金属研磨液/研磨剂/研磨膏/研磨装置/研磨设备/研磨方法专利技术5

1. 可容纳在制备热饮的装置中的用于经研磨的渣状或粉状物料的容器
2. GaN基板的研磨方法
3. 不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
4. 研磨垫
5. 在粘结剂存在下研磨矿物材料的方法，获得的含水悬浮液及其用途
6. 半导体薄片材料的横向研磨方法
7. 使超研磨颗粒于金属基质中的保持率最大化的方法
8. 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
9. 一种在化学机械研磨中减少导体结构碟陷与侵蚀的方法
10. 包括精细研磨、制浆和氧化的用于金属如金和铂的提取方法
11. 同时双面研磨晶片形工件的装置
12. 含有反应性无机吸热化合物的研磨材料
13. 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液
14. 显象管玻屏“目”字形研磨法
15. 单层研磨垫及其制造方法
16. 轮胎表面研磨装置
17. 研磨主轴转子上具有对中设备的夹持设备及具有这种对中设备的旋转部件
18. 高清洁性/低研磨性的二氧化硅材料和含有这种材料的洁齿产品
19. 具有低清洁性和研磨水平的粘度改变的二氧化硅材料及其洁齿产品
20. 高清洁性/中等研磨性的二氧化硅材料和含有这种材料的洁齿产品
21. 使用化学机械研磨法制造半导体元件的内连线结构的方法
22. 利用多个电阻膜研磨薄膜磁性元件条的方法
23. 一种改善球磨机研磨效率的方法及其球磨装置
24. 高密度研磨压块
25. 化学机械研磨制程控制方法
26. 研磨方法和产品
27. 研磨多层体的方法以及制造固态摄像器件的方法
28. 用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物
29. 使用四面锥形研磨体的球磨机
30. 化学机械研磨颗粒、浆料及其制造方法
31. 改良型搅拌研磨机的搅拌研磨方法
32. 一种高速软体研磨抛光工具的制作工艺
33. 研磨垫与其制造方法
34. 镜片切削研磨一次制程刀具
35. 改良的研磨切刃
36. 改良的钻石研磨刃具
37. 一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法
38. 化学机械抛光研磨垫
39. 一种自动加工研磨垫工艺方法
40. 一种化学机械抛光中延长研磨垫寿命的方法
41. 一种研磨垫整理器的修正盘循环利用方法
42. 一种化学机械抛光中研磨垫沟槽加工方法
43. 存储卡的研磨方法
44. 修整晶圆研磨垫的修整器及其制造方法
45. 一种固体研磨粒
46. 无研磨介质微粒化的分散方法
47. 铜化学机械研磨方法
48. 制造轻薄型液晶显示元件的液晶单元的研磨方法及其装置
49. 精密多线切割和研磨用切磨粉体材料
50. 一种两自由度岩石研磨机构
51. 一种三自由度岩石研磨机构
52. 研磨装置
53. 用化学机械研磨形成铝特征图案的方法
54. 一种可改善化学机械研磨前薄膜均匀性的工艺方法
55. 立方氮化硼陶瓷结合剂研磨盘及其生产方法
56. 使用超级研磨工具的摩擦搅动焊接
57. 研磨布和纳米纤维结构体的制造方法
58. 研磨用浆料
59. 除去研磨管内壁粘牢的装料的方法、控制装置和驱动装置
60. 直线前进型研磨方法和装置
61. 轮胎均匀性试验机研磨组件
62. 超细的经研磨的天然水镁石
63. 造纸机用压榨辊、其制造方法、对湿纸的压榨方法以及造纸机用压榨辊的表面研磨方法
64. 通过机械研磨制备微米级人参粉的方法
65. 无心研磨的方法
66. 用于超细度研磨燕麦糠的方法和包括从通过所述方法得到的超细燕麦糠粉末提取的提取物的
67. 二氧化硅的化学辅助研磨
68. 在机械或电动调料磨具或食品粉碎机中进行研磨调节的通用盒匣
69. CMP用研磨浆料
70. 处理糖蜜，生产用于混凝土增塑剂（减水掺加剂）和水泥溶渣研磨添加剂应用的＂ M o l a
