属有机化学气相沉积形成Cu*S
55. 沉积方法
56. 沉积高介电常数薄膜的设备
57. 在基材上沉积膜的方法
58. 在SHF放电等离子体中从气相沉积金刚石薄膜的高速方法和实施所述方法的装置
59. 用于铜金属沉积的铜的吡咯基络合物
60. 等离子加工系统中用于改进的沉积罩的方法和设备
61. 连续化学气相沉积工艺和加工炉
62. 溅射沉积中硒化银膜化学计量比和形态控制
63. 热解法沉积碳纳米管或氮掺杂碳纳米管的方法及设备
64. 氮化钨的汽相沉积
65. 原子层沉积方法
66. 铜膜沉积方法
67. 汽相沉积催化剂及其在燃料电池中的用途
68. 利用选择性引介黏合剂制造无线射频识别卷标电沉积天线的方法
69. 分层沉积成型的光滑方法
70. 在晶片衬底上沉积、释放和封装微机电器件的方法
71. 用于在适形接触掩模电镀操作期间监测沉积质量的方法和装置
72. 有机铝配合物的生产方法及其用于生产铝-镁合金电化学沉积用电解质溶液的用途
73. 用于电解沉积锻纹镍沉积物的酸电镀浴及方法
74. 含至少一个沉积有吸气材料的支撑件的用于电致发光有机屏的组件
75. 用于控制溅射沉积过程的系统和装置
76. 流体泵送及液滴沉积装置
77. 使用氨基硅烷和臭氧的低温介电沉积
78. 处理碳化硅衬底改善外延沉积的方法与形成的结构和器件
79. 具有增强的将局部活性化合物沉积在表面上的作用的组合物
80. 用于制造光纤预制体的外部气相沉积装置和采用该装置制造光纤预制体的方法
81. 制造飞机炭刹车盘的外热梯度气相沉积炉
82. 化学液相沉积装置
83. 汽车液压油静态赃物沉积式储油罐
84. 改进电铸工艺中沉积均匀性的装置
85. 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器
86. 一种立式合成石英玻璃沉积炉
87. 超高真空化学气相沉积装置
88. 一种化学汽相沉积装置
89. 一种减少炭黑沉积和低温凝固的蜂窝组合体
90. 等离子体源增强沉积设备
91. 平面离子源增强沉积镀膜机
92. 视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源
93. 利用MOCVD沉积金属氧化物薄膜的方法
94. 化学气相沉积/化学气相渗透工艺尾气处理方法与设备
95. 一种在陶瓷衬底上沉积大晶粒多晶硅薄膜的方法
96. 由多重沉积和氧化步骤生成间隙层的磁阻传感器结构的生成方法
97. 沉积无铅锡合金的方法
98. 多片大面积化学浴沉积装置
99. 热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法及装置
100. 一种用于气相沉积的水平式反应器结构
101. 复合电沉积制备镍基纳米碳管复合材料的方法
102. 低蒸汽压化合物的等离子体增强化学沉积方法及其设备
103. 真空电弧沉积设备
104. 薄膜沉积反应器
105. 一种在镁合金表面阴、阳双极微弧电沉积陶瓷层的方法
106. 金属表面上的还原沉积方法
107. 防止胶态物质在电脱水器油水界面沉积的抑制剂及其制备方法
108. 物理气相沉积装置
109. 从锶-90-钇-90体系中分离钇-90的电沉积方法
110. 在含有钼和烷基化的酚噻嗪的润滑剂中用于氧化和沉积控制的抗氧剂组合
111. 金属有机物化学气相沉积氮化镓基薄膜外延生长设备
112. 使用粘性流沉积OLED器件中的层
113. 修复钢筋混凝土结构裂缝的电化学沉积方法
114. 蚀刻沉积于半导体基底上的光阻层的方法
115. 在分析用载体上沉积和分布试剂用的掩模片
116. 电极沉积涂装用组合物及制备相应水性树脂的方法
117. 在化学汽相沉积反应器内外延涂覆半导体晶片正面的方法
118. 硼化镁超导薄膜的双加热器原位化学气相沉积一步法工艺
119. 金属有机化合物汽相沉积装置
120. 使用聚焦离子束的化学汽相沉积的光罩图案化方法
121. 一种高沉积速率制备锂离子固体电解质薄膜的方法
122. 一种避免电镀沉积铜薄膜生成空穴的装置及其使用方法
123. 有效部位药物沉积得到改善的干粉组合物
124. 阳离子电解沉积涂料组合物
125. 利用电化学沉积制备电容器的方法
126. 批量式原子层沉积设备
127. 沉积闪光颗粒的个人护理组合物
128. 用于从气相中沉积超细颗粒的装置和方法
129. 用作沉积控制剂的高HLB非离子表面活性剂
130. 辉光放电产生的化学气相沉积
131. 在低温及减小的沉积速率下形成TEOS盖层的方法
132. 在晶片上沉积薄膜的方法
