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1. 激光等离子EUV光源、靶材构件、胶带构件、靶材构件的制造方法、靶材的提供方法以及EUV
2. 铝系合金靶材的制造方法及用该方法得到的铝系合金靶材
3. TFT LCD电极薄膜制备所用的靶材及靶材和电极薄膜制备方法
4. TFT LCD电极薄膜制备所用的靶材及靶材和电极薄膜制备方法
5. 靶材以及该靶材所制造的薄膜
6. 用于热等静压法制备靶材的包套及制备靶材的方法
7. 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
8. 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
9. 一种磁光盘记录介质靶材制造方法
10. 金属氧化物薄膜用靶子材料及其制法、以及金属氧化物薄膜的制法
11. 含混合稀土元素高阻溅射靶材
12. 制备溅射靶材料的方法
13. 铝合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法
14. 高密度铟锡氧化物靶材及其制造方法
15. 用于制备透明导电薄膜的锌铝氧化物靶材
16. 磁光记录靶材及其生产工艺
17. 以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的方法
18. 金属溅镀靶材的制造方法
19. 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
20. 溅射靶材和透明导电薄膜
21. 铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材
22. 用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法
23. 溅射靶材
24. 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
25. 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
26. 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用
27. 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
28. 导电薄膜用的合金靶材及制作方法
29. 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
30. 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极及其溅射方法
31. 氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法
32. 光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材
33. 高密度ITO靶材及其制造方法
34. 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
35. 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
36. 一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法
37. 使用高电阻硅化物靶材生长硅化物的工艺
38. 锌铝氧化物陶瓷靶材表面背铟方法
39. 从铟锡氧化物废靶材中回收铟的方法
40. 铟锡氧化物靶材的制备方法
41. Ag合金膜以及Ag合金膜形成用喷溅靶材
42. 溅射靶材
43. 光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质
44. 金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
45. 合金靶材磁控溅射法制备CoSi*薄膜的方法
46. 银合金、其溅射靶材料及其薄膜
47. 靶材料及其在溅射过程中的应用
48. 高完整性溅射靶材以及其批量制造方法
49. 采用钛与铝材料的混合物涂覆的衬底,制备该衬底的方法和钛与铝金属的阴极靶材
50. 溅射式镀膜机用靶材结构
51. 具有改进表面结构的溅射靶材
52. 溅射金刚石靶材及其制造方法
53. 溅射靶材
54. 铝类靶材及其制造方法
55. 导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法
56. 半反射膜或反射膜，光学信息记录介质和溅射靶材
57. 钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法
58. 溅射靶材料及其生产方法
59. 制备Mo合金制靶材料的方法
60. 一种以适配体作为分子识别元件的碳纳米管晶体管生物传感器及其用于检测靶材料的方法
61. 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
62. 一种用于可转动靶材溅射设备的端块
63. 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
64. 溅射靶用靶材的制造方法
65. 对向靶材式溅镀装置
66. 溅镀靶材
67. 一种多元素溅射靶材结构
68. 真空离子溅镀靶材
69. 一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构
70. 真空镀膜机用成型镀膜靶材
71. 溅镀靶材牌的电子束焊接
72. 具有互补斜边以于其间形成倾斜间隙的多靶材牌
73. 用于改进的磁性层的溅射靶材料
74. 氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
75. 一种制备溅射靶材料的方法
76. 静电纺丝法制备低密度多孔二氧化锡纳米纤维激光靶材料
77. 一种含有掺杂剂元素的石墨靶材的制备方法
78. 垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法
79. 溅射靶、溅射靶材及其制造方法
80. 于激光处理期间的即时的靶材表面轮廓追踪
81. SiOx:Si溅射靶材及其制造及使用方法
82. 金属靶材与靶托的连接方法
83. 一种金属靶材与靶托的连接方法
84. 金属双层结构体及其制造方法以及使用该方法的溅射靶材的再生方法
85. 具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器
86. 等离子体溅射靶材装置及其制造方法
87. 用于衬底处理室的处理配件和靶材
88. 溅镀靶材
89. 盘状磁性靶材PTF的测试装置
90. 溅镀靶材的制造方法
91. 一种制造溅射靶材的挤压模锻挤压模具
92. 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料
93. 用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件
94. 利用粉末状靶材制备碲化铋薄膜的单靶溅射方法
95. 绝缘性靶材及其制造方法、绝缘性复合氧化膜及装置
96. 绝缘性靶材及其制造方法、导电性复合氧化膜及设备
97. 多层膜金属化的靶材
98. 一种制造溅射靶材的模锻工艺及其模锻挤压模具
99. 电子镖靶线材导引结构
100. 电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材
101. 半导体装置、其制造方法以及用于该制造方法的溅射用靶材
102. 一种具有多元靶材的溅镀靶
103. 含贵金属溅镀靶材的制作方法
104. 透明导电薄膜制备所用的靶材及导电薄膜和电极制造方法
105. 缺陷修补装置及靶材结构
106. 复合型相变化记录薄膜以及用以制造该薄膜的靶材与方法
107. 溅镀靶材的制造方法
108. 导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法
109. 一种钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法
110. 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶
111. 一种Li掺杂ZnO陶瓷靶材制备工艺
112. 制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺
113. 一种LaGaO*基固体电解质靶材的制备方法
114. Co—Fe—Zr系合金溅射靶材及其制造方法
115. PVD用筒状靶材
116. Fe-Co系靶材及其制造方法
117. 一种p型半导体掺镍氧化铜靶材及其制备方法
118. 一种贵金属靶材的修复方法
119. 铜铟镓硒或铜铟铝硒太阳能电池吸收层靶材及其制备方法
120. 热等静压法生产ITO靶材的方法
121. 一种溅射镀膜用高硅含量硅铝合金靶材及其制备方法
122. 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极
123. 高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
124. 一种纳米均相ITO粉制备ITO靶材的方法
125. 多孔叠层金属或合金溅射靶材的制备方法
126. 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法
127. 一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺
128. 氧化锌类的非晶质薄膜用溅射靶材及其制造方法
129. 可均匀镀膜的靶材装置
130. 一种氧化铟锡靶材的生产方法
131. 一种制备超细晶粒高纯度金属镍靶材的方法
132. 一种大功率X线管用WMo石墨复合阳极靶材的制备方法
133. 高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
134. 一种大面积靶材的压力焊接方法
135. 太阳能电池铜铟镓硒薄膜关键靶材及其制备方法