71. 用于由相同的研磨咖啡胶囊选择性地制作“美式咖啡”和“意大利浓咖啡”的冲泡方法及装
72. 流动性研磨膏及其制造方法、用途
73. 用于研磨松散材料的离心球磨机
74. 研磨用组合物
75. 一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法
76. 玻璃基板用研磨液组合物
77. 支承研磨体的支架板
78. 半导体基板用研磨液组合物
79. 研磨液组合物
80. 磁头制造方法、磁头、角度设定装置以及研磨装置
81. 复合磁场辅助式散粒微量研磨工具
82. 研磨垫用组合物
83. 刹车片摩擦材料研磨装置
84. 用于制造改进的氧化铈研磨颗粒及包括这种颗粒的组合物的方法
85. 超研磨工具
86. 一种精确研磨的工具
87. 自排放研磨轮系统及方法
88. 自动研磨装置及其控制系统
89. 镶嵌研磨垫及其制造方法
90. 碳黑树脂研磨组合物、碳黑树脂组合物及应用其的胶印油墨
91. 刀具研磨用保持器
92. 用以研磨载具膜的砂纸
93. 制造经研磨的细分散的材料的方法
94. 研磨液组合物
95. 化学机械研磨用垫
96. 具有高研磨稳定性的纯色、容易分散的氧化铁红颜料
97. 铁粉芯研磨装置及其方法、以及其成品
98. 研磨液组合物
99. 柔性研磨加工齿轮的方法
100. 研磨布用修整器及其制造方法
101. 研磨方法
102. 研磨光纤连接器插芯端面的模块插入式通用夹具板
103. 一种用于存储器硬盘磁头超精研磨的研磨油
104. 手持式强制研磨切削装置
105. 化学机械研磨方法
106. 研磨装置
107. 研磨片材及其制造方法与抛光装置
108. 铈系研磨材料
109. 研磨材料及其制备方法
110. 电弧放电光纤研磨截面高精度抛光方法及装置
111. 研磨抛光机
112. 研磨设备的串联式连续研磨机之间的连接系统
113. 降低经纳米研磨的碳酸钙再絮凝趋势的系统和方法
114. 使用特定含二氧化铈的氧化锆研磨珠制备矿物材料的方法，获得的产品及其用途
115. 生产具有特定陡度因子的GCC和PCC型共研磨碳酸钙材料的方法、获得的产品及其用途
116. 铈类研磨材料
117. 提高矿石、矿物和精矿的研磨效率的方法
118. 生产GCC和PCC型超细共研磨碳酸钙材料的经济方法，所获得的产品及其用途
119. 结构化研磨制品的制造方法
120. 适形研磨制品及其制备和使用方法
121. 高分子材料、由其得到的发泡体以及使用它们的研磨垫
122. 研磨制品安装组件及其制造方法
123. 具有一体式集尘系统的研磨制品及其制造方法
124. 无研磨剂的抛光系统
125. 研磨制品及其制备方法
126. 研磨介质和与其相关的方法
127. 柔韧研磨制品及其制造方法
128. 具有烧结体研磨部的工具及其制造方法
129. 基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法
130. 利用超声波振动的研磨装置
131. 用于研磨产品的高性能树脂
132. 阀的研磨
133. 使用包含锆化合物的水溶液在水介质中分散和/或研磨和/或浓缩碳酸钙的方法
134. 晶片的双面研磨方法
135. 用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
136. 研磨剂及半导体集成电路装置的制造方法
137. 处理用过的研磨浆料以回收可重复使用组分的方法和装置
138. 彩色滤光片研磨液组合物
139. 高精度球双自转研磨盘高效研磨装置
140. 一种改善研磨时间控制的方法
141. 内径研磨机的研磨工具
142. 一种玉石研磨膏的制作方法
143. 复合式水力超细粉碎研磨装置
144. 研磨垫打磨器
145. 一种监控CMP研磨剂的腐蚀抑制剂的方法
146. 化学机械研磨后残留物的去除方法
147. 半导体用研磨剂
148. 研磨工具
149. 研磨垫
150. 一种有效控制研磨垫使用寿命的方法
151. 一种有效控制研磨垫使用寿命的方法
152. 具有反应活性生色团的研磨制品
153. 研磨纤维素醚的方法