133. 用于厚膜带的离子束辅助高温超导体(HTS)沉积
134. 保护沉积在基材上的含有金属的结构免受腐蚀的方法
135. 真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机
136. 物理气相沉积方法及其设备
137. 减少淀粉样沉积、淀粉样神经毒性和小胶质增生的药物
138. 沉积用于有机电致发光的保护薄膜的设备和方法
139. 沉积掩模、应用它制造显示装置的方法及显示装置
140. 一种细长管筒内表面溅射沉积涂层方法
141. 制造光纤母材和光纤的化学粉末沉积方法
142. 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭／炭复合材料的方法
143. 纳米沉积增强的超高强度的、抗腐蚀的结构钢
144. 高性能耐用沉积摩擦材料
145. 太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法
146. 用于沉积含硅薄膜的前体及其方法
147. 沉积碳化硅和陶瓷薄膜的方法
148. 铬源与沉积催化剂组合在费-托合成反应中的应用
149. 沉积微滴的装置
150. 沉积室中用于捕集粒子的阱
151. 用于沉积墨滴的装置
152. 采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法和装置
153. 具有检测反应室状态功能的化学气相沉积装置及检测方法
154. 薄膜沉积装置
155. 磁场诱导沉积方法制备磁性纳米间隙电极
156. 钕铁硼磁粉的电化学沉积包覆金属层的方法
157. 改善原子层沉积工艺的方法及装置
158. 包含与硼相容的阳离子沉积助剂的液体衣物洗涤剂组合物
159. 制备复合金属粉末的电化学置换-沉积方法
160. 金属有机物沉积制备高温超导薄膜的方法
161. 用于沉积不含镍和铬（VI）的金属消光层的方法
162. 高密度等离子化学气相沉积方法及改善膜厚均匀性的方法
163. 材料沉积方法及设备
164. 混合沉积摩擦材料及制备摩擦材料的方法
165. 物理气相沉积工艺及其设备
166. 用臭氧沉积后处理除去可流动的氧化物薄膜中的碳
167. 电灯和在该灯上沉积层的方法
168. 用于蚀刻铜表面的溶液和在铜表面上沉积金属的方法
169. 无铅电沉积涂料组合物以及经涂覆的制品
170. 掺杂碳的二氧化硅膜的沉积方法与金属内连线的制造方法
171. 包括阴离子或两性聚合物的就地沉积步骤的永久性再成型头发的方法
172. 通过阴极沉积获得的非蒸发性吸气多层沉积物及其制造方法
173. 蚀刻高介电常数材料和清洗用于高介电常数材料的沉积室的方法
174. 材料在半导体基片上的超临界流体辅助沉积
175. 用于生产具有中等折射指数的光学层的蒸汽沉积材料
176. 防颗粒沉积抽油泵
177. 制备纳米间隙的外电场诱导取向沉积方法
178. 超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法
179. 以六氯乙硅烷进行的含硅膜的沉积
180. 受控的硫种类沉积方法
181. 一种用于沉积涂层材料膜,尤其是超导氧化物膜的方法和设备
182. 清洗高介电常数材料沉积室的方法
183. 降低化学气相沉积掺杂磷氧化层表面缺陷的方法
184. 强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置
185. 以聚合物沉积控制光阻移除处理的关键尺寸的微负载方法
186. 制造多孔玻璃粒子沉积体的方法和用于合成玻璃粒子的燃烧器
187. 在剃须刀片刀口和剃须刀片上沉积涂层的方法
188. 化学气相沉积反应器
189. 一种在水溶液中电沉积制备硫氰酸亚铜薄膜的方法
190. 一种测量薄膜沉积速率的方法
191. 确保沉积工艺中荫罩板与基板准确配准的系统和方法
192. 电浆辅助化学气相沉积装置及方法
193. 导电聚合物的沉积
194. 在玻璃基材上沉积氧化铁涂层
195. 氮化硅的热化学气相沉积
196. 包括具有掺杂部分的沉积沟道区的晶体管
197. 低kCVD材料的梯度沉积
198. 组合物和制备含有低水平用于增强的香味沉积/持久性的可溶性表面活性剂清洁皂条的方法
199. 一种海上抗生物沉积涂层及涂覆该涂层的方法
200. 用于控制实体的电沉积的方法和采用了固定化实体的装置

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