154. 用于形成结构研磨制品的方法
155. 半导体晶片周缘的研磨装置及方法
156. 晶片传送装置、研磨装置及晶片接收方法
157. 采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法
158. 雷蒙机研磨装置
159. 在铜化学机械研磨工艺中减少晶片被腐蚀的方法
160. 一种化学机械研磨装置
161. 一种研磨式粉碎机
162. 垂直方向振动磁力研磨工艺及装置
163. 研磨组合物
164. 氧化铈系研磨材料、其制造方法及用途
165. 具有中空纤维的研磨垫及其制造方法
166. 复合式化学机械研磨法与浅沟槽隔离结构的制造方法
167. 改善化学机械研磨终点检测及检测前道工艺的方法
168. 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
169. 固定磨粒研磨磁头用的润滑剂组合物
170. 用来制造研磨制品的快速加工系统和方法
171. 涂敷或粘结研磨制品
172. 用来制造研磨制品的快速加工系统和方法
173. 用于化学机械研磨装置的操作参数自动反馈方法及其控制系统
174. 研磨头的清洗装置
175. 化学机械研磨终点的控制方法
176. 化学机械研磨方法
177. 一种化学机械研磨机台化学液供给装置
178. 化学机械研磨时间控制方法
179. 化学机械研磨机台中研磨液及去离子水输送管的配置方法
180. 研磨垫及其制造方法
181. 具有表面纹路的研磨垫
182. 超声波磁粒复合研磨方法及其装置
183. 化学机械研磨方法
184. 一种有效控制CMP研磨残膜厚的方法
185. 检测层间膜非正常研磨的装置及其实现方法
186. 研磨制品及其制造方法
187. 陶瓷研磨液
188. 一种用于硅晶片的研磨液
189. 梳棉机曲轨研磨装置
190. 在金属和多晶硅化学机械研磨中减少大图案凹陷的方法
191. 研磨轴工件的方法和装置
192. 免研磨乳胶漆系列表面改性专用粉及其制备方法
193. 化学机械研磨后的晶片清洗方法
194. 化学机械研磨组合物
195. 轴承钢球的小液量研磨设备
196. 研磨垫及其制造方法
197. 有机颜料研磨分散装置
198. 石材研磨机的研磨头
199. 振动滚筒研磨机以及使用该研磨机的滚筒研磨方法
200. 用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物
201. 玻璃基板用研磨液组合物
202. 硅晶片研磨装置及其保持组件、硅晶片平整度校正方法
203. 研磨方法
204. 小闪光场、零偏置和非反应离子研磨的集成
205. 研磨磨具及其制造方法
206. 硬盘基板用研磨液组合物
207. 研磨器
208. 单片式研磨片的连续生产方法及装置
209. 高尔夫球杆头和表面研磨加工工具及其上形成图案的方法
210. 半导体基板用研磨液组合物
211. 研磨式粉末容器
212. 在盖板梳理机或罗拉粗梳机中用于研磨被牵引在转辊上的针布的设备
213. 基于磁流变效应的研磨抛光方法及其抛光装置
214. 用于构图电流垂直平面磁致电阻器件的双研磨工艺
215. 单片式研磨片的连续生产方法及装置
216. 圆片研磨切割方法
217. 用于钢丝锯割的方法、设备和研磨液
218. 可控成分结构具有三维排列磨粒的研磨和切割工具的制造方法
219. 研磨液组合物
220. 研磨纺纱皮辊皮壳用的装置
221. 一种圆形晶片斜面研磨和抛光方法
222. 研磨用组合物
223. 化学研磨装置及其玻璃基板
224. 激光加工机的激光嘴研磨装置
225. 具有研磨装置的可折叠刀具 

负责声明：我们只提供专利技术资料的检索服务，不代表任何权利的转让。本站也不销售任何相关产品和设备，暂时也不提供市场方面的信息服务。我站提供的专利技术全文资料仅供用于对行业技术先进性的了解、科学研究或实验。根据中国《专利法》第六十三条第四款：专为科学研究和实验而使用有关专利的，不视为侵犯专利权。用户若因此之外一切行为造成法律冲突或纠纷，本网概不负